用于多光束检验系统的场曲率校正技术方案

揭示多光束电子束柱及使用此些多光束电子束柱的检验系统。根据本发明专利技术配置的多光束电子束柱可包含电子源及多透镜阵列，所述多透镜阵列经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束。所述多透镜阵列可进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于多光束检验系统的场曲率校正相关申请案的交叉参考本申请案根据35U.S.C.§119(e)主张2016年2月4日申请的第62/291,120号美国临时申请案的权利。所述第62/291,120号美国临时申请案的全文以引用方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及检验系统的领域，且特定来说涉及电子束检验系统。
技术介绍
薄抛光板(例如硅晶片及类似者)是现代技术的非常重要部分。例如，晶片可指用于制造集成电路及其它装置中的薄圆块半导体材料。晶片及主光罩经受缺陷检验，且电子束(e-beam)检验被视为最敏感形式的晶片缺陷检验中的一个。然而，目前可行电子束检验系统的吞吐量非常有限且需要改善。
技术实现思路
本专利技术涉及一种设备。所述设备可包含电子源及多透镜阵列，所述多透镜阵列经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束。所述多透镜阵列可进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。本专利技术的进一步实施例是一种设备。所述设备可包含电子源及多透镜阵列，所述多透镜阵列经配置以利用由所述电子源提供的电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种设备，其包括：电子源；及多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.04 US 62/291,120;2016.06.03 US 15/173,1441.一种设备，其包括：电子源；及多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。2.根据权利要求1的设备，其进一步包括：至少一个额外透镜，其经配置以接收所述多个细光束且朝向目标传递所述多个细光束。3.根据权利要求2所述的设备，其中所述多透镜阵列经配置以补偿所述至少一个额外透镜的预期焦点移位。4.根据权利要求3所述的设备，其中所述多透镜阵列包含具有界定在其中的开口的至少三个静电板以形成单透镜阵列。5.根据权利要求4所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个特定静电板经配置以支持围绕界定在所述至少一个特定静电板上的所述开口施加个别可寻址电势。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述至少一个特定静电板是具有蚀刻在其中的所述开口的氧化硅板，其中用导电材料个别地涂布所述开口以容许个别可寻址电势施加于所述开口。7.根据权利要求5所述的设备，其中至少部分地基于所述至少一个额外透镜的所述预期焦点移位确定所述个别可寻址电势。8.根据权利要求4所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个静电板经配置以充当孔径透镜阵列。9.根据权利要求4所述的设备，其中所述多透镜阵列进一步包含定位在所述至少三个静电板中的两个邻近静电板之间的至少一个绝缘层。10.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备经调适以在检验系统中充当多光束电子束柱。11.一种设备，其包括：电子源；多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·D·布罗迪，R·克尼彭迈耶，C·西尔斯，J·劳斯，G·H·陈，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US