光刻胶涂覆方法及涂布机技术

本发明专利技术公开一种光刻胶涂覆方法及涂布机，属于显示技术领域。该方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制基板按照第一预设速度旋转第一时长，使光刻胶向目标板面的周边区域扩散。本发明专利技术有助于解决光刻胶涂覆的难度较大的问题，降低光刻胶涂覆的难度。本发明专利技术用于光刻胶涂覆。

【技术实现步骤摘要】
光刻胶涂覆方法及涂布机
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种光刻胶涂覆方法及涂布机。
技术介绍
光刻胶(英文：Photoresist；简称：PR)又称光阻，在显示产品的制造过程中，经常需要采用涂布机(英文：Coater)在基板(衬底基板或形成有一定图形的基板)上涂覆光刻胶。相关技术中，涂布机包括转盘和喷嘴(英文：Nozzle)，转盘具有承载面，在基板上涂覆光刻胶时，将基板固定设置在转盘的承载面上，然后采用喷嘴将一定量的光刻胶喷涂在基板的目标板面的中央区域，之后控制转盘旋转，带动基板绕基板的中心旋转，在基板旋转的过程中，位于目标板面的中央区域的光刻胶在离心力的作用下向目标板面的周边区域扩散，最终在目标板面上形成光刻胶层。其中，基板的目标板面为基板上待涂覆光刻胶的一面。在实现本专利技术的过程中，专利技术人发现相关技术至少存在以下问题：光刻胶的粘度通常较大，导致光刻胶在基板上的扩散阻力较大，因此，光刻胶涂覆的难度较大。
技术实现思路
本专利技术提供一种光刻胶涂覆方法及涂布机，可以解决光刻胶涂覆的难度较大的问题。本专利技术的技术方案如下：第一方面，提供一种光刻胶涂覆方法，所述方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。可选地，在控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长之后，所述方法还包括：控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，使扩散至所述周边区域的光刻胶向所述中央区域扩散，其中，所述第二预设速度旋转小于所述第一预设速度。可选地，所述在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，包括：通过涂布机的溶剂喷涂组件在所述基板的目标板面上喷涂预设溶剂；所述在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶，包括：通过所述涂布机的胶体喷涂组件在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶。可选地，在基板的目标板面上喷涂预设溶剂之前，所述方法还包括：将所述基板固定设置在所述涂布机的旋转组件的承载面上。可选地，所述控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，包括：控制所述旋转组件按照所述第一预设速度旋转所述第一时长，带动所述基板按照所述第一预设速度旋转所述第一时长；所述控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，包括：控制所述旋转组件按照所述第二预设速度旋转所述第二时长，带动所述基板按照所述第二预设速度旋转所述第二时长。可选地，所述第一预设速度的取值范围为500转每分钟～2500转每分钟，所述第二预设速度的取值范围为100转每分钟～200转每分钟。可选地，所述第一时长的取值范围为1秒～2秒，所述第二时长的取值范围为1秒～1.5秒。可选地，所述第一预设速度的方向与所述第二预设速度的方向相同。第二方面，提供一种涂布机，所述涂布机包括：溶剂喷涂组件、胶体喷涂组件和旋转组件，所述溶剂喷涂组件用于在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；所述胶体喷涂组件用于向喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；所述旋转组件用于带动喷涂有光刻胶的所述基板旋转。可选地，所述涂布机还包括：涂布机本体，所述溶剂喷涂组件和所述胶体喷涂组件均设置在所述涂布机本体上。本专利技术提供的技术方案带来的有益效果是：本专利技术提供的光刻胶涂覆方法及涂布机，由于在基板的目标板面的中央区域喷涂光刻胶之前，在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，该预设溶剂可以对基板的目标板面进行润滑，减小光刻胶在基板上的扩散阻力，因此，有助于解决光刻胶的涂覆难度较大的问题，降低光刻胶的涂覆难度。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本专利技术。