一种带加热装置的溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种带加热装置的溅射镀膜装置，其特征在于：在所述溅射源的一侧设置有加热装置，所述加热机构与所述镀膜腔室内部相连通以对所述镀膜腔室内部进行加热。本实用新型专利技术的优点是：在成膜前先进行加热烘烤，可以高温烘烤除水汽，更可以使溅射环境温度稳定，优化膜系；温度达到多层膜溅射工艺过程中的最高温度，使其在除气的同时，保证整个工艺过程温度稳定，从而优化膜系。

【技术实现步骤摘要】
一种带加热装置的溅射镀膜装置
本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种带加热装置的溅射镀膜装置。
技术介绍
提高镀膜质量是真空镀膜
追求的目标。近年来，智能手机、平板电脑等电子产品市场蓬勃发展；相应地，这些智能终端的品质提升也对此类产品所需触摸屏的镀膜技术提出了更高要求。在这其中，如何能够提高溅射工艺的成膜质量是镀膜技术开发重点之一。目前，磁控溅射镀膜机的应用已日益广泛。对于基板镀膜，膜系的稳定性也已经成为重要需要提高的重点技术之一。尤其对于溅射镀膜机，因其反应功率较大，溅射源的热量较高，溅射过程中温度差就会变得很明显。
技术实现思路
本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种带加热装置的溅射镀膜装置，通过在溅射镀膜装置上追加加热系统，对镀膜腔室内的环境进行加热，保证整个工艺过程中温度稳定，从而优化膜系。本技术目的实现由以下技术方案完成：一种带加热装置的溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括镀膜腔室，在所述镀膜腔室内设置有旋转基板架，在所述镀膜腔室侧壁设置有至少一个溅射源，其特征在于：在所述溅射源的一侧设置有加热装置，所述加热机构与所述镀膜腔室内部相连通以对所述镀膜腔室内部进行加热本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带加热装置的溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括镀膜腔室，在所述镀膜腔室内设置有旋转基板架，在所述镀膜腔室侧壁设置有至少一个溅射源，其特征在于：在所述溅射源的一侧设置有加热装置，所述加热装置与所述镀膜腔室内部相连通以对所述镀膜腔室内部进行加热。

【技术特征摘要】
1.一种带加热装置的溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括镀膜腔室，在所述镀膜腔室内设置有旋转基板架，在所述镀膜腔室侧壁设置有至少一个溅射源，其特征在于：在所述溅射源的一侧设置有加热装置，所述加热装置与所述镀膜腔室内部相连通以对所述镀膜腔室内部进行加热。2.根据权利要求1所述的一种带加热装置的溅射镀膜装置，其特征在于：所述加热机构至少包...

【专利技术属性】
技术研发人员：余海春，戴秀海，马淑莹，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31