【技术实现步骤摘要】
一种可拆卸式化学气相沉积喷淋装置
本专利技术涉及化学气相沉积设备,尤其是涉及化学气相沉积设备的喷淋装置。
技术介绍
化学气相沉积(CVD)技术集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化学、计算机多学科为一体,是一种自动化程度高、价格昂贵、技术集成度高的高端半导体材料、光电子器件制造专用设备。化学气相沉积设备作为化合物半导体材料外延生长的理想方法,具有质量高、稳定性好、重复性好、工艺灵活、能规模化量产等特点,已经成为业界生产半导体光电器件和微波器件的关键核心设备,具有广阔的应用前景和产业化价值。化学气相沉积喷淋装置的反应环境非常苛刻,通常面临高温、腐蚀性气体,预沉积反应等,导致现有气相沉积设备喷淋装置均为整体设计,喷淋需要经常维护和更换,包括喷淋表面沉积污染需要经常清洁,或者由于喷淋孔堵塞,甚至喷淋报废,导致生产成本非常昂贵。经常性的维护、清洁也极大浪费了生产时间,降低生产效率。本专利技术的目的是提供一种化学气相沉积设备的喷淋装置,减少喷淋维护保养间隔时间,降低生产成本。本专利采用的技术方案是,一种可拆卸式化学气相沉积喷淋装置,主要包括喷淋(2)、喷淋进气口(1)、气体混合腔(5)、喷淋管(6)、冷却水进口(3)、冷却水出口(4)、喷淋水冷腔(7)等,其特征在于喷淋(2)底面设置有可拆顶板(8),可拆顶板(8)通过可拆卸的连接方式与喷淋(2)底面贴合连接,所述可拆顶板(8)内部设有顶板水冷腔(9),顶板冷却水进口(10)通过冷却水腔(9)与顶板冷却水出口(11)连通,可拆顶板(8)上分布设置有贯穿孔(12),使凸出的喷淋管(6)可以伸入到相应的贯穿 ...
【技术保护点】
1.一种可拆卸式化学气相沉积喷淋装置,主要包括喷淋(2)、喷淋进气口(1)、气体混合腔(5)、喷淋管(6)、冷却水进口(3)、冷却水出口(4)、喷淋水冷腔(7)等,其特征在于喷淋(2)底面设置有可拆顶板(8),可拆顶板(8)通过可拆卸的连接方式与喷淋(2)底面贴合连接,所述可拆顶板(8)内部设有顶板水冷腔(9),顶板冷却水进口(10)通过冷却水腔(9)与顶板冷却水出口(11)连通,可拆顶板(8)上分布设置有贯穿孔(12),使凸出的喷淋管(6)可以伸入到相应的贯穿孔(12)中。
【技术特征摘要】
1.一种可拆卸式化学气相沉积喷淋装置,主要包括喷淋(2)、喷淋进气口(1)、气体混合腔(5)、喷淋管(6)、冷却水进口(3)、冷却水出口(4)、喷淋水冷腔(7)等,其特征在于喷淋(2)底面设置有可拆顶板(8),可拆顶板(8)通过可拆卸的连接方式与喷淋(2)底面贴合连接,所述可拆顶板(8)内部设有顶板水冷腔(9),顶板冷却水进口(10)通过冷却水腔(9)与顶板冷却水出口(11)连通,可拆顶板(8)上分布设置有贯穿孔(12),使凸出...
【专利技术属性】
技术研发人员:甘志银,沈桥,
申请(专利权)人:广东昭信半导体装备制造有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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