掩膜板、显示基板、显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种掩膜板、显示基板、显示装置，涉及掩膜板技术领域，为解决在对显示器件封装的过程中，由于产生的Under Coating的厚度较厚，导致显示器件的封装效果受到影响的问题。所述掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧上设置有凸起的挡块结构。本实用新型专利技术提供的掩膜板用于封装显示器件。

【技术实现步骤摘要】
掩膜板、显示基板、显示装置
本技术涉及掩膜板
，尤其涉及一种掩膜板、显示基板、显示装置。
技术介绍
随着显示技术的不断发展，有机发光二极管(英文：OrganicLight-EmittingDiode，以下简称OLED)显示器件以其自发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，逐渐受到人们的广泛的关注。这种OLED显示器件采用较薄的有机材料涂层和玻璃基板制作，当有电流通过时，OLED显示器件中的有机材料就会发光，从而实现OLED显示器件的显示功能。由于OLED显示器件中的有机材料容易与空气中的水和氧气发生反应，为了保证OLED显示器件的使用寿命，对OLED显示器件的封装技术逐渐成为了研究热点。传统的制作OLED显示器件的方式，主要是先形成包括多个OLED显示器件的母板，然后对OLED显示器件的母板整体进行封装，在完成封装后，再对封装好的OLED显示器件的母板进行切割，形成封装好的独立的OLED显示器件。目前，在对OLED显示器件的母板进行封装时，一般利用与母板相匹配的掩膜板与母板对位，通过掩膜板来限制母板中包括的各OLED显示器件的封装边界，然后通过化学气相沉积法(英文：ChemicalVaporDeposition，简称CVD)在母板上与掩膜板的开口区对应的区域沉积封装材料，以实现对OLED显示器件的封装。然而在实际沉积的过程中发现，在母板上由掩膜板的非开口区遮住的部分依然沉积上了封装材料，这部分封装材料被称为较低的涂层(以下简称：UnderCoating)，UnderCoating的覆盖范围从掩膜板的开口处的边缘开始，一直延伸至与该开口对应的OLED显示器件的边缘，且从开口处的边缘至OLED显示器件的边缘，UnderCoating的厚度逐渐减薄。在完成对母板的封装后，一般利用激光对母板进行切割，而在切割的过程中，UnderCoating在OLED显示器件的边缘处的厚度会对切割操作的良率产生影响，具体地，当UnderCoating在OLED显示器件的边缘处的厚度太厚时，切割操作容易使得UnderCoating中产生裂纹，而该裂纹容易进一步扩展进入OLED显示器件的显示区，导致影响OLED显示器件的使用寿命。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种掩膜板、显示基板、显示装置，用于解决在对显示器件封装的过程中，由于产生的UnderCoating的厚度较厚，导致显示器件的封装效果受到影响的问题。为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：本技术的第一方面提供一种掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；其特征在于，所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构。进一步地，所述挡块结构包括多个相互独立的挡块图形，所述挡块图形与所述开口区一一对应，每一所述挡块图形包围对应的所述开口区。进一步地，所述挡块图形位于所述掩膜条靠近所述开口区的边缘。进一步地，所述挡块图形在垂直于所述掩膜框架所在平面的方向上的厚度在20um-60um之间。进一步地，所述挡块图形包括金属挡块图形。进一步地，所述挡块图形在垂直于所述掩膜条延伸方向上的截面包括梯形或矩形。基于上述显示基板的封装方法的技术方案，本技术的第二方面提供一种显示基板，利用上述掩膜板封装得到。基于上述显示基板的技术方案，本技术的第三方面提供一种显示装置，包括上述显示基板。本技术提供的技术方案中，在用于限定开口区的掩膜条上形成了凸起的挡块结构，该挡块结构能够限定在待形成膜层的基板中，由掩膜板的非开口区遮住的部分上形成的膜层的厚度和覆盖范围，因此在将本技术提供的掩膜板应用在制作封装层图案中时，该挡块结构能够限定形成的UnderCoating的厚度，以及UnderCoating的覆盖范围，使得在后续对显示器件的母板进行切割时，UnderCoating中不易产生裂纹，从而保证了显示器件的封装效果，而且，由于UnderCoating的厚度较薄，可进一步设置显示器件具有较窄的边框宽度，从而满足超窄边框的设计需求。