磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法，通过超声波清洁喷砂铝板的磨砂面，得到符合要求的磨砂面；然后采用真空蒸发法镀制铝膜，接着继续在高真空镀膜机内立即镀制多层介质膜，即得。该方法制备的磨砂面上的高漫反射铝膜反射率高，可见区范围内可达95％以上，解决了磨砂面上镀制高反射膜的反射率低的问题。

【技术实现步骤摘要】
磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法
本专利技术属于光学元件的发射膜镀制技术，尤其涉及一种磨砂面上的高漫反射铝膜及其制备方法。
技术介绍
由于激光光源色彩纯正、亮度高、使用稳定等优点，故激光显示技术是当今发展的方向，其中在经喷砂的铝板上镀对可见区光区(380nm～780nm)高反射的铝膜就是其中的一个光电元件。通常高反射膜均是镀在“镜面”，也称“光面”上的，其反射率是符合光学的反射定理，但随着科技的发展，有的产品上需在将高反射膜镀在经喷砂(200目左右)的“毛面”也称“磨砂面”上。在光学薄膜领域中，"磨砂面″与"镜面″的差别在于其表面的平整程度，前者凹凸不平、坑坑洼洼，后者平整、光滑，"磨砂面″上的反射率指的是漫反射率，而我们通常所称的"反射率″实际是指"镜面反射率″。其中，漫反射率的反射方向是向各个方向的，测量时需要采用带有积分球的分光光度计来测量。综上所述，如果要在"磨砂面″上镀高反射膜，专利技术人首先考虑到将现有技术中"镜面″上镀高反射膜的工艺应用到"磨砂面″上镀高反射膜的思路，而如何可以有效地将"镜面″上镀高反射膜的工艺应用到"磨砂面″上镀高反射膜正是本专利技术需要解决的关键问本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种磨砂面上的高漫反射铝膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)清洁喷砂铝板的磨砂面，获得符合要求的磨砂面；2)将符合要求的磨砂面采用真空蒸发法镀制铝膜；3)将步骤2)中已镀好的铝膜立即镀制多层介质膜，即得。

【技术特征摘要】
1.一种磨砂面上的高漫反射铝膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)清洁喷砂铝板的磨砂面，获得符合要求的磨砂面；2)将符合要求的磨砂面采用真空蒸发法镀制铝膜；3)将步骤2)中已镀好的铝膜立即镀制多层介质膜，即得。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤1)中具体的清洁步骤如下：先采用超声波法清洗喷砂铝板的磨砂面，然后脱水，烘干；然后采用离子束氩离子刻蚀清洗；步骤2)、步骤3)均是在高真空镀膜机中完成的。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于：所述超声波清洗依次包括如下步骤：去油污-自来水漂洗-纯水漂洗两次-切水并慢拉干燥。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤2)中在镀制铝膜时，其真空度大于1.5×10-3Pa，铝的蒸发速率控制在1.0nm/s～1.2nm/s，所述铝膜的几何厚度为450～500nm；所述蒸发速率与所述几何厚度均采用石英晶体控制仪控制。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：步骤3)中所述多层介质膜由如下制备方法获得：在镀制铝膜完成后，立即仍在高真空镀膜机内依次镀Al2O3层、第一SiO2层、第二SiO2层、ZrO2层，即得。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，镀所述多层介质膜时，可选用离子源辅助蒸镀技术或溅射辅助技术；其中更为优选地是在镀第二SiO2层、ZrO2层时，需采用离子源辅助蒸镀技术。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：镀Al...

【专利技术属性】
技术研发人员：范皓洋，
申请(专利权)人：苏州市唯嘉光学有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32