有机锡氧化物氢氧化物图案化组合物、前驱物及图案化制造技术

本发明专利技术描述了用于形成基于金属氧化物氢氧化物化学的高分辨率微影图案化涂层的有机金属前驱物。该前驱物组合物通常包含在适当条件下可易于被水蒸气或其他OH源组合物水解的配位体。该有机金属前驱物通常包含对锡的辐射敏感的有机配位体，其可产生在相对较低辐射剂量下对高分辨率图案化有效，且特别适用于EUV图案化的涂层。该前驱物组合物在商业适合条件下易于处理。可利用原位水解或基于蒸气的沉积的溶液的相处理来形成涂层。

Patterned compositions, precursors and patterning of organotin oxide hydroxides

Organic metal precursors for the formation of high resolution micrographic patterned coatings based on metal oxide hydroxide chemistry are described. The precursor composition usually contains a ligand that can be easily hydrolyzed by steam or other OH source compositions under suitable conditions. The organic metal precursor usually contains an organic coordination body that is sensitive to the radiation of tin, which can produce a high resolution patterning at relatively low radiation doses, and is especially suitable for EUV patterned coatings. The precursor composition is easy to handle under commercially available conditions. The coating can be formed by in-situ hydrolysis or vapor deposition based solution.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】有机锡氧化物氢氧化物图案化组合物、前驱物及图案化相关申请的交叉引用本申请要求了Meyers等人于2015年10月13日提交的名称为“具有前体气相沉积的有机锡氧化物氢氧化物图案化组合物(OrganotinOxideHydroxidePatterningCompositionsWithPrecursorVaporDeposition)”的共同待审的美国临时专利申请62/240,812的优先权，还要求了Cardineau等人于2月19日提交的名称为“用于有机锡氧化物氢氧化物光刻胶膜的前体组合物(PrecursorCompositionsforOrganotinOxideHydroxidePhotoresistFilms)”的共同待审的美国临时专利申请62/297,540的优先权，这两个申请通过引用并入本文。
本专利技术涉及可经涂布和经原位水解以形成包含有机锡氧化物氢氧化物的涂层的前驱物组合物。本专利技术进一步涉及辐射敏感有机锡氧化物氢氧化物涂层，其可用UV光、EUV光或电子束辐射来有效地图案化以形成具有低线宽粗糙度的高分辨率图案。
技术介绍
对于基于半导体的器件以及其他电子器件或其他复杂精本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂层溶液，其包含：有机溶剂；由下式表示的第一有机金属组合物：式RzSnO(2‑(z/2)‑(x/2))(OH)x，其中0

