The invention relates to a humidifying device for sealing gas of immersion lithography machine. The invention comprises a humidifier box, a weighing water level control and a sensor protection module, a water temperature control module, a bubble generating and pressing module. The weighing water level control and sensing protection module are set at the bottom of the humidifier box, and the water temperature control module and the bubble generation and pressing module are all set inside the humidifier box. The invention uses high temperature sintered pure titanium aeration head to differentiate bubbles, increase the contact area of humidification, control the water temperature inside the humidifier through the temperature sensor, heater and other temperature control devices, increase the rate of humidification, control the humidity of the output gas, and control the water in the humidifier through the weighing sensor; and use the clean water to clean the humidifier. The raw materials avoid two pollution; form a clean and humidifying device that automatically obtains relative humidity. The automatic water level control is not affected by the flow rate; the overflow protection device and the water level alarm device are more reliable.
【技术实现步骤摘要】
一种浸没式光刻机密封气体的加湿装置
本专利技术属于洁净压力气体的加湿
,涉及一种浸没式光刻机密封气体的加湿装置。
技术介绍
浸没式光刻机于干式光刻机的基础上,在投影物镜和光刻硅片中间填充高折射率的液体,使得曝光辐照具有更小的波长,从而获得更高的分辨率和焦深。光刻机中常采用超纯水作为浸没液,并使用局部浸没方式,这种浸没方式是把投影物镜固定,最后一个物镜头始终浸没在水中,为了保证在扫描时浸没液流场的稳定,需要持续的供给浸没液,以及在浸没液周围持续供给超纯空气用于浸没液的密封。这里,由于密封气体的供给,会造成硅片表面的液膜蒸发,从而引起硅片的变形,此时就会导致光刻机投影偏置,致使刻蚀误差加大。为此,就需要一个有效的加湿装置进行超纯密封气体的加湿,保证密封气体的湿度在一个较高的程度,以减少蒸发率,保证刻蚀精度。
技术实现思路
本专利技术的目的就是提供一种浸没式光刻机密封气体的加湿装置。本专利技术包括加湿器箱体、称重水位控制及传感保护模块、水温控制模块、气泡发生及压制模块。所述的称重水位控制及传感保护模块设置在加湿器箱体底部,水温控制模块和气泡发生及压制模块均设置在加湿器箱体内部。所述的加湿器箱体包括下密封法兰、上密封法兰、箱体。上密封法兰固定设置在箱体箱壁底部,下密封法兰与上密封法兰两端紧固安装,下密封法兰上顶面与上密封法兰下底面贴合;水温控制模块包括温度传感器和加热器。温度传感器垂直密封法兰设置在箱体中部;加热器有两个,两个加热器中线在正视方向与温度传感器中线重合,以温度传感器为中轴线对称设置。气泡发生及压制模块包括钛粉曝气头和丝网滤泡板。钛粉曝气头有两个,以 ...
【技术保护点】
一种浸没式光刻机密封气体的加湿装置,包括加湿器箱体、称重水位控制及传感保护模块、水温控制模块、气泡发生及压制模块;其特征在于:所述的称重水位控制及传感保护模块设置在加湿器箱体底部,水温控制模块和气泡发生及压制模块均设置在加湿器箱体内部;所述的加湿器箱体包括下密封法兰、上密封法兰、箱体;上密封法兰固定设置在箱体箱壁底部,下密封法兰与上密封法兰两端紧固安装,下密封法兰上顶面与上密封法兰下底面贴合;水温控制模块包括温度传感器和加热器;温度传感器垂直下密封法兰设置在箱体中部;加热器有两个,两个加热器中线在正视方向与温度传感器中线重合,以温度传感器为中轴线对称设置;气泡发生及压制模块包括钛粉曝气头和丝网滤泡板;钛粉曝气头有两个,以温度传感器为中轴线左右对称设置;钛粉曝气头通过穿板管接头固定在箱底,与外部的供气管道连接;丝网滤泡板设置在箱体内顶部;所述的温度传感器的底部、两个钛粉曝气头的底部与两个加热器的底部均用螺纹固定在密封法兰下底面,温度传感器的顶部、两个钛粉曝气头的顶部与两个加热器的顶部穿过下密封法兰和上密封法兰伸入箱体中;在上密封法兰与箱体连接平面中部设置前后两个起盖螺钉;下密封法兰下底面 ...
【技术特征摘要】
1.一种浸没式光刻机密封气体的加湿装置,包括加湿器箱体、称重水位控制及传感保护模块、水温控制模块、气泡发生及压制模块;其特征在于:所述的称重水位控制及传感保护模块设置在加湿器箱体底部,水温控制模块和气泡发生及压制模块均设置在加湿器箱体内部;所述的加湿器箱体包括下密封法兰、上密封法兰、箱体;上密封法兰固定设置在箱体箱壁底部,下密封法兰与上密封法兰两端紧固安装,下密封法兰上顶面与上密封法兰下底面贴合;水温控制模块包括温度传感器和加热器;温度传感器垂直下密封法兰设置在箱体中部;加热器有两个,两个加热器中线在正视方向与温度传感器中线重合,以温度传感器为中轴线对称设置;气泡发生及压制模块包括钛粉曝气头和丝网滤泡板;钛粉曝气头有两个,以温度传感器为中轴线左右对称设置;钛粉曝气头通过穿板管接头固定在箱底,与外部的供气管道连接;丝网滤泡板设置在箱体内顶部;所述的温度传感器的底部、两个钛粉曝气头的底部与两个加热器的底部均用螺纹固定在密封法兰下底面,温度传感器的顶部、两个钛粉曝气头的顶部与两个加热器的顶部穿过下密封法兰和上密封法兰伸入箱体中;在上密封法兰与箱体连接平面中部设置前后两个起盖螺钉;下密封法兰下底面设置有进水接口、出水接口,进水接口、出水接口一端焊接在下密封法兰上,并与在箱体内部相通,另一端伸出下密封法兰下底面连接有柔性软管;箱体顶部开有出气口;与进水接口、出水接口连接的柔性软管上分别设置有进水电磁阀和出水电磁阀;进水接...
【专利技术属性】
技术研发人员:付新,于志伟,徐宁,
申请(专利权)人:浙江启尔机电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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