一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法技术

本发明专利技术公开了一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法，所述的测量方法在光刻机上进行，所述光刻机包括光源、空间光调制器、第一透镜、分光镜、相机、第二透镜、第三透镜和载物台；所述的测量方法包括：S1.调节样品与第三透镜之间的位置；S2.空间光调制器上显示一系列条纹结构图；相机拍摄一系列待测样品图像；S3.计算得到一张调制度图；S4.第三透镜向下移动一个固定间距d并重复S3；S5.n1次重复S4；S6.对这n1张调制度图进行处理，得到样品表面微观轮廓图。本发明专利技术提供一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法，利用无掩模光刻机的现有硬件，实现光刻样品的三维形貌测量，使光刻机能够同时实现光刻和三维检测的复合功能。

【技术实现步骤摘要】
一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法
本专利技术属于三维轮廓测量
，特别涉及一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法。
技术介绍
无掩模光刻机是一种通过空间光调制器产生光刻图案的投影光刻机。它和常规光刻机的区别是，常规光刻机需要掩模板来确定光刻图案，通过精密光刻镜头将掩模板图案投影微缩到基板的光刻胶上。这种光刻机精度高，适合固定图案大批量生产，但缺点是需要掩模板，价格贵，周期长。无掩模光刻机将需要生成的图案加载到空间光调制器上，再通过光刻镜头将空间光调制器的图案微缩到基板上的光刻胶上。无掩模光刻机的优点是：空间光调制器可以通过编程改变其图案内容，这样当图案内容需要调整时，只需要通过编程即可完成。无掩模光刻机工作方式：光源模块在空间光调制器有效区域内产生均匀的照明光,空间光调制器上加载的图案经过中间镜组，经过分光镜反射，通过光刻第三透镜成像在样品表面上的光刻胶上,形成光刻胶的曝光，从而把空间光调制器上的图案转移到样品表面胶层上。在光刻机工作时，需要确保样品表面位于第三透镜的焦面上，因此，光刻机需要高精度纵向扫描机构来微调第三透镜和样品之间的间隙。光刻机工作时，为了确认样品本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法，其特征在于：所述的测量方法在光刻机上进行，所述光刻机包括沿光轴方向依次设置的光源、空间光调制器、第一透镜和与光轴方向具有一定夹角的分光镜，以及在垂直于光轴方向且远离光源的一侧自上而下依次设置的相机、第二透镜、第三透镜和载物台，所述载物台用于放置样品，所述分光镜位于所述第二透镜和第三透镜之间，所述第三透镜连接有纵向扫描机构，所述纵向扫描机构用于纵向调节第三透镜的高度；所述的测量方法按照如下步骤进行：S1.将样品放至载物台上且位于第三透镜的焦面附近；通过相机拍摄的图案来控制纵向扫描机构微调第三透镜的高度，并使得第三透镜的焦面位于样品微观轮廓最高点的上...

【技术特征摘要】
1.一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法，其特征在于：所述的测量方法在光刻机上进行，所述光刻机包括沿光轴方向依次设置的光源、空间光调制器、第一透镜和与光轴方向具有一定夹角的分光镜，以及在垂直于光轴方向且远离光源的一侧自上而下依次设置的相机、第二透镜、第三透镜和载物台，所述载物台用于放置样品，所述分光镜位于所述第二透镜和第三透镜之间，所述第三透镜连接有纵向扫描机构，所述纵向扫描机构用于纵向调节第三透镜的高度；所述的测量方法按照如下步骤进行：S1.将样品放至载物台上且位于第三透镜的焦面附近；通过相机拍摄的图案来控制纵向扫描机构微调第三透镜的高度，并使得第三透镜的焦面位于样品微观轮廓最高点的上方且与微观轮廓最高点之间具有预定距离；S2.光源模块均匀照射空间光调制器；在空间光调制器上依次显示一系列预先编程好的条纹结构图案，该条纹结构图案经过第一透镜，分光镜反射，最后通过第三透镜照射在样品表面上；该条纹结构图案经过光源照射至样品表面的图像经第三透镜、分光镜和第二透镜后成像在相机上，相机采集一系列样品微观图像；S3.对S2中的一系列图片进行图像处理，计算出一张调制度图；S4.纵向扫描机构精确控制第三透镜向下移动一个固定间距，即向样品表面移动固定间距并在此位置重复S...

【专利技术属性】
技术研发人员：万新军，解树平，宋可，宾博逸，吕宋，陶雪辰，苏程程，陈红豆，
申请(专利权)人：苏州瑞霏光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32