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本发明公开了一种针对酸性气体、粉尘颗粒的废气的后端净化装置，涉及半导体制造过程中制成工艺气体处理设备的技术领域，包括反应腔、后端水洗室、冷却塔和废水净水箱，废气进入前端净化装置后，在去除了废气中的酸性气体和粉尘颗粒后，剩下的废气进入反应室中...
该专利属于安徽京仪自动化装备技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽京仪自动化装备技术有限公司授权不得商用。

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