【技术实现步骤摘要】
掩膜对准装置用基板升降装置
本专利技术涉及掩膜对准装置中的利用于升降基板的基板升降装置。
技术介绍
一般而言,液晶显示装置(LCD,LiquidCrystalDisplay)、有机发光显示装置(OLED,OrganicLightEmittingDiodes)、等离子显示板(PDP,PlasmaDisplayPanel)、电泳显示装置(EPD,ElectrophoreticDisplay)等显示装置以及太阳能电池等的产品经过各种工艺制造而成。在所述制造工艺包括:在基板沉积薄膜的沉积工艺;蚀刻在基板沉积的薄膜的蚀刻工艺。通过沉积工艺、蚀刻工艺等在基板形成所需形状的薄膜的过程中,将利用掩膜(Mask)。对此,在基板以及掩膜相互贴合的状态下对基板进行沉积工艺、蚀刻工艺等。在此,在对准基板和掩膜之间的位置来贴合基板和掩膜的工艺中,利用掩膜对准装置。掩膜对准装置包括基板升降装置,以用于对准基板和掩膜之间的位置。对于掩膜对准装置的
技术介绍
公开于韩国公开专利公报第10-2014-0021832号(2014年2月21日公开)。图1是现有技术的基板升降装置的概略性平面图;图2以及图3是示例性示出一般的基板与掩膜的概略性仰视图。参照图1至图3,现有技术的基板升降装置100包括:通过升降单元(未示出)升降的销板110以及结合于所述销板110的升降销120。所述升降销120支撑所述基板200。所述升降销120在支撑所述基板200的状态下,所述升降销120随着所述销板110升降一同升降,同时升降所述基板200。在所述销板110结合多个所述升降销120。多个所述升降销120结合于所述销 ...
【技术保护点】
1.一种掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,包括:可变升降销,用于支撑基板;可升降的销板;升降部,用于升降所述销板;以及切换部,结合所述可变升降销;所述切换部包括切换部件,所述切换部件切换于支撑模式以及解除模式之间,其中所述支撑模式是由所述销板支撑所述切换部,进而通过所述销板升降所述可变升降销进行升降来支撑所述基板;所述解除模式是解除对所述销板的支撑,以使所述销板对所述可变升降销单独进行升降。
【技术特征摘要】
2016.12.09 KR 10-2016-01676851.一种掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,包括:可变升降销,用于支撑基板;可升降的销板;升降部,用于升降所述销板;以及切换部,结合所述可变升降销;所述切换部包括切换部件,所述切换部件切换于支撑模式以及解除模式之间,其中所述支撑模式是由所述销板支撑所述切换部,进而通过所述销板升降所述可变升降销进行升降来支撑所述基板;所述解除模式是解除对所述销板的支撑,以使所述销板对所述可变升降销单独进行升降。2.根据权利要求1所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,包括:升降销,用于支撑基板;所述升降销结合于所述销板;所述可变升降销位于从所述升降销间隔的位置。3.根据权利要求1或2所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,包括:所述切换部包括可旋转地结合于所述切换部件的结合部件;若所述切换部件切换至所述支撑模式,则由所述销板支撑所述切换部件,以与所述销板一同升降的同时升降所述结合部件;所述可变升降销结合于所述结合部件,以与所述结合部件一同升降。4.根据权利要求1或2所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,包括:所述切换部包括:切换凸起,从所述切换部件凸出形成;以及变动部件,旋转所述切换部件,以改变所述切换凸起面向的方向;所述销板包括:支撑部件,用于支撑所述切换凸起;以及通过孔,用于使所述切换凸起通过;所述变动部件切换至所述支撑模式,旋转所述切换部件,以使所述支撑部件支撑所述切换凸起;所述变动部件切换至所述解除模式,旋转所述切换部件,以使所述切换凸起插入于所述通过孔。5.根据权利要求4所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述销板分别包括多个所述支撑部件以及多个所述通过孔,以所述切换部件的旋转轴为中心交替配置所述支撑部件以及所述通过孔。6.根据权利要求4所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述支撑部件包括:支撑槽,插入所述切换凸起;第一诱导部件,诱导所述切换凸起插入于所述支撑槽;其中,所述支撑部件支撑插入于所述支撑槽的切换凸起;所述第一诱导部件包括第一诱导面,所述第一诱导面倾斜形成,越向所述支撑槽侧延伸高度越低;所述变动部件旋转所述切换部件,以使所述切换凸起安装在所述第一诱导面;若所述切换凸起安装在所述第一诱导面,则所述切换凸起沿着所述第一诱导面下降的同时进行旋转,进而插入于所述支撑槽。7.根据权利要求6所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述第一诱导部件包括用于支撑所述切换凸起的第一限制面;所述切换部件被支撑所述切换凸起的第一限制面限制旋转的同时上升,直至所述切换凸起位于比所述第一限制面更高的位置;所述变动部件使所述切换部件上升之后旋转所述切换部件,使所述切换凸起安装在所述第一诱导面,直至所述切换凸起位于比所述第一限制面更高的位置。8.根据权利要求4所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述支撑部件包括第二诱导部件,所述第二诱导部件诱导所述切换凸起插入于所述通过孔;所述第二诱导部件包括第二诱导面,所述第二诱导面倾斜形成,越向所述通过孔侧延伸高度越低;所述变动部件旋转所述切换部件,以使所述切换凸起安装在所述第二诱导面;若所述切换凸起安装在所述第二诱导面,则所述切换凸起沿着所述第二诱导面下降的同时进行旋转,进而插入于所述通过孔。9.根据权利要求8所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述第二诱导部件包括第二限制面,所述第二限制面用于支撑所述切换凸起;所述切换部件被支撑所述切换凸起的第二限制面限制旋转的同时上升,直至所述切换凸起位于比所述第二限制面更高的位置;所述变动部件是使所述切换部件上升之后旋转所述切换部件,以使所述切换凸起安装在所述第二诱导面,直至所述切换凸起位于比所述第二限制面更高的位置。10.根据权利要求4所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述支撑部件包括:第一诱导部件,诱导切换至所述支撑模式;以及第二诱导部件,诱导切换至所述解除模式;其中,所述第一诱导部件包括第一诱导面,所述第一诱导面倾斜形成,越向所述第二诱导部件侧延伸高度越低;所述变动部件旋转所述切换部件,以使所述切换凸起安装在所述第一诱导面;若所述切换凸起安装在所述第一诱导面,则所述切换凸起沿着所述第一诱导面下降的同时进行旋转,进而由所述第二诱导部件支撑所述切换凸起。11.根据权利要求10所述的掩膜对准装置用基板升降装置,其特征在于,所述第二诱导部件包括第二限制面,所述第二限制面用于支撑所述切换凸起;所述切换凸起沿着所述第一诱导面下降的同时进行旋转,进而由所述第二限制面支撑所述切换凸起,...
【专利技术属性】
技术研发人员:金镇喆,裵莹宰,韩庆准,徐汉基,
申请(专利权)人:亚威科股份有限公司,DAS株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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