一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具技术

技术编号:18773766 阅读:49 留言:0更新日期:2018-08-29 03:31
本发明专利技术提供了一种化学机械抛光垫的制造方法,和其制造的带有终点检测窗口的化学机械抛光垫,及配合使用的单片或多片组合式浇注模具。本工艺中,将成型好且为固体的终点检测窗口利用一次性一体化浇注成型工艺包埋嵌合于化学机械抛光垫抛光层中,从而直接制得牢固粘结有窗口的抛光层抛光层。利用单片或多片组合式浇注模具,对每片带窗口的抛光层的浇注工艺参数控制精确,所得产品抛光垫本体具有优异的密度分布、空穴率和空穴大小的均匀性,进而取得了抛光垫整体的工艺和质量稳定性。所得产品的窗口与抛光层本体的接触面在物理和化学的双重作用下进行粘合,粘合效果极佳,消除了使用过程中接触面裂缝而致的渗漏现象。因此,具有显著的实际推广价值。

【技术实现步骤摘要】
一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具
本专利技术涉及化学机械抛光领域,具体涉及一种化学机械抛光垫的制造方法及其产品和模具。
技术介绍
随着半导体制程工艺的不断升级,光刻技术对圆晶表面的平坦化程度的要求越来越高。化学机械抛光技术,也称作化学机械平坦化技术,作为目前晶圆集成电路加工中唯一能够实现表面全局平坦化的技术,在圆晶的表面处理过程中起到了关键性的作用。化学机械抛光垫作为化学机械抛光技术中的重要耗材,其作用如下:把抛光液有效均匀地输送到抛光垫的不同区域;将抛光后便化学反应充分进行的反应物、碎屑等顺利排出,达到去除效果;维持抛光垫表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的晶片表面形貌。因此,其密度、硬度、压缩比、涵养量、表面粗糙度、孔洞尺寸大小等直接影响到半导体圆晶的加工成品质量。目前,化学机械抛光垫按其抛光层的材质分,主要分为聚氨酯抛光垫、无纺布抛光垫、复合型抛光垫等。聚氨酯抛光垫因其优异的性能,被广泛用于化学机械抛光领域。通常,聚氨酯抛光垫可以采用浇注工艺进行制备,即将聚氨酯预聚体和辅料组分通过浇注机浇注至模具中进行成型。这里的浇注本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于:所述制造方法为一次性一体化浇注成型工艺;所述一次性一体浇注成型工艺包括以下步骤:(1)按所需形状和尺寸将耐浇注温度、光学透明的且为固体的窗口材料经机加工得到终点检测窗口;(2)将所得终点检测窗口固定在抛光垫抛光层浇注模具型腔内的设计固定位置处;(3)合模后向模具型腔内浇注入抛光层浇注料,并在一定的固化温度条件下保持一段时间;(4)降温脱模得到镶嵌粘接固定有终点检测窗口的抛光垫抛光层;(5)所得抛光层与按抛光垫设计要求开有通孔的衬底层粘接贴合后得到带终点检测窗口的化学机械抛光垫。

【技术特征摘要】
1.一种化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于:所述制造方法为一次性一体化浇注成型工艺;所述一次性一体浇注成型工艺包括以下步骤:(1)按所需形状和尺寸将耐浇注温度、光学透明的且为固体的窗口材料经机加工得到终点检测窗口;(2)将所得终点检测窗口固定在抛光垫抛光层浇注模具型腔内的设计固定位置处;(3)合模后向模具型腔内浇注入抛光层浇注料,并在一定的固化温度条件下保持一段时间;(4)降温脱模得到镶嵌粘接固定有终点检测窗口的抛光垫抛光层;(5)所得抛光层与按抛光垫设计要求开有通孔的衬底层粘接贴合后得到带终点检测窗口的化学机械抛光垫。2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于,步骤(2)中将终点检测窗口固定在模具型腔内的方法为:以采用依靠窗口厚度与模具型腔厚度之间的设计差异在模具合模后型腔壁对窗口的压力进行固定。3.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于,步骤(2)中将终点检测窗口固定在模具型腔内的方法为:在型腔壁的设计固定位置处铣出与窗口的形状和大小相匹配、有一定深度的凹槽,然后将窗口置入凹槽中进行固定。4.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于,步骤(2)中将终点检测窗口固定在模具型腔内的方法为:使用具有耐浇注温度的双面胶带将窗口材料的一侧或者双侧粘结固定模具...

【专利技术属性】
技术研发人员:相红旗
申请(专利权)人:成都时代立夫科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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