【技术实现步骤摘要】
一种光敏陶瓷材料
本专利技术涉及一种陶瓷材料，尤其涉及一种光敏陶瓷材料。
技术介绍
光敏陶瓷主要是半导体陶瓷，其导电机理分为本征光导和杂质光导。对本征半导体陶瓷材料，当入射光子能量大于或等于禁带宽度时，价带顶的电子跃迁至导带，而在价带产生空穴，这一电子-空穴对即为附加电导的载流子，使材料阻值下降；对杂质半导体陶瓷，当杂质原子未全部电离时，光照能使未电离的杂质原子激发出电子或空穴，产生附加电导，从而使阻值下降。不同波长的光子具有不同的能量，因此，一定的陶瓷材料只对应一定的光谱产生光导效应，所以有紫外(0.1～0.4微米）、可见光（0.4～0.76微米）和红外（0.76～3微米）光敏陶瓷。
技术实现思路
为解决上述存在的问题，本专利技术提供一种具有半导体特性，电阻率低，灵敏度高，成本低廉的光敏陶瓷材料。本专利技术解决上述技术问题采用的技术方案为：一种光敏陶瓷材料，由以下质量份数的原料制成：碳化硅14-18份，钛酸钡3-4份，高岭土40-50份，石英砂20-30份，三氧化二铁7-9份，二氧化锡4-6份，二氧化硅3-6份，二氧化钛5-6份，氧化锌3-5份，氧化钴4-6份，氧化铂3-4份，硫化铂2-3份，硫化铜3-5份，二氧化锆6-10份，氮化铝5-7份，硅藻土14-18份，甲基三乙酰氧基硅烷5-8份，锗1-2份。上述的光敏陶瓷材料，由以下质量份数的原料制成：碳化硅16份，钛酸钡3.5份，高岭土45份，石英砂25份，三氧化二铁8份，二氧化锡5份，二氧化硅5份，二氧化钛5.5份，氧化锌4份，氧化钴5份，氧化铂3.6份，硫化铂2.4份，硫化铜4份，二氧化锆8份，氮化铝6份，...
【技术保护点】
一种光敏陶瓷材料，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：碳化硅14‑18份，钛酸钡3‑4份，高岭土40‑50份，石英砂20‑30份，三氧化二铁7‑9份，二氧化锡4‑6份，二氧化硅3‑6份，二氧化钛5‑6份，氧化锌3‑5份，氧化钴4‑6份，氧化铂3‑4份，硫化铂2‑3份，硫化铜3‑5份，二氧化锆6‑10份，氮化铝5‑7份，硅藻土14‑18份，甲基三乙酰氧基硅烷5‑8份，锗1‑2份。
【技术特征摘要】
1.一种光敏陶瓷材料，其特征在于：由以下质量份数的原料制成：碳化硅14-18份，钛酸钡3-4份，高岭土40-50份，石英砂20-30份，三氧化二铁7-9份，二氧化锡4-6份，二氧化硅3-6份，二氧化钛5-6份，氧化锌3-5份，氧化钴4-6份，氧化铂3-4份，硫化铂2-3份，硫化铜3-5份，二氧化锆6-10份，氮化铝5-7份，硅藻土14-18份，甲基三乙酰氧基硅...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。