一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置制造方法及图纸

技术编号:19107863 阅读:28 留言:0更新日期:2018-10-09 23:04
本发明专利技术公开了一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域,包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱,废气进入前端净化装置后,在去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒后,剩下的废气进入反应室中反应,将废气中的有机物反应掉,接着,反应后的高温气体再经过后端水洗室和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温,在达到排放标准后从出气口排出,而反应后产生的粉尘颗粒遇到水后掉落到后端水洗室的底部并顺着水流冲洗到废水净水箱中,再通过废水净水箱的过滤净化循环利用,整个装置结构合理,实用性强。

A rear end purifier for waste gas of acid gas and dust particles

The invention discloses a back-end purifying device for waste gas of acid gas and dust particles, which relates to the technical field of manufacturing process gas treatment equipment in semiconductor manufacturing process, including reaction chamber, back-end washing room, cooling tower and waste water purifying tank. After the waste gas enters the front-end purifying device, the acid in the waste gas is removed. After the gas and dust particles are discharged, the remaining exhaust gas enters the reaction chamber and reacts with the organic matter in the exhaust gas. Then, the high-temperature gas after the reaction is washed, sprayed and cooled by the back-end washing room and cooling tower, and discharged from the outlet after reaching the discharge standard, and the dust particles produced after the reaction meet the water. Then it falls to the bottom of the back-end washing room and flushes it into the wastewater purifying tank along with the water flow. Then it is purified and recycled through the filtration of the wastewater purifying tank. The whole device has reasonable structure and strong practicability.

