测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置，涉及显示技术领域，可改善现有技术中因总电容过大，影响模拟时源极充放电速度的问题，还可提高仿真结果的准确性。一种测试基板，包括衬底，包括依次设置在衬底上的第一电极层、像素界定层、发光功能层、以及第二电极层；其中，像素界定层用于界定出多个开口区，第一电极层包括多个第一电极；每个第一电极和第二电极层在衬底上的投影重叠的区域为一个测试单元所在的区域；每个测试单元中，像素界定层与发光功能层在衬底上的投影重叠的区域为第一区域；在至少两个测试单元中，第一电极位于第一区域的部分的面积不同。

Test substrate, preparation method, detection method, display substrate, and display device

The embodiment of the invention provides a test substrate, a preparation method, a detection method, a display substrate and a display device. The invention relates to the display technical field, and can improve the problem of influencing the charging and discharging speed of the source electrode due to the excessive total capacitance in the prior art, and can also improve the accuracy of the simulation result. A test substrate includes a substrate, including a first electrode layer, a pixel definition layer, a luminous functional layer, and a second electrode layer arranged sequentially on the substrate; wherein the pixel definition layer is used to define a plurality of open areas, the first electrode layer comprises a plurality of first electrodes, and each first electrode layer and the second electrode layer are on the substrate. The area where the projection overlaps is the area where one test unit is located; in each test unit, the area where the pixel definition layer and the luminous functional layer overlap projection on the substrate is the first area; in at least two test units, the area of the first electrode in the first area is different.

【技术实现步骤摘要】
测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置。
技术介绍
近年来，由于有机发光二极管(organiclightemittingdiode，简称OLED)具有自发光、广视角、短反应、高发光效率、广色域、低工作电压等优点，成为国内外非常热门的新兴平面显示器。然而，由于OLED电容的大小对驱动晶体管(ThinFilmTransistor，简称DriveTFT)的源极电压的变化有很重要的作用，OLED电容越大，源极电压充防电越慢。目前，直接通过OLED寿命测试单元(lifetimecell，简称LTC)测量的OLED电容包含很大一部分寄生电容，直接利用OLEDLTC测量的OLED电容建立模拟(model)时，源极的充放电较慢，尤其是在大面积面板(panel)仿真的情况下，仿真结果的误差较大。因此，需要寻找一种提取OLED寄生电容的方法，来提高仿真结果的准确性。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置，可改善现有技术中因总电容过大，影响模拟时源极充放电速度的问题，提高仿真结果的准确性。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种测试基板，包括衬底，包括依次设置在所述衬底上的第一电极层、像素界定层、发光功能层、以及第二电极层；其中，所述像素界定层用于界定出多个开口区，所述第一电极层包括多个所述第一电极；每个所述第一电极和所述第二电极层在所述衬底上的投影重叠的区域为一个测试单元所在的区域；每个所述测试单元中，所述像素界定层与所述发光功能层在所述衬底上的投影重叠的区域为第一区域；在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分的面积不同。优选的，每个所述测试单元所在的区域还包括位于所述第一区域远离所述开口区的第二区域；所述像素界定层还包括位于第二区域的部分。优选的，所述测试基板还包括挡墙，所述挡墙位于所述像素界定层和所述第一电极层远离所述衬底的一侧；所述发光功能层位于交叉设置的所述挡墙围成的区域内。进一步优选的，每个所述测试单元所在的区域还包括第三区域，在所述第三区域，所述像素界定层与所述挡墙在所述衬底上的投影重叠。优选的，在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分包括不同个数的通孔；其中，所有所述通孔的形状及大小均相同。第二方面，提供一种显示基板，包括第一方面所述的测试基板。第三方面，提供一种显示装置，包括第二方面所述的显示基板。第四方面，提供一种测试方法，用于检测如第一方面所述的测试基板的电容，包括：对第一电极位于第一区域的部分的面积不同的至少两个测试单元进行检测；测量每个第一电极位于所述测试单元的部分与第二电极层位于该测试单元的部分之间的总电容；根据至少两个所述测试单元的所述总电容、及至少两个测试单元中所述第一电极位于第一区域的面积，确定所述第一区域的单位面积的电容。可选的，确定所述第一区域的单位面积的电容，包括：对第一电极位于第一区域的部分的面积不同的至少三个测试单元进行检测；根据至少三个测试单元中，每个所述第一电极位于所述第一区域的部分的面积，及该第一电极所在的所述测试单元的所述总电容，进行线性拟合；计算线性拟合出的所述直线的斜率，得到所述第一区域的单位面积的电容。可选的，确定所述第一区域的单位面积的电容，包括：对第一电极位于第一区域的部分的面积不同的至少三个测试单元进行检测；根据至少三个所述测试单元的所述总电容、及至少三个测试单元中所述第一电极位于第一区域的面积，分别计算出至少三个所述第一区域的单位面积的电容；对至少三个所述第一区域的单位面积的电容取平均值，得到所述第一区域的单位面积的电容。第五方面，提供一种测试基板的制备方法，包括：依次在衬底上形成第一电极层、像素界定层、发光功能层、以及第二电极层；其中，所述像素界定层用于界定出多个开口区，所述第一电极层包括多个所述第一电极；每个所述第一电极和所述第二电极层在所述衬底上的投影重叠的区域为一个测试单元所在的区域；每个所述测试单元中，所述像素界定层与所述发光功能层在所述衬底上的投影重叠的区域为第一区域；在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分的面积不同。优选的，在形成所述像素界定层之后，形成所述发光功能层之前，所述方法还包括：在所述衬底上形成挡墙，所述发光功能层位于交叉设置的所述挡墙围成的区域内。可选的，在衬底上形成第一电极层，包括：在所述衬底上形成导电薄膜；对所述导电薄膜进行刻蚀，形成多个形状及大小相同的多个导电电极；对多个所述导电电极位于所述第一区域的部分进行刻蚀，形成所述第一电极层。可选的，在衬底上形成第一电极层，包括：在所述衬底上形成导电薄膜；对所述导电薄膜进行刻蚀，形成所述第一电极层。本专利技术实施例提供一种测试基板及其制备方法、检测方法、显示基板、显示装置，每个第一电极位于测试单元的部分与第二电极层位于该测试单元的部分的总电容，至少由发光功能层位于开口区的部分、及发光功能层和像素界定层位于第一区域的部分形成(即，C总＝CPDL&EL*S1+CEL*S2，S1为第一区域的面积，S2为发光功能层位于开口区的面积)，其中，第一区域的电容为寄生电容，然而，由于第一区域既包括像素界定层，又包括发光功能层，因此，不能简单根据像素界定层和发光功能层的介电系数计算得到第一区域的电容，基于此，本专利技术实施例在已知至少两个测试单元的所述总电容的情况下，通过使至少两个测试单元中，第一电极位于第一区域的部分的面积不同，可计算出第一区域的单位面积的电容，进而得到第一区域的电容，这样一来，即可在第一区域同时包括像素界定层和发光功能层的情况下，提取第一区域的电容，以改善直接用测量得到的总电容建立model时，因测量得到的总电容过大，影响源极充放电速度的问题，还可提高仿真结果的准确性。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种测试基板的俯视示意图一；图2为图1中第一电极层的俯视示意图；图3为图1中A-A'向的剖视示意图一；图4为图1中A-A'向的剖视示意图二；图5为本专利技术实施例提供的一种测试基板的俯视示意图二；图6为图5中第一电极层的俯视示意图；图7为图5中B-B'向的剖视示意图一；图8为图5中B-B'向的剖视示意图二；图9为本专利技术实施例提供的一种测试基板的电容检测方法的流程示意图；图10为本专利技术实施例提供的一种确定第一区域的单位面积的电容的流程示意图一；图11为本专利技术实施例提供的一种第一区域面积与测试单元的总电容之间的关系图；图12为本专利技术实施例提供的一种确定第一区域的单位面积的电容的流程示意图二；图13为本专利技术实施例提供的一种制备第一电极层的流程示意图一；图14为本专利技术实施例提供的一种制备第一电极层的流程示意图二。附图标记：10-衬底；11-第一电极层；12-像素界定层；13-发光功能层；14-第二电极层；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测试基板，包括衬底，其特征在于，包括依次设置在所述衬底上的第一电极层、像素界定层、发光功能层、以及第二电极层；其中，所述像素界定层用于界定出多个开口区，所述第一电极层包括多个所述第一电极；每个所述第一电极和所述第二电极层在所述衬底上的投影重叠的区域为一个测试单元所在的区域；每个所述测试单元中，所述像素界定层与所述发光功能层在所述衬底上的投影重叠的区域为第一区域；在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分的面积不同。