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.13 US 62/240,812;2016.02.19 US 62/297,5401.一种涂层溶液，其包含：有机溶剂；由下式表示的第一有机金属组合物：式RzSnO(2-(z/2)-(x/2))(OH)x，其中0<z≤2且0<(z+x)≤4；式R'nSnX4-n，其中n＝1或2，或其混合物，其中R和R'独立地为具有1-31个碳原子的烃基，且X为具有结合至Sn的可水解键的配位体或其组合；和由式MX'v表示的可水解金属化合物，其中M为选自元素周期表的第2族至第16族的金属，v＝2至6的数字，且X'为具有可水解M-X键的配位体或其组合。2.如权利要求1所述的涂层溶液，其中M为Sn且v＝4。3.如权利要求2所述的涂层溶液，其中约2摩尔百分比至约60摩尔百分比的Sn存在于所述可水解金属化合物中。4.如权利要求1-3中任一项所述的涂层溶液，所述溶液中具有约0.0025M至约1.5M的锡。5.如权利要求1-4中任一项所述的涂层溶液，其中X和X'独立地选自由以下各者组成的组：烷基酰胺基或二烷基酰胺基(-NR1R2，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子之烃基或氢)、硅氧代基(-OSiR1R2R3，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、硅烷基酰胺基(-N(SiR13)(R2)，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、二硅烷基酰胺基(-N(SiR13)(SiR23)，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、烷基氧代基和芳基氧代基(-OR，其中R为具有1至10个碳原子的烷基或芳基)、叠氮基(-N3)、炔基(-C≡CR，其中R为具有1至9个碳原子的烃基)、酰胺基(-NR1(COR2)，其中R1和R2独立地为具有1至7个碳原子的烃基或氢)、脒基(-NR1C(NR2)R3)，其中R1和R2独立地为具有1至8个碳原子的烃基或氢)、酰亚胺基(-N(COR1)(COR2)，其中R1和R2独立地为具有1至8个碳原子的烃基或氢)或其氟化类似物或其组合。6.如权利要求1-4中任一项所述的涂层溶液，其中X和X'独立地为-NR1R2或-OR3配位体，其中R1、R2和R3为C1-C10烷基或环烷基或其组合。7.如权利要求1-4中任一项所述的涂层溶液，其中R或R'为甲基、乙基、异丙基、正丁基、仲丁基或叔丁基。8.如权利要求1-7中任一项所述的涂层溶液，其中该溶剂为醇类、酯类或其混合物。9.一种涂层溶液，其包含：有机溶剂；相对于总金属含量至少约10摩尔百分比的第一有机金属组合物，所述第一有机金属组合物由下式表示：式RzSnO(2-(z/2)-(x/2))(OH)x，其中0<z≤2且0<(z+x)≤4；式RnSnX4-n，其中n＝1或2，或其混合物，其中R为具有1-31个碳原子的烃基且X为具有可水解Sn-X键的配位体或其组合；和相对于总金属含量至少10摩尔百分比的第二有机金属组合物，所述第二有机金属组合物由式R'ySnX'4-y表示，其中y＝1或2，其中R'为不同于R的烃基，且X'为与X相同或不同的具有可水解Sn-X'键的配位体或其组合。10.如权利要求9所述的涂层溶液，其中R为叔丁基且R'为甲基。11.如权利要求9或10所述的涂层溶液，其中X和X'独立地选自由以下各者组成的组：烷基酰胺基或二烷基酰胺基(-NR1R2，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基或氢)、硅氧代基(-OSiR1R2R3，其中R1、R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、硅烷基酰胺基(-N(SiR13)(R2)，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、二硅烷基酰胺基(-N(SiR13)(SiR23)，其中R1和R2独立地为具有1至10个碳原子的烃基)、烷基氧代基和芳基氧代基(-OR，其中R为具有1至10个碳原子的烷基或芳基)、叠氮基(-N3)、炔基(-C≡CR，其中R为具有1至9个碳原子的烃基)、酰胺基((-NR1(COR2)，其中R1和R2独立地为具有1至7个碳原子的烃基或氢)、脒基(-NR1C(NR2)R3)，其中R1和R2独立地为具有1至8个碳原子的烃基或氢)、酰亚胺基(-N(COR1)(COR2)，其中R1和R2独立地为具有1至8个碳原子的烃基或氢)或其氟化类似物或其组合。12.如权利要求9-12中任一项所述的涂层溶液，在所述溶液中具有约0.0025M至约1.5M的锡且其中所述溶剂为醇类、酯类或其混合物。13.如权利要求9-12中任一项所述的涂层溶液，进一步包括，相对于总金属含量至少10摩尔百分比的第三有机金属组合物，所述第三有机金属组合物由式R”ySnX”4-y表示，其中y＝1或2，其中R”为不同于R和R'的烃基，且X”为与X和/或X'相同或不同的具有可水...

【专利技术属性】
技术研发人员：S·T·迈耶斯，J·T·安德森，B·J·卡迪诺，J·B·埃德森，K·蒋，D·A·凯斯勒，A·J·特莱茨基，
申请(专利权)人：因普里亚公司，
类型：发明
国别省市：美国,US