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是相关技术提供的一种涂布机的应用场景图；图2是相关技术提供的另一种涂布机的应用场景图；图3是本专利技术实施例提供的一种涂布机的结构示意图；图4是本专利技术实施例提供的一种光刻胶涂覆方法的方法流程图；图5是本专利技术实施例提供的另一种光刻胶涂覆方法的方法流程图；图6是本专利技术实施例提供的将基板设置在涂布机的旋转组件上的示意图；图7是本专利技术实施例提供的在基板的目标板面上喷涂预设溶剂的示意图；图8是本专利技术实施例提供的在基板的目标板面上喷涂预设溶剂后的示意图；图9是本专利技术实施例提供的在喷涂有预设溶剂的目标板面的中央区域喷涂光刻胶的示意图；图10是本专利技术实施例提供的在基板的目标板面上形成光刻胶层后的示意图；图11是本专利技术实施例提供的一种不同涂覆工艺形成的光刻胶层的厚度曲线对比图；图12是本专利技术实施例提供的另一种不同涂覆工艺形成的光刻胶层的厚度曲线对比图。此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本专利技术的实施例，并与说明书一起用于解释本专利技术的原理。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。随着高品质显示技术的发展(例如，分辨率的不断提高)，对显示产品的制造设备和制造工艺的要求也越来越高，例如，要求制造设备的焦深(英文：DepthofFocus；简称：DOF)较小，要求刻蚀的均一性较好，这对光刻胶涂覆工艺形成巨大挑战，因此，新技术对光刻胶涂覆的均一性的要求也不断提高。目前，通常采用涂布机涂覆光刻胶。请参考图1，其示出了相关技术提供的一种涂布机01的应用场景图，参见图1，该涂布机01包括转盘011和喷嘴012，转盘011具有承载面(图1中未标出)，喷嘴012用于喷涂光刻胶。在基板10上涂覆光刻胶时，将基板10固定设置在转盘011的承载面上，然后采用喷嘴012将一定量的光刻胶20喷涂在基板10的目标板面(图1中未标出)的中央区域，之后控制转盘012旋转带动基板10旋转，在基板10旋转的过程中，如图2所示，位于基板10的目标板面的中央区域的光刻胶20在离心力的作用下向目标板面的周边区域扩散，最终在目标板面上形成光刻胶层201。但是，光刻胶20的粘度通常较大，导致光刻胶20在基板上的扩散阻力较大，因此光刻胶涂覆的难度较大。此外，在基板10旋转的过程中，位于目标板面的中央区域的光刻胶20始终向目标板面的周边区域扩散，导致形成的光刻胶层201的均一性较差。本专利技术实施例提供的光刻胶涂覆方法及涂布机，可以解决光刻胶涂覆的难度较大以及形成的光刻胶层的均一性较差的问题，本专利技术实施例提供的光刻胶涂覆方法及涂布机请参考下述各个实施例。请参考图3，其示出了本专利技术实施例提供的一种涂布机02的结构示意图，参见图3，该涂布机02包括：溶剂喷涂组件021、胶体喷涂组件022和旋转组件023。溶剂喷涂组件021用于在基板(图3中未示出)的目标板面上喷涂预设溶剂，胶体喷涂组件022用于向基板的目标板面的中央区域喷涂光刻胶，旋转组件023用于带动喷涂有光刻胶的基板旋转，使基板上的光刻胶本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶涂覆方法，其特征在于，所述方法包括：在基板的目标板面上喷涂预设溶剂；在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶；控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，使所述光刻胶向所述目标板面的周边区域扩散。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长之后，所述方法还包括：控制所述基板按照第二预设速度旋转第二时长，使扩散至所述周边区域的光刻胶向所述中央区域扩散，其中，所述第二预设速度旋转小于所述第一预设速度。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述在基板的目标板面上喷涂预设溶剂，包括：通过涂布机的溶剂喷涂组件在所述基板的目标板面上喷涂预设溶剂；所述在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶，包括：通过所述涂布机的胶体喷涂组件在喷涂有所述预设溶剂的所述目标板面的中央区域喷涂光刻胶。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在基板的目标板面上喷涂预设溶剂之前，所述方法还包括：将所述基板固定设置在所述涂布机的旋转组件的承载面上。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述控制所述基板按照第一预设速度旋转第一时长，包括：控制所述旋转组件按照所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘文渠，董立文，党宁，张锋，王峰超，吕志军，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11