【技术实现步骤摘要】
一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置
本专利技术涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的
,具体涉及一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置。
技术介绍
在半导体制造过程中既有二氧化硫、氮氧化物、含氟气体等有害废气外排,也有大量的粉尘伴随废气排放到环境中,造成环境空气污染。应用在半导体行业的传统废气处理设备在长时间运行中会因为废气中含有的粉尘导致废气处理设备反应腔堵塞,缩短设备的维护周期,影响工厂的产能,同时,在长时间运行中会因为废气中的酸性气体加速腐蚀设备的金属管路及连接厂务排风的金属管路,造成气体泄漏,导致安全事件发生。中国专利公开号为CN107051092A公开了一种废气处理设备,包括:喷淋净化装置,包括塔体和喷淋机构,塔体具有容纳腔,塔体内沿底部到顶部依次设有旋流结构层和填料层以将容纳腔分隔为第一腔室、第二腔室和第三腔室,塔体的底部设有与第一腔室连通的进气口和出水口,塔体的顶部设有与第三腔室连通的出气口;喷淋机构包括第一喷淋组件和第二喷淋组件;气体净化装置,包括具有净化腔的本体,本体上设有与净化腔连通的进风口和出风口,进风口与出气口连通,净化腔包括等离子反应腔,等离子反应腔内设有等离子电场发生器。日本专利公开号为CN107206314A公开了一种可以高效除去废气中的NOx的废气处理方法和废气处理装置。本专利技术的废气处理方法,其特征在于,其包括向含NOx的废气中供给含碱剂的粉末和臭氧对废气进行处理的工序,通过臭氧使NO氧化为NO2,并使碱剂或其热分解产物与NO2进行气固反应。此外,本专利技术的废气处理装置,其特征在于,其具备含NOx的废气流过的废气流路,向流过废气流路的废气中供给臭氧的臭氧供给部,以及向流过废气流路的废气中供给含碱剂的粉末的碱剂供给部,臭氧供给部设置为通过供给的臭氧使废气中的NO氧化为NO2,碱剂供给部设置为使供给的粉末中含有的碱剂或其热分解产物与NO2进行气固反应。上述对比文件中所涉及的技术方案结构上过于复杂,维护成本较高,装置占用的空间也较大,不便应用于半导体制造过程中对制成工艺气体处理,因此,对应用于半导体制造过程中制成工艺气体处理设备需要重新进行更加合理的设计。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,以解决现有技术中导致的上述多项缺陷。一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱,所述反应室包括反应腔、主进气法兰、辅进气法兰和辅进料法兰、出气法兰,所述主进气法兰和辅进气法兰分别焊接在反应腔的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰焊接在反应腔的中部,所述出气法兰焊接在反应腔的底部并通过连接管道一和后端水洗室相连;所述后端水洗室包括后端水洗腔和喷头法兰一,所述喷头法兰一对称设于后端水洗腔的两侧并内设有喷头一,所述后端水洗腔的顶部左侧设有进气端并和连接管道二相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔相连,所述后端水洗腔的底部设有排水法兰并通过连接管道二和废水净水箱连接;所述冷却塔的内部均布设有冷却板,所述冷却塔的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二和喷水法兰三,所述喷水法兰二和喷水法兰三内设有喷头二和喷头三,所述冷却塔的顶部水平设有出气口。优选的,所述废水净水箱包括箱体和进水法兰,所述进水法兰焊接在箱体的顶部左边,所述进水法兰通过连接管道二和排水法兰相连,所述箱体的内部中间设有过滤板并通过固定架二竖直固定在箱体的内部,所述箱体的右侧下部设有出水法兰。优选的,所述出水法兰连接有增压水泵,所述增压水泵的进水端和出水法兰连接,增压水泵的出水端连接有分流接口,所述分流接口连接有连接管道三、连接管道四、连接管道五、连接管道六,所述连接管道三和连接管道四分别和后端水洗腔内部两侧的喷头一连接,所述连接管道五和连接管道六分别和冷却塔内部的喷头三和喷头四连接。优选的,所述连接管道一上设有电动阀。优选的,所述冷却塔的顶部和出气口安装处还安装有过滤袋。优选的,所述冷却板的材质为多孔的氧化铝陶瓷。本专利技术的优点在于:废气进入前端净化装置,在去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒后,剩下的废气进入反应室中反应,将废气中的有机物反应掉,接着,反应后的高温气体再经过后端水洗室和冷却塔的水洗喷淋和冷却降温,在达到排放标准后从出气口排出,而反应后产生的粉尘颗粒遇到水后掉落到后端水洗室的底部并顺着水流冲洗到废水净水箱中,再通过废水净水箱的过滤净化循环利用,整个装置结构合理,实用性强。通过在反应腔的顶部设置辅进气法兰和辅进料法兰,可通入空气和CDA催化剂,从而使反应腔中的有机成分得到充分的反应完全,再通过在连接管道一设置电动阀,待废气充分反应后再排放到后端水洗室中进行水洗喷淋作业。通过将后端水洗室中喷头一对称设置在后端水洗腔的左右两侧,可以让反应后产生的粉尘和水充分接触。通过在冷却塔的顶部和出气口安装处还安装有过滤袋,可以有效地将反应后粉尘彻底的限制在本专利技术之中,不会被排放到空气中。通过将冷却板的材质选为多孔的氧化铝陶瓷,因氧化铝陶瓷本身有较好的传导性、机械强度和耐高温性,再配合冷却塔内的喷头二和喷头三的使用,可以对反应后的高温气体进行降温。通过在废水净水箱中安装过滤板,可以对来自后端水洗室中的水进行过滤,然后再利用增压水泵将净化后的水通过分流接口和连接管路一对一引给喷头,提高了水的利用率,也避免了喷头再外接水源。附图说明图1和图2为本专利技术整体的结构示意图。其中,1-反应室;2-连接管道一;3-后端水洗室;4-连接管道二;5-废水净水箱;6-冷却塔;7-增压水泵;8-分流接头;9-连接管道三10-连接管道四;11-连接管道五;12-连接管道六;101-反应腔;102-主进气法兰;103-辅进气法兰;104-辅进料法兰;105-出气法兰;201-电动阀;301-后端水洗腔;302-喷水法兰一;303-喷头一;304-排水法兰;501-箱体;502-进水法兰;503-出水法兰;504-固定架;505-过滤板;601-冷却板;602-喷水法兰二;603-喷头二;604-喷水法兰三;605-喷头三;606-过滤袋;607-出气口。具体实施方式为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本专利技术。实施例1如图1至图2所示,一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,包括反应腔1、后端水洗室3、冷却塔6和废水净水箱5,所述反应室1包括反应腔101、主进气法兰102、辅进气法兰103和辅进料法兰104、出气法兰105,所述主进气法兰102和辅进气法兰103分别焊接在反应腔101的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰104焊接在反应腔101的中部,所述出气法兰105焊接在反应腔101的底部并通过连接管道一2和后端水洗室3相连;所述后端水洗室3包括后端水洗腔301和喷头法兰一302,所述喷头法兰一302对称设于后端水洗腔301的两侧并内设有喷头一303,所述后端水洗腔301的顶部左侧设有进气端并和连接管道二2相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔6相连,所述后端水洗腔301的底部设有排水法兰304并通过连接管道二4和废水净水箱5连接;所述冷却塔6的内部均布设有冷却板601,所述冷却塔6的外部中间本文档来自技高网
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一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置

