The invention discloses a back-end purifying device for waste gas of acid gas and dust particles, which relates to the technical field of manufacturing process gas treatment equipment in semiconductor manufacturing process, including reaction chamber, back-end washing room, cooling tower and waste water purifying tank. After the waste gas enters the front-end purifying device, the acid in the waste gas is removed. After the gas and dust particles are discharged, the remaining exhaust gas enters the reaction chamber and reacts with the organic matter in the exhaust gas. Then, the high-temperature gas after the reaction is washed, sprayed and cooled by the back-end washing room and cooling tower, and discharged from the outlet after reaching the discharge standard, and the dust particles produced after the reaction meet the water. Then it falls to the bottom of the back-end washing room and flushes it into the wastewater purifying tank along with the water flow. Then it is purified and recycled through the filtration of the wastewater purifying tank. The whole device has reasonable structure and strong practicability.
【技术实现步骤摘要】
一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置
本专利技术涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的
,具体涉及一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置。
技术介绍
在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排,也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中,造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞,缩短设备的维护周期,影响工厂的产能,同时,在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路,造成气体泄漏,导致安全事件发生。中国专利公开号为CN107051092A公开了一种废气处理设备,包括:喷淋净化装置,包括塔体和喷淋机构,塔体具有容纳腔,塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室,塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口,塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口;喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件;气体净化装置,包括具有净化腔的本体,本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口,进风口与出气口连通,净化腔包括等离子反应腔,等离子反应腔内设有等离子电场发生器。日本专利公开号为CN107206314A公开了一种可以高效除去废气中的NOx的废气处理方法和废气处理装置。本专利技术的废气处理方法,其特征在于,其包括向含NOx的废气中供给含碱剂的粉末和臭氧对废气进行处理的工序,通过臭氧使NO氧化为NO2,并使碱剂或其热分解产物与NO2进行气固反应。此外,本专利技术的废气处理装置,其特征在于,其具备 ...
【技术保护点】
1.一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:包括反应腔(1)、后端水洗室(3)、冷却塔(6)和废水净水箱(5),所述反应室(1)包括反应腔(101)、主进气法兰(102)、辅进气法兰(103)和辅进料法兰(104)、出气法兰(105),所述主进气法兰(102)和辅进气法兰(103)分别焊接在反应腔(101)的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰(104)焊接在反应腔(101)的中部,所述出气法兰(105)焊接在反应腔(101)的底部并通过连接管道一(2)和后端水洗室(3)相连;所述后端水洗室(3)包括后端水洗腔(301)和喷头法兰一(302),所述喷头法兰一(302)对称设于后端水洗腔(301)的两侧并内设有喷头一(303),所述后端水洗腔(301)的顶部左侧设有进气端并和连接管道二(2)相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔(6)相连,所述后端水洗腔(301)的底部设有排水法兰(304)并通过连接管道二(4)和废水净水箱(5)连接;所述冷却塔(6)的内部均布设有冷却板(601),所述冷却塔(6)的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604),所述喷 ...
【技术特征摘要】
1.一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:包括反应腔(1)、后端水洗室(3)、冷却塔(6)和废水净水箱(5),所述反应室(1)包括反应腔(101)、主进气法兰(102)、辅进气法兰(103)和辅进料法兰(104)、出气法兰(105),所述主进气法兰(102)和辅进气法兰(103)分别焊接在反应腔(101)的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰(104)焊接在反应腔(101)的中部,所述出气法兰(105)焊接在反应腔(101)的底部并通过连接管道一(2)和后端水洗室(3)相连;所述后端水洗室(3)包括后端水洗腔(301)和喷头法兰一(302),所述喷头法兰一(302)对称设于后端水洗腔(301)的两侧并内设有喷头一(303),所述后端水洗腔(301)的顶部左侧设有进气端并和连接管道二(2)相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔(6)相连,所述后端水洗腔(301)的底部设有排水法兰(304)并通过连接管道二(4)和废水净水箱(5)连接;所述冷却塔(6)的内部均布设有冷却板(601),所述冷却塔(6)的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604),所述喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604)内设有喷头二(603)和喷头三(605),所述冷却塔(6)的顶部水平设有出气口(607)。2.根据权利要求1所述的一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:所述废水净水箱(5)包括箱体(50...
【专利技术属性】
技术研发人员:杨春水,曹小康,赵力行,邹昭平,蒋俊海,于浩,
申请(专利权)人:安徽京仪自动化装备技术有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽,34
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