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1为利用现有技术中的掩膜板进行封装工艺的示意图；图2为本技术实施例提供的掩膜板的示意图；图3为利用本技术实施例提供的掩膜板进行封装工艺的示意图；图4为本技术实施例提供的掩膜板中的挡块图形的示意图；图5a-图5f为本技术实施例提供的挡块结构的制作流程图。附图标记：1-掩膜板，10-掩膜框架，11-掩膜条，12-开口区，13-封装层图案，14-挡块结构，141-挡块图形，15-UnderCoating，2-显示器件的母板，3-光刻胶，4-挡块形成区域，5-电镀池，6-直流电源，7-掩膜板本体，8-电镀靶，91-第一方向，92-第二方向。具体实施方式为了进一步说明本技术实施例提供的掩膜板、显示基板、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。如
技术介绍
所述，请参阅图1，现有技术中在对显示器件进行封装时，在显示器件的母板2上由掩膜板1的非开口区遮住的部分会形成UnderCoating15，且UnderCoating15的覆盖范围从掩膜板1的开口处的边缘开始，一直延伸至与该开口对应的显示器件的边缘，且从开口处的边缘至显示器件的边缘，UnderCoating15的厚度逐渐减薄；一旦UnderCoating15在显示器件的边缘处的厚度太厚时，在进行激光切割时，容易使得UnderCoating15中产生裂纹，而该裂纹容易进一步扩展进入显示器件的显示区，导致影响显示器件的使用寿命。为了解决上述问题，传统的解决方法一般是在进行显示器件的边框设计时，设置较宽的边框，以保障UnderCoating15在到达显示器件的边缘时已经减薄到了一定程度，这样在后续的切割工艺中，就能够很好的避免裂纹的产生，从而保证了显示器件的使用寿命。但是由于上述传统的解决方法中需要设置较宽的边框，无法满足显示器件的超窄边框的设计，因此，如何在满足超窄边框的设计的同时，减小、减薄UnderCoating15成为亟需解决的问题。基于上述问题的存在，如图2和图3所示，本技术实施例提供了一种掩膜板，该掩膜板包括掩膜框架10和设置在掩膜框架10上的多个掩膜条11，多个掩膜条11包括沿第一方向91延伸的第一掩膜条和沿第二方向92延伸的第二掩膜条，第一掩膜条和第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区12，开口区12用于形成膜层图案；掩膜条11朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构14。具体地，上述掩膜板的具体结构多种多样，下面举例一种具体的掩膜板结构，并对其应用方法进行详细说明。例如：在上述掩膜板中，多个掩膜条11为一体的结构，掩膜框架10围成矩形形状的区域，设置在掩模框架上的多个掩膜条11横纵交错设置(例如：第一掩膜条可选为沿水平方向延伸，第二掩膜条可选为沿与水平方向垂直的方向延伸)，能够在矩形形状的区域内限定本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；其特征在于，所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，包括掩膜框架和设置在所述掩膜框架上的多个掩膜条，所述掩膜条包括沿第一方向延伸的第一掩膜条和沿第二方向延伸的第二掩膜条，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条交叉设置并限定出多个开口区，所述开口区用于形成膜层图案；其特征在于，所述掩膜条朝向待形成的膜层一侧设置有凸起的挡块结构。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述挡块结构包括多个相互独立的挡块图形，所述挡块图形与所述开口区一一对应，每一所述挡块图形包围对应的所述开口区。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王世龙，蒋志亮，宋丽，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11