【技术特征摘要】
1.一种测试基板，包括衬底，其特征在于，包括依次设置在所述衬底上的第一电极层、像素界定层、发光功能层、以及第二电极层；其中，所述像素界定层用于界定出多个开口区，所述第一电极层包括多个所述第一电极；每个所述第一电极和所述第二电极层在所述衬底上的投影重叠的区域为一个测试单元所在的区域；每个所述测试单元中，所述像素界定层与所述发光功能层在所述衬底上的投影重叠的区域为第一区域；在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分的面积不同。2.根据权利要求1所述的测试基板，其特征在于，每个所述测试单元所在的区域还包括位于所述第一区域远离所述开口区的第二区域；所述像素界定层还包括位于第二区域的部分。3.根据权利要求1所述的测试基板，其特征在于，所述测试基板还包括挡墙，所述挡墙位于所述像素界定层和所述第一电极层远离所述衬底的一侧；所述发光功能层位于交叉设置的所述挡墙围成的区域内。4.根据权利要求3所述的测试基板，其特征在于，每个所述测试单元所在的区域还包括第三区域，在所述第三区域，所述像素界定层与所述挡墙在所述衬底上的投影重叠。5.根据权利要求1-4任一项所述的测试基板，其特征在于，在至少两个所述测试单元中，所述第一电极位于所述第一区域的部分包括不同个数的通孔；其中，所有所述通孔的形状及大小均相同。6.一种显示基板，其特征在于，包括权利要求1-5任一项所述的测试基板。7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求6所述的显示基板。8.一种检测方法，用于检测如权利要求1-5任一项所述的测试基板的电容，其特征在于，包括：对第一电极位于第一区域的部分的面积不同的至少两个测试单元进行检测；测量每个第一电极位于所述测试单元的部分与第二电极层位于该测试单元的部分之间的总电容；根据至少两个所述测试单元的所述总电容、及至少两个测试单元中所述第一电极位于第一区域的面积，确定所述第一区域的单位面积的电容。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，确定所述第一区域的单位面积...

【专利技术属性】
技术研发人员：王玲，盖翠丽，徐攀，林奕呈，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11