掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，掩模板包括对应显示基板的封装区域的开口，所述掩模板还包括设置在所述开口周边的凹槽。通过本发明专利技术的技术方案，能够提高显示装置的良率。

Mask and its making method, display panel, encapsulation method and display device thereof

The invention provides a mask and its manufacturing method, a display panel, a packaging method and a display device, belonging to the display technical field. The mask includes an opening corresponding to the packaging area of the display substrate, and the mask also includes a groove disposed around the opening. By adopting the technical proposal of the invention, the yield of the display device can be improved.

【技术实现步骤摘要】
掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是指一种掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置。
技术介绍
现有技术中，在制作完OLED显示基板后，需要对OLED显示基板进行封装，在对OLED显示基板进行封装时，在OLED显示基板上交替形成无机薄膜和有机薄膜。其中，通常通过CVD(ChemicalVaporDeposition，化学气相沉积)工艺在OLED显示基板上形成无机薄膜。CVD工艺所使用的掩模板一般采用金属制成，在制备无机薄膜时，由于掩模板的面积较大以及自身重力作用，掩模板的中心部分将下垂与OLED显示基板接触，而掩模板的边缘与OLED显示基板之间存在一定间隙，越靠近掩模板边缘，掩模板与OLED显示基板之间的间隙越大。通常掩模板包括多个开口，每一开口对应一OLED显示基板的封装区域，理想状态下，封装区域之间的区域应未形成无机薄膜。但由于掩模板与OLED显示基板之间存在的间隙，会导致无机材料沉积在相邻封装区域之间形成一层很薄的无机薄膜，由于该区域无机薄膜的厚度很小，因此容易破碎产生裂纹，而该裂纹将延伸至封装区域的无机薄膜，导致封装区域的无机薄膜也产生裂纹，进而影响OLED显示基板的封装信赖性，导致显示装置的良率降低。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置，能够提高显示装置的良率。为解决上述技术问题，本专利技术的实施例提供技术方案如下：一方面，提供一种掩模板，包括对应显示基板的封装区域的开口，所述掩模板还包括设置在所述开口周边的凹槽。进一步地，所述掩模板包括包围所述开口的至少一圈凹槽。进一步地，所述凹槽在垂直于自身延伸方向上的截面为以下至少一种形状：半椭圆形、多边形、三角形和矩形。进一步地，所述凹槽靠近所述开口的边缘与所述开口靠近所述凹槽的边缘之间的垂直距离为0.3mm-1mm。进一步地，所述凹槽的最大深度为所述掩模板的厚度的40％-70％。进一步地，所述凹槽在垂直于自身延伸方向上的截面的长度L＝(1+D/800)*0.5，其中，D为所述凹槽的中心点与所述掩模板的中心点之间的距离。本专利技术实施例还提供了一种掩模板的制作方法，所述制作方法包括：提供一掩模板本体；对所述掩模板本体进行刻蚀，形成对应显示基板的封装区域的开口，并形成位于所述开口周边的凹槽。进一步地，所述制作方法具体包括：在所述掩模板本体上涂覆光刻胶；对所述光刻胶进行曝光，形成光刻胶完全保留区域、光刻胶去除区域和光刻胶部分保留区域；对光刻胶去除区域的掩模板本体进行刻蚀，形成所述开口；灰化掉所述光刻胶完全保留区域的光刻胶，对所述光刻胶完全保留区域的掩模板本体进行刻蚀，形成所述凹槽；剥离光刻胶完全保留区域的光刻胶。本专利技术实施例还提供了一种显示面板的封装方法，在对所述显示面板包括的显示基板进行封装时，利用如上所述的掩模板制备覆盖所述显示基板的无机薄膜。本专利技术实施例还提供了一种显示面板，采用如上所述的封装方法封装得到。本专利技术实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的显示面板。本专利技术的实施例具有以下有益效果：上述方案中，掩模板包括对应显示基板的封装区域的开口，掩模板还包括设置在开口周边的凹槽，这样在利用掩模板在显示基板上制备无机薄膜时，在张紧掩模板后，掩模板开口边缘与凹槽边缘之间的部分在自身张力作用下会下垂与显示基板更好地贴合，贴合的掩模板部分可以遮挡无机材料，避免在显示基板封装区域之间的区域沉积无机材料，因此能够提高显示基板的封装信赖性，保证显示装置的良率。