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本发明提供了一种膜层、发光器件、膜层处理方法、装置及系统。该膜层处理方法包括步骤：S1，将墨水设置在基底上，形成待干燥膜层，其中，墨水包括第一溶剂和溶质；S3，在待干燥膜层所在平面的上方形成分散的第二溶剂小液滴，其中，小液滴为第二溶剂经过超...
该专利属于纳晶科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过纳晶科技股份有限公司授权不得商用。

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