一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法及CMP抛光垫技术

本发明专利技术公开了一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法，包括对基材雕刻沟槽和一个放置窗口材料的窗口孔洞，然后将基材和衬底通过背胶贴合，再用衬底冲压模具在基材的窗口孔洞位置将衬底冲压出一个衬底孔洞，同时形成窗口支撑块，再用冲压机和窗口材料冲压模具对窗口材料进行冲压，得到成型的窗口材料，之后在窗口支撑块上涂抹一层底涂剂，最后将成型的窗口材料放在窗口孔洞位置，贴于窗口支撑块上；及一种利用此法制备的CMP抛光垫。相较于切片一体化窗口，该后期贴合窗口的方式，使得在制造过程中材料之间不会相互影响，可以解决固化后基材的密度分布不均匀的问题，降低由于温度不均匀而导致拉伸强度的波动，还可有效的降低基材报废率，节约生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法及CMP抛光垫
本专利技术涉及抛光垫领域，尤其涉及一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法及CMP抛光垫。
技术介绍
CMP，即ChemicalMechanicalPolishing，化学机械抛光。CMP基本原理是：将旋转的被抛光晶片压在与其同方向旋转的弹性抛光垫上，而抛光浆料在晶片与底板之间连续流动。上下盘高速反向运转，被抛光晶片表面的反应产物被不断地剥离，新抛光浆料补充进来，反应产物随抛光浆料带走。新裸露的晶片平面又发生化学反应，产物再被剥离下来而循环往复，在衬底、磨粒和化学反应剂的联合作用下，形成超精表面。CMP抛光垫作为CMP过程的消耗品，在使用过程中需要一个可以计数、定位用的透明窗口,以精准的控制抛光的厚度。一个完整的抛光垫从上到下的组成是基材、背胶、衬底，基材就是与晶圆接触的部分，主要起磨抛作用，背胶将基材和衬底贴合在一起，衬底主要起支撑作用。为了保证抛光液在基材充分作用时间，通常会在基材雕刻出沟槽以贮存抛光液。同时，基材自身的空隙也会贮存抛光液和磨粒，增加磨粒与晶圆的接触时间和面积。目前市场上通用的是一种由美国Dow生产的切片一体化窗口抛本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法,其特征在于，包括以下步骤：(1)取基材(1)并对基材(1)雕刻沟槽(6)；(2)取衬底(4)并在衬底(4)底部贴一层背胶B(9)；(3)在雕刻沟槽(6)的基材(1)上雕刻出一个放置窗口材料(8)的窗口孔洞(2)；(4)将雕刻了窗口孔洞(2)的基材(1)和贴了背胶B(9)的衬底(4)通过背胶A(3)贴合，再用衬底冲压模具在基材(1)的窗口孔洞(2)位置将衬底(4)冲压出一个衬底孔洞(5)，同时在窗口孔洞(2)的底部两侧形成两个窗口支撑块(7)；(5)另取窗口材料并用冲压机和窗口材料冲压模具对窗口材料进行冲压，得到成型的窗口材料(8)；(6)在窗口支撑块(...

【技术特征摘要】
1.一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法,其特征在于，包括以下步骤：(1)取基材(1)并对基材(1)雕刻沟槽(6)；(2)取衬底(4)并在衬底(4)底部贴一层背胶B(9)；(3)在雕刻沟槽(6)的基材(1)上雕刻出一个放置窗口材料(8)的窗口孔洞(2)；(4)将雕刻了窗口孔洞(2)的基材(1)和贴了背胶B(9)的衬底(4)通过背胶A(3)贴合，再用衬底冲压模具在基材(1)的窗口孔洞(2)位置将衬底(4)冲压出一个衬底孔洞(5)，同时在窗口孔洞(2)的底部两侧形成两个窗口支撑块(7)；(5)另取窗口材料并用冲压机和窗口材料冲压模具对窗口材料进行冲压，得到成型的窗口材料(8)；(6)在窗口支撑块(7)上涂抹一层底涂剂；(7)将成型的窗口材料(8)放在窗口孔洞(2)位置，贴于窗口支撑块(7)上，得到CMP抛光垫。2.根据权利要求1所述的一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法，其特征在于，所述窗口孔洞(2)形状为椭圆形，长边35～41mm，圆弧半径8.6～10.6mm，窗口中心距离基材(1)圆心98.5～104.5mm。3.根据权利要求2所述的一种分体式窗口CMP抛光垫的制备方法，其特征在于，所述窗口孔洞(2)长边38mm，圆弧半径9.5mm，窗口中心距离基材(1)圆心10...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋思琪，
申请(专利权)人：成都时代立夫科技有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51