【技术保护点】
1.一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:包括反应腔(1)、后端水洗室(3)、冷却塔(6)和废水净水箱(5),所述反应室(1)包括反应腔(101)、主进气法兰(102)、辅进气法兰(103)和辅进料法兰(104)、出气法兰(105),所述主进气法兰(102)和辅进气法兰(103)分别焊接在反应腔(101)的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰(104)焊接在反应腔(101)的中部,所述出气法兰(105)焊接在反应腔(101)的底部并通过连接管道一(2)和后端水洗室(3)相连;所述后端水洗室(3)包括后端水洗腔(301)和喷头法兰一(302),所述喷头法兰一(302)对称设于后端水洗腔(301)的两侧并内设有喷头一(303),所述后端水洗腔(301)的顶部左侧设有进气端并和连接管道二(2)相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔(6)相连,所述后端水洗腔(301)的底部设有排水法兰(304)并通过连接管道二(4)和废水净水箱(5)连接;所述冷却塔(6)的内部均布设有冷却板(601),所述冷却塔(6)的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604),所述喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604)内设有喷头二(603)和喷头三(605),所述冷却塔(6)的顶部水平设有出气口(607)。...

【技术特征摘要】
1.一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:包括反应腔(1)、后端水洗室(3)、冷却塔(6)和废水净水箱(5),所述反应室(1)包括反应腔(101)、主进气法兰(102)、辅进气法兰(103)和辅进料法兰(104)、出气法兰(105),所述主进气法兰(102)和辅进气法兰(103)分别焊接在反应腔(101)的顶部中间和顶部两边,所述辅进料法兰(104)焊接在反应腔(101)的中部,所述出气法兰(105)焊接在反应腔(101)的底部并通过连接管道一(2)和后端水洗室(3)相连;所述后端水洗室(3)包括后端水洗腔(301)和喷头法兰一(302),所述喷头法兰一(302)对称设于后端水洗腔(301)的两侧并内设有喷头一(303),所述后端水洗腔(301)的顶部左侧设有进气端并和连接管道二(2)相连,顶部右边设有出气端并和冷却塔(6)相连,所述后端水洗腔(301)的底部设有排水法兰(304)并通过连接管道二(4)和废水净水箱(5)连接;所述冷却塔(6)的内部均布设有冷却板(601),所述冷却塔(6)的外部中间和上部分别焊接有喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604),所述喷水法兰二(602)和喷水法兰三(604)内设有喷头二(603)和喷头三(605),所述冷却塔(6)的顶部水平设有出气口(607)。2.根据权利要求1所述的一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置,其特征在于:所述废水净水箱(5)包括箱体(50...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨春水曹小康赵力行邹昭平蒋俊海于浩
申请(专利权)人:安徽京仪自动化装备技术有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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