【技术实现步骤摘要】
本技术属于一种区熔单晶硅炉。
技术介绍
传统的单晶硅炉主要用于生产硅半导体材料,单晶硅炉包括硅半导体材料生长合成的上中下炉膛、及旋转硅籽晶糸统和电控自动糸统。硅籽晶质量很大程度上取决于上中下炉膛的真空度,但传统的单晶硅炉抽真空结构设计不合理,使上中下炉膛内真空度仅为3Pa,使生产出的硅籽晶质量很差,造成产品正品率低,抽真空结构使用制作成本高,维修麻烦。
技术实现思路
本技术的目的是设计一种区熔单晶硅炉,使其能用简单的结构提高炉膛内的真空度,以提高硅籽晶质量,达到理想的使用效果。为此,本技术采用中炉膛中部一侧通过真空管道相通复合分子泵的抽气口,复合分子泵的抽气口与真空管道之间设有真空挡板阀,复合分子泵通过分子泵固定栓固接在支架上。上述结构达到了本技术的目的。本技术的优点是能用简单的结构提高炉膛内的真空度,真空度可达到5×10-4以上,大幅提高了硅籽晶质量,达到理想的使用效果,大幅度提高了产品的正品率,且结构简单,制作使用成本低,维修和使用简便效果好。附图说明图1为本技术的结构示意图图2为图1的俯视结构示意图具体实施方案如图1至图2所示,一种区熔单晶硅炉,由支架1、地脚14、传动支架2、上炉膛3、下炉膛5和中炉膛4所组成。中炉膛中部一侧通过真空管道6、7相通复合分子泵11的抽气口。复合分子泵的抽气口与真空管道之间设有真空挡板阀10,复合分子泵通过分子泵固定栓12固接在支架上。所述的上炉膛通过炉膛支架8与支架固接。中炉膛下端为下炉膛,中炉膛上端为上炉膛,中炉膛上下端与上下炉膛互相贯通。上下炉膛的上下端设传动支架,传动支架上设带动伸入炉膛内的传动轴转动。支架下端设有 ...
【技术保护点】
一种区熔单晶硅炉,由支架、地脚、传动支架、上炉膛、下炉膛和中炉膛所组成,其特征在于:中炉膛中部一侧通过真空管道相通复合分子泵的抽气口,复合分子泵的抽气口与真空管道之间设有真空挡板阀,复合分子泵通过分子泵固定栓固接在支架上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张志新,王军,安桂正,
申请(专利权)人:北京京运通真空设备厂,
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]
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