生产电子韧铜的工艺方法技术

技术编号:1784161 阅读:205 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提出的一种电子韧铜,其成分为:按重量比,Cu≥99.90%、O:50~600PPm,余量P≤0.003%、Fe≤0.005%及不可避免的杂质。生产电子韧铜的工艺方法为:在配料上采用紫铜旧料和阴极铜,紫铜旧料用量(重量)≯70%,使用感应炉进行敞开式熔炼;注入转炉并采用木炭、石墨或其它炭质物质作为覆盖剂进行保温及控制氧含量;使用半连续铸造机及结晶器并用可调节的N↓[2]气体保护进行铸造,在保温及铸造中氧含量控制在50~600PPM之间,经后续变形加工获得软状态(M)、1/4硬状态(Y↓[4])