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本发明公开了一种基于无掩模光刻机的三维轮廓显微测量方法，所述的测量方法在光刻机上进行，所述光刻机包括光源、空间光调制器、第一透镜、分光镜、相机、第二透镜、第三透镜和载物台；所述的测量方法包括：S1.调节样品与第三透镜之间的位置；S2.空间光...
该专利属于苏州瑞霏光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州瑞霏光电科技有限公司授权不得商用。

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