The utility model discloses an orthogonal holographic interferometric photolithography system for making a surface Raman enhanced substrate. The system uses a laser and a light propagation direction to adjust a four minute wave plate, a Glan polarizing prism, and a reflection mirror set in the transmission light path after the Glan polarizing prism. The interference photolithography system is set up for the half wave plate of the TM polarized light to TE polarized light, the reflection mirror set by the Glan polarizing prism after the reflection light path, the grating substrate coated with the photoresist film at the coherence of the transmission light path and the reflected light path, and so on, which successfully solved the large area surface pull by simple equipment. It is difficult to accurately control the substrate when the substrate is enhanced.
【技术实现步骤摘要】
一种制作表面拉曼增强基底的正交全息干涉光刻系统该申请是申请号:201621060927.5,申请日2016年09月19日的名为:一种全息作表面拉曼增强基底的装置的分案申请。
本技术涉及光谱学元件加工领域,特别是涉及表面拉曼增强基底的制备装置。
技术介绍
拉曼光谱是物质分子的“指纹”光谱,可以用来有效反映待测分子的结构特征信息的分析技术,但研究发现,经过散射后观察所得到的信号强度非常的弱,检测信号常常被淹没在噪声中,这一缺点曾经一度的限制了其在实际的检测分析方面的应用。Fleischmann等人于1974年对光滑银电极表面进行粗糙化处理后,首次获得吸附在银电极表面上单分子层吡啶分子的高质量的拉曼光谱。随后VanDuyne及其合作者通过系统的实验和计算发现吸附在粗糙银表面上的每个吡啶分子的拉曼散射信号与溶液相中的吡啶的拉曼散射信号相比,增强约6个数量级,指出这是一种与粗糙表面相关的表面增强效应,被称为表面增强拉曼光谱效应。利用表面增强拉曼散射技术检测之时,基于基底金属表面的粗糙化的结构特征,其分子信号的增强效果非常明显,而且它在检测过程中所具有的对待测的物质的非破坏性及高效的优良性能,使得表面增强拉曼散射效应在发现以来得以应用于众多的科学领域。众所周知,增强基底的制备是获得较好拉曼光谱信号的关键;纳米线、纳米颗粒、树枝晶、纳米薄膜、纳米阵列、核.壳结构等都可以作为拉曼光谱增强基底。在近几年的研究发展中,拉曼增强基底的制备一直以来备受研究者的重视,高效稳定的拉曼增强基底对于分子检测的过程起着至关重要的作用;它往往需要具有一定规律有序的粗糙性结构才更能有利于测试过 ...
【技术保护点】
1.一种制作表面拉曼增强基底的正交全息干涉光刻系统,其特征在于:由激光器、光线传播方向上依次设置的用于调整激光器发出光偏振态的四分之一波片、格兰偏振棱镜、光线经过格兰偏振棱镜后透射光路上设置的反射镜、用于将TM偏振光换成TE偏振光的半波片、光线经过格兰偏振棱镜后反射光路上设置的反射镜、设置于透射光路与反射光路相干处的涂有光刻胶薄膜的光栅基片组成;其中光线经过格兰偏振棱镜后的透射光为TM偏振光、光线经过格兰偏振棱镜后的反射光为TE偏振光。
【技术特征摘要】
1.一种制作表面拉曼增强基底的正交全息干涉光刻系统,其特征在于:由激光器、光线传播方向上依次设置的用于调整激光器发出光偏振态的四分之一波片、格兰偏振棱镜、光线经过格兰偏振棱镜后透射光路上设置的反射镜、用于将TM偏振光换成TE偏振光的半波片、光线经过格兰偏振棱镜后反射光路上设置的反射镜、设置于透射光路与反射光路相干处的涂有光刻胶薄膜的光栅基片组成;其中光线经过格兰偏振棱镜后的透射光为TM偏振光、光线经过格兰偏振棱镜后的反射光为TE偏振光。2.根据权利要求1所述的制作表面拉曼增强基底的正交全息干涉光刻系统,其特征在于:光线经过所述格兰偏振棱镜后反射光和透射光的光强相等...
【专利技术属性】
技术研发人员:邹文龙,蔡志坚,吴建宏,
申请(专利权)人:苏州大学,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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