附图说明图1为现有技术对显示基板进行封装时，掩模板与显示基板的贴合情况示意图；图2为现有技术中的掩模板的结构示意图；图3为本专利技术实施例掩模板的结构示意图；图4为图3所示虚线框部分在AA’方向上的截面示意图；图5为本专利技术实施例掩模板张紧后的示意图。附图标记1显示基板2掩模板21开口22凹槽具体实施方式为使本专利技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。图1为现有技术对显示基板1进行封装时，掩模板2与显示基板1的贴合情况示意图，图2为现有技术中的掩模板2的结构示意图，掩模板2包括有多个开口21，每个开口21用以在对应的封装区域形成无机薄膜。掩模板2一般采用金属制成，在制备无机薄膜时，为了避免掩模板2压到显示基板1上对显示基板1造成损伤，掩模板2与显示基板1之间相距一定距离。由于掩模板2的面积较大以及自身重力作用，如图1所示，掩模板2的中心部分将下垂与显示基板1接触，而掩模板2的边缘与显示基板1之间存在一定间隙，越靠近掩模板2边缘，掩模板2与显示基板1之间的间隙越大。掩模板2的每一开口21对应一显示基板的封装区域，理想状态下，封装区域之间的区域应未形成无机薄膜。但由于掩模板2与显示基板1之间存在的间隙，会导致无机材料沉积在相邻封装区域之间形成一层很薄的无机薄膜，由于该区域无机薄膜的厚度很小，因此容易破碎产生裂纹，而该裂纹将延伸至封装区域的无机薄膜，导致封装区域的无机薄膜也产生裂纹，进而影响显示基板的封装信赖性，导致显示装置的良率降低。为了解决上述问题，本专利技术的实施例提供一种掩模板及其制作方法、显示面板及其封装方法、显示装置，能够提高显示装置的良率。本专利技术实施例提供一种掩模板2，如图3和图4所示，所述掩模板2包括对应显示基板的封装区域的开口21，所述掩模板2还包括设置在所述开口21周边的凹槽22。本实施例中，掩模板包括对应显示基板的封装区域的开口，掩模板还包括设置在开口周边的凹槽，这样在利用掩模板在显示基板上制备无机薄膜时，在张紧掩模板后，掩模板开口边缘与凹槽边缘之间的部分在自身张力作用下会下垂与显示基板更好地贴合，贴合的掩模板部分可以遮挡无机材料，避免在显示基板封装区域之间的区域沉积无机材料，因此能够提高显示基板的封装信赖性，保证显示装置的良率；并且凹槽部分不会与显示基板相接触，避免对显示基板造成损伤。本实施例中，凹槽22设置在开口21周边，凹槽22可以为连续的也可以为间断分布的，优选地，如图3所示，凹槽22包围开口21，掩模板2可以包括一圈或者多圈包围开口21的凹槽22，在凹槽22包围开口21时，可以保证掩模板开口21周围的部分均能与显示基板更好地贴合，可以使得显示基板封装区域的周边都不会沉积无机材料，更好地提高OLED显示基板的封装信赖性，保证显示装置的良率。具体地，所述凹槽22在垂直于自身延伸方向上的截面为以下至少一种形状：半椭圆形、多边形、三角形和矩形，当然，凹槽22在垂直于自身延伸方向上的截面并不局限于以上形状，还可以为其他形状，比如不规则形状等等。如果凹槽22靠近所述开口21的边缘与所述开口21靠近所述凹槽22的边缘之间的垂直距离过大，会导致相邻封装区域之间未预留足够多的空间，如果凹槽22靠近所述开口21的边缘与所述开口21靠近所述凹槽22的边缘之间的垂直距离过小，会影响封装区域无机材料的沉积，优选地，凹槽22靠近所述开口21的边缘与所述开口21靠近所述凹槽22的边缘之间的垂直距离为0.3mm-1mm，在凹槽22靠近所述开口21的边缘与所述开口21靠近所述凹槽22的边缘之间的垂直距离为上述取值范围时，既能够在相邻封装区域之间预留足够多的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩模板，包括对应显示基板的封装区域的开口，其特征在于，所述掩模板还包括设置在所述开口周边的凹槽。

【技术特征摘要】
1.一种掩模板，包括对应显示基板的封装区域的开口，其特征在于，所述掩模板还包括设置在所述开口周边的凹槽。2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板包括包围所述开口的至少一圈凹槽。3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽在垂直于自身延伸方向上的截面为以下至少一种形状：半椭圆形、多边形、三角形和矩形。4.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽靠近所述开口的边缘与所述开口靠近所述凹槽的边缘之间的垂直距离为0.3mm-1mm。5.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽的最大深度为所述掩模板的厚度的40％-70％。6.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹槽在垂直于自身延伸方向上的截面的长度L＝(1+D/800)*0.5，其中，D为所述凹槽的中心点与所述掩模板的中心点之间的距离。7.一种掩模板的制作方法，其特征在于，所述制作方...

【专利技术属性】
技术研发人员：周桢力，乔梓，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11