The invention discloses a chemical device for polishing and polishing, including a body and a container. The body comprises a base, a bracket fixed on the right end of the base end of the base, and a top seat fixed to the upper end of the left end of the bracket and left to the left. The base is provided with a first sliding groove with an opening up. The first gliding rack is installed in the first gliding slot, and the first gliding rack is provided with a first sliding groove opening up and connecting to the left and right, and the second sliding groove in the bottom wall of the first sliding groove is provided with an opening upward and a left and right extension, and the bottom of the second sliding groove is provided with a running through trough connected up and down. A third sliding groove is arranged on the left side of the bottom wall of the first sliding groove, and the right right end wall of the third sliding groove is provided with a first oblique face, and the first sliding block is installed in the second gliding groove, and the bottom of the first slide block is provided with a downward extension extrusion section at the bottom of the first gliding block.
【技术实现步骤摘要】
一种研磨抛光用化学品装置
本专利技术涉及机械加工
,具体地说是一种研磨抛光用化学品装置。
技术介绍
研磨抛光剂在研磨抛光时起到重要的作用,其能够提高光洁度,能够使工件表面光亮,抛光剂中由各种化学成分组成,其中包含了表面活性剂等等,其能够增加研磨抛光时的润滑效果,为了使加工环保无毒,表面活性剂会从天然植物中提取而来,由此可代替化学合成物,在提取时,一般都是利用离心分离机对搅碎的植物进行高速分离,由此得到所需的物质成分,但是传统的离心分离机在装载和卸载容器时,一旦误操作,会对操作人员造成较大的伤害,因此,传统的离心分离机存在很大的安全隐患。
技术实现思路
针对上述技术的不足,本专利技术提出了一种研磨抛光用化学品装置。本专利技术装置的一种研磨抛光用化学品装置,包括机体以及容器,所述机体包括底座、固定设置在所述底座上端面右侧端的支架以及固定安装在所述支架左端面上端且向左延长的顶座,所述底座中设置有开口朝上的第一滑行槽,所述第一滑行槽中安装与可上下滑动的第一滑行架,所述第一滑行架中设置有开口朝上且左右相通的第一滑行槽,所述第一滑行槽底壁中设置有开口朝上且左右延长的第二滑行槽,所述第二滑行槽底部设置有上下相通的贯穿槽,所述第一滑行槽底壁中左侧设置有第三滑行槽,所述第三滑行槽右右端壁设置有第一斜向面,所述第二滑行槽中安装有可左右滑动的第一滑行块,所述第一滑行块底部设置有向下延长的挤压部,所述挤压部下端穿过所述贯穿槽并伸入到所述第三滑行槽中,且所述挤压部底部设置有与所述第一斜向面相配合的第二斜向面,所述第一滑行块中螺纹配合安装有左右延长的第一螺杆,所述第一螺杆右端可转动 ...
【技术保护点】
1.一种研磨抛光用化学品装置,包括机体以及容器,所述机体包括底座、固定设置在所述底座上端面右侧端的支架以及固定安装在所述支架左端面上端且向左延长的顶座,所述底座中设置有开口朝上的第一滑行槽,所述第一滑行槽中安装与可上下滑动的第一滑行架,所述第一滑行架中设置有开口朝上且左右相通的第一滑行槽,所述第一滑行槽底壁中设置有开口朝上且左右延长的第二滑行槽,所述第二滑行槽底部设置有上下相通的贯穿槽,所述第一滑行槽底壁中左侧设置有第三滑行槽,所述第三滑行槽右右端壁设置有第一斜向面,所述第二滑行槽中安装有可左右滑动的第一滑行块,所述第一滑行块底部设置有向下延长的挤压部,所述挤压部下端穿过所述贯穿槽并伸入到所述第三滑行槽中,且所述挤压部底部设置有与所述第一斜向面相配合的第二斜向面,所述第一滑行块中螺纹配合安装有左右延长的第一螺杆,所述第一螺杆右端可转动地安装在所述第二滑行槽右端壁中,左端与固定安装在所述第二滑行槽左端壁中的第一马达动力连接,所述第一滑行槽中安装有可左右滑动的滑行板,所述滑行板底端面与所述第一滑行块上端面固定连接,所述滑行板上端面中可转动地安装有第一旋转柱,所述第一旋转柱上端面固定安装有旋 ...
【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光用化学品装置,包括机体以及容器,所述机体包括底座、固定设置在所述底座上端面右侧端的支架以及固定安装在所述支架左端面上端且向左延长的顶座,所述底座中设置有开口朝上的第一滑行槽,所述第一滑行槽中安装与可上下滑动的第一滑行架,所述第一滑行架中设置有开口朝上且左右相通的第一滑行槽,所述第一滑行槽底壁中设置有开口朝上且左右延长的第二滑行槽,所述第二滑行槽底部设置有上下相通的贯穿槽,所述第一滑行槽底壁中左侧设置有第三滑行槽,所述第三滑行槽右右端壁设置有第一斜向面,所述第二滑行槽中安装有可左右滑动的第一滑行块,所述第一滑行块底部设置有向下延长的挤压部,所述挤压部下端穿过所述贯穿槽并伸入到所述第三滑行槽中,且所述挤压部底部设置有与所述第一斜向面相配合的第二斜向面,所述第一滑行块中螺纹配合安装有左右延长的第一螺杆,所述第一螺杆右端可转动地安装在所述第二滑行槽右端壁中,左端与固定安装在所述第二滑行槽左端壁中的第一马达动力连接,所述第一滑行槽中安装有可左右滑动的滑行板,所述滑行板底端面与所述第一滑行块上端面固定连接,所述滑行板上端面中可转动地安装有第一旋转柱,所述第一旋转柱上端面固定安装有旋转支板,所述旋转支板上端面中心处固定安装有卡柱,所述卡柱圆周面上固定设置有胶套,所述第一滑行槽左端壁中设置有与所述旋转支板在同一水平面上且开口朝右的凹入槽,所述凹入槽中固定设置有伸入到所述第一滑行槽中而与所述旋转支板圆周面配合的锁止弹块,所述容器设置有开口朝上的容腔,所述容器外端面上设置有齿环,所述容器下端面中设置有开口朝下的卡槽,所述卡槽左右侧壁中对称设置有与外部相通的螺纹腔,所述螺纹腔中螺纹配合安装有第二螺杆,所述第二螺杆远离所述卡槽的一端伸出所述螺纹腔并固定设置有操纵手柄,所述支架中设置有开口朝左的第一活动槽,所述第一活动槽通过第二旋转柱可转动地安装有与所述齿环配合的第一齿形盘,且所述第一齿形盘伸出于所述第一活动槽,所述第二旋转柱上下两端分别安装在所述第一活动槽上下端壁中,所述第一活动槽中还设置有与所述第一齿形盘啮合的第二齿形...
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