【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚碳酸酯树脂、聚碳酸酯树脂的制造方法、涂敷液、电子照相感光体和电子照相装置
本专利技术涉及聚碳酸酯树脂、聚碳酸酯树脂的制造方法、涂敷液、电子照相感光体和电子照相装置。
技术介绍
聚碳酸酯树脂由于机械性能和透明性等优异,因而适用于各种用途。例如,以3,3’-二甲基-4,4’-二羟基联苯(以下有时也缩写为“OCBP”)为原料制造的聚碳酸酯树脂具有优异的耐磨损性、低透气性和高表面硬度等特征。另外,专利文献1中记载了可以适宜地使用聚碳酸酯树脂作为电子照相感光体。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-51983号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而,使用OCBP作为原料时,OCBP在聚合中的碱条件下与氧反应而转化为醌,所得聚碳酸酯树脂存在着色成黄色~褐色系的问题。发生着色的聚碳酸酯树脂其可适用的用途存在限制,因而也有期望着色少的树脂的呼声。本专利技术的目的为提供一种着色少的聚碳酸酯树脂、该聚碳酸酯树脂的制造方法、以及使用该聚碳酸酯树脂的涂敷液、电子照相感光体和电子照相装置。用于解决问题的手段本专利技术的一个方案涉及的聚碳酸酯树脂具有下述通式(1)所示的结构,固形物的黄色指数(YI)为30以下。【化1】本专利技术的一个方案涉及的聚碳酸酯树脂的制造方法为通过使用碱性水溶液的界面缩聚法来制造本专利技术的一个方案涉及的聚碳酸酯树脂的方法,其中,包括:使单体聚合而得到聚合物的聚合工序、和对由上述聚合工序得到的聚合物进行洗涤的洗涤工序,上述聚合工序中使用的溶剂和上述洗涤工序中使用的溶剂中至少一者的溶剂中的氧浓度为饱和溶解量的五分之一以下。本专利技术的另一方案涉及 ...
【技术保护点】
1.一种聚碳酸酯树脂,其特征在于,所述聚碳酸酯树脂具有下述通式(1)所示的结构,固形物的黄色指数YI为30以下,
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.03.15 JP 2016-0517231.一种聚碳酸酯树脂,其特征在于,所述聚碳酸酯树脂具有下述通式(1)所示的结构,固形物的黄色指数YI为30以下,2.如权利要求1所述的聚碳酸酯树脂,其特征在于,所述聚碳酸酯树脂在四氢呋喃中以10质量%浓度溶解而成的溶液的雾度值为5%以下。3.如权利要求1或权利要求2所述的聚碳酸酯树脂,其特征在于,其包含25摩尔%以上且65摩尔%以下的所述通式(1)所示的结构、和35摩尔%以上且75摩尔%以下的下述通式(2)所示的结构,所述通式(2)中,Ar1为二价芳香族基团,需要说明的是,Ar1并非由3,3’-二甲基-4,4’-联苯酚衍生的二价基团。4.如权利要求3所述的聚碳酸酯树脂,其特征在于,所述通式(2)中的Ar1为下述通式(11)~(13)中任一式所示的二价基团,所述通式(11)~(13)中,R11~R14各自独立地选自氢原子、卤素原子、三氟甲基、碳数为1~12的烷基、取代或未取代的碳数为6~12的芳基、碳数为1~12的烷氧基、和取代或未取代的碳数为6~12的芳氧基,R11~R14可以在一个芳环上加成有多个,此时,多个R11相互为相同基团或不同基团,多个R12相互为相同基团或不同基团,多个R13相互为相同基团或不同基团,多个R14相互为相同基团或不同基团,X11为单键或连接基团,X11为连接基团时的连接基团选自-O-、-S-、-SO-、-SO2-、-CR15R16-、取代或未取代的碳数为5~20的环烷叉基、取代或未取代的碳数为5~20的双环烃二基、取代或未取代的碳数为5~20的三环烃二基、取代或未取代的碳数为2~12的α,ω-亚烷基、取代或未取代的9,9-亚芴基、1,8-薄荷烷二基、2,8-薄荷烷二基、取代或未取代的碳数为6~12的亚芳基、和α,ω-双(聚亚烷基)二甲基甲硅烷基聚二甲基甲硅烷氧基,R15和R16各自独立地选自氢原子、碳数为1~12的烷基、三氟甲基、和取代或未取代的碳数为6~12的芳基。5.如权利要求1至权利要求4中任一项所述的聚碳酸酯树脂,其特征在于,将所述聚碳酸酯树脂中的下述通式(3-1)所示的化合物的相对于所述聚碳酸酯树脂的存在量设为X、将下述通式(3-2)所示的化合物的相对于所述聚碳酸酯树脂的存在量设为Y时,X+20×Y的值为400以下,所述X和Y的单位均为μg/g,所述通式(3-1)和(3-2)中,甲基的位置关系包括顺式体的化合物和反式体的化合物,所述通式(3-2)中,R1和R2各自独立地为甲基或羟基,m1为0或1,m2为0或1,并且m1+m2为1或2。6.一种聚碳酸酯树脂的制造方法,其特征在于,其是通过使用碱性水溶液的界面缩聚法来制造权利要求1至权利要求5中任一项所述的聚碳酸酯树脂的方法,其包括:使单体聚合而得到聚合物的聚合工序、和对由所述聚合工序得到的聚合物...
【专利技术属性】
技术研发人员:平田贤吾,彦坂高明,
申请(专利权)人:出光兴产株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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