膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。该膜层处理方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，第二溶剂对溶质的溶解性大于第一溶剂对溶质的溶解性，至少部分小液滴进入待干燥膜层。该膜层处理方法减缓了待干燥膜层的干燥成膜的速率，增加了溶剂的挥发均匀性，并且有效地提高了喷墨打印制作的膜层的均匀性，解决了现有技术中各个子像素的膜层中溶剂挥发速率不同或太快而导致薄膜的形貌不均匀的问题。

Film layer, light-emitting device, film processing method, device and system

The invention provides a film layer, a light-emitting device, a film processing method, a device and a system. The film treatment method comprises the following steps: S1, the ink is placed on the substrate to form a film to be dried, wherein the ink includes the first solvent and solute; S3, a small second solvent droplet scattered above the surface of the film to be dried, in which the small droplet is formed by ultrasonic vibration of the second solvent and the second solvent pair is formed. The solubility of the solute is greater than that of the first solvent. At least some small droplets enter the film to be dried. The film treatment method slows down the drying rate of the film to be dried, increases the volatilization uniformity of the solvent, and effectively improves the uniformity of the film produced by inkjet printing. It solves the problem of the uneven appearance of the film caused by the different or too fast volatilization rate of the solvent in the film of each sub-pixel in the prior art. Question.

【技术实现步骤摘要】
膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统
本专利技术涉及膜层制备
，具体而言，涉及一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。
技术介绍
在PLED(英文：PolymerLight-EmittingDiode，高分子发光二极管)、OLED(有机发光二极管)以及QLED(量子点发光二极管)显示或照明器件的制备中，通常采用喷墨打印技术，形成红、绿、蓝三基色发光像素。即将预先进行ITO(IndiumTinOxide，氧化铟锡)图案化的基板吸附在打印基台上，将溶解在溶剂中的各种材料(包括，功能层材料，以及红、绿、蓝三色发光材料)的溶液喷涂在该基板上的子像素坑中，形成红、绿、蓝三基色发光像素。然后通过后续的干燥工艺(如低压烘箱干燥工艺)去除膜层中的多余溶剂。目前的生产过程中，在将溶液喷墨至基板子像素坑后，溶液是以很小的墨滴形式分布在像素坑的像素区域中(通常200×50um，甚至更小)，并不能很好的流淌并铺展整个像素坑，并且在后续的真空干燥过程中，因为墨滴体积很小，在像素坑中形成的厚度只有几十到几百纳米，墨滴中的溶剂快速干燥，以致会出现像素坑中的墨滴未均匀覆盖整个像素坑就已经固化的现象，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种膜层处理方法，其特征在于，所述方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，所述墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，所述小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性，至少部分所述小液滴进入所述待干燥膜层。

【技术特征摘要】
1.一种膜层处理方法，其特征在于，所述方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，所述墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，所述小液滴为第二溶剂经过超声振动形成，所述第二溶剂对所述溶质的溶解性大于所述第一溶剂对所述溶质的溶解性，至少部分所述小液滴进入所述待干燥膜层。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S1包括：将墨水设置在基底上的至少一个像素区域中，形成待干燥膜层，其中，所述基底上设置多个像素隔离结构，所述像素隔离结构形成多个相互隔离的像素区域。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤S1之后，所述方法还包括步骤：S2，将所述待干燥膜层放置在一个腔室的预设环境中，其中，所述预设环境为所述腔室中分散着所述第二溶剂的蒸汽，且所述预设环境的气压小于标准大气压强。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述预设环境的气压为所述第二溶剂的饱和蒸气压。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3之后，所述方法还包括步骤：S4，采用红外光照射所述基底远离所述待干燥膜层的一侧表面，以使所述待干燥膜层干燥，其中，所述照射方式包括整面照射或扫描照射。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超声振动的方向为平行所述基底的方向。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶质为量子点、有机发光材料或功能材料，所述功能材料包括用于电子传输、电子注入、空穴传输、空穴注入或导电的材料，所述第一溶剂和所述第二溶剂分别独立地选自苯、甲苯、氯苯、对二甲苯、丙酮、已烷、环已烷、二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、长链烷基酸、烷基胺或长链醇。8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第二溶剂的沸点大于所述第一溶剂的沸点。9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤S3包括：对所述第二溶剂进行超声振动处理；将经所述处理后的第二溶剂通过喷墨打印或喷涂的方式，在所述待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴。10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，在所述步骤S3中，相对于...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜勇，杨驰，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江,33