【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空处理，尤其涉及一种基板承载装置。
技术介绍
1、现有技术中，真空镀膜等真空处理设备通常采用基板伞架作为基板装载结构。基板伞架通过中心转轴转动连接于真空处理设备的腔室顶壁，基板则固定在基板伞架上，并由基板伞架带动基板转动以保证真空处理的均匀性。不过，由于基板伞架和基板的重量等均需由转轴承受，因此在确保基板旋转和真空处理的稳定性的前提下，现有的基板伞架承载能力十分有限，难以适用于重量较大的基板。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种基板承载装置，以解决现有真空处理设备由转轴承受基板伞架和基板的重量、承载能力有限、难以适用于重量较大的基板的问题。
2、为达此目的，本技术采用以下技术方案：
3、本技术提供一种基板承载装置，该基板承载装置包括壳体、装载组件和驱动组件，所述壳体内设有封闭腔室，所述装载组件包括置于所述封闭腔室内的旋转结构以及第一回转支承件，所述旋转结构通过所述第一回转支承件连接于所述封闭腔室的内腔壁上，所述旋转结构用于固定基板，所述驱动组件至...
【技术保护点】
1.基板承载装置，其特征在于，包括壳体（10）、装载组件（20）和驱动组件（30），所述壳体（10）内设有封闭腔室，所述装载组件（20）包括置于所述封闭腔室内的旋转结构（201）以及第一回转支承件（26），所述旋转结构（201）通过所述第一回转支承件（26）连接于所述封闭腔室的内腔壁上，所述旋转结构（201）用于固定基板（41），所述驱动组件（30）至少部分置于所述封闭腔室内用于驱动所述旋转结构（201）转动以带动所述基板（41）转动。
2.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述内腔壁包括侧壁（101）和连接于所述侧壁（101）的承载壁（102...
【技术特征摘要】
1.基板承载装置，其特征在于，包括壳体（10）、装载组件（20）和驱动组件（30），所述壳体（10）内设有封闭腔室，所述装载组件（20）包括置于所述封闭腔室内的旋转结构（201）以及第一回转支承件（26），所述旋转结构（201）通过所述第一回转支承件（26）连接于所述封闭腔室的内腔壁上，所述旋转结构（201）用于固定基板（41），所述驱动组件（30）至少部分置于所述封闭腔室内用于驱动所述旋转结构（201）转动以带动所述基板（41）转动。
2.根据权利要求1所述的基板承载装置，其特征在于，所述内腔壁包括侧壁（101）和连接于所述侧壁（101）的承载壁（102），所述旋转结构（201）通过所述第一回转支承件（26）连接于所述承载壁（102）；和/或，所述壳体（10）与所述侧壁（101）对应的外侧凸设有加强筋（134），所述加强筋（134）第一端连接于所述壳体（10）与所述承载壁（102）对应的外侧且第二端用于支承在地面上。
3.根据权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，所述承载壁（102）的延伸方向与所述侧壁（101）的延伸方向垂直；和/或，所述加强筋（134）第一端的横截面积小于所述加强筋（134）第二端横截面积。
4.根据权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，所述加强筋（134）绕所述壳体（10）的外周间隔设置有至少两组，每组包括两个所述加强筋（134），且同组的两个所述加强筋（134）对称设置。
5.根据权利要求2所述的基板承载装置，其特征在于，所述壳体（10）包括底部壳体（13）、中间主壳体（12）和顶部壳体（11），所述中间主壳体（12）叠设于所述底部壳体（13）上，所述顶部壳体（11）盖设于所述中间主壳体（12），以使所述顶部壳体（11）、所述底...
【专利技术属性】
技术研发人员：罗欣，龙汝磊，吴萍，史一贺，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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