【技术实现步骤摘要】
双组份酸性蚀刻液循环再生装置
本专利技术专利适用于印制线路板酸性蚀刻液回收再生
，尤其涉及一种双组份酸性蚀刻液循环再生装置。
技术介绍
全球PCB产业产值占电子元件产业总产值的四分之一以上，是各个电子元件细分产业中比重最大的产业，产业规模达400亿美元。同时，由于其在电子基础产业中的独特地位，已经成为当代电子元件业中最活跃的产业。蚀刻作为PCB制程中的重要工艺，酸性蚀刻液因为具有侧蚀小、速率易于控制和易再生等特点，被广泛应用。在蚀刻过程中，Cu2+与Cu作用生成Cu+，随着蚀刻反应的进行，Cu+数量越来越多，Cu2+减少，蚀刻液蚀刻能力很快下降，为保持稳定蚀刻能力，需加入氧化剂使Cu+尽快转化为Cu2+；同时当蚀刻缸内Cu2+浓度达到一定数值时或者蚀刻缸的溶液超过一定体积时，需要及时排除部分蚀刻液以保证蚀刻工序的正常运转，该排出蚀刻液称之为蚀刻废液。由于蚀刻工序要保持蚀刻设备的负压，蚀刻线需要装配有抽风设备，盐酸属于易挥发酸，会随着抽风而损耗掉一部分。通常1000L的蚀刻液，经过蚀刻工序排除来的蚀刻废液只有850-900L左右，体积损耗大约10-15％左右，...
【技术保护点】
1.一种双组份酸性蚀刻液循环再生装置，包括蚀刻废液储存槽、隔膜电解槽、再生液储存槽、水汽混合器、循环槽及盐酸供给装置，所述隔膜电解槽包括阴极区和阳极区，所述蚀刻废液储存槽与所述隔膜电解槽相连，用于储存蚀刻产线的蚀刻废液，并提供至隔膜电解槽，所述再生液储存槽分别与所述隔膜电解槽和循环槽相连，用于储存隔膜电解槽的再生蚀刻液并提供至循环槽，所述水汽混合器用于将隔膜电解槽的氯气导入至所述循环槽中，所述循环槽用于将所述再生蚀刻液提供至蚀刻生产线，所述双组份酸性蚀刻液循环再生装置还包括氯化铵供给装置，所述氯化铵供给装置包括氯化铵储存槽、泵体及管道。
【技术特征摘要】
1.一种双组份酸性蚀刻液循环再生装置，包括蚀刻废液储存槽、隔膜电解槽、再生液储存槽、水汽混合器、循环槽及盐酸供给装置，所述隔膜电解槽包括阴极区和阳极区，所述蚀刻废液储存槽与所述隔膜电解槽相连，用于储存蚀刻产线的蚀刻废液，并提供至隔膜电解槽，所述再生液储存槽分别与所述隔膜电解槽和循环槽相连，用于储存隔膜电解槽的再生蚀刻液并提供至循环槽，所述水汽混合器用于将隔膜电解槽的氯气导入至所述循环槽中，所述循环槽用于将所述再生蚀刻液提供至蚀刻生产线，所述双组份酸性蚀刻液循环再生装置还包括氯化铵供给装置，所述氯化铵供给装置包括氯化铵储存槽、泵体及管道。2.如权利要求1所述的双组份酸性蚀刻液循环再生装置，其特征在于，所述氯化铵供给装置与所述蚀刻废液储存槽相连通，将氯化铵提供至所述蚀刻废液储存槽。3.如权利要求1所述的双组份酸性蚀刻液循环再生装置，其特征在于，所述氯化铵供给装置与所述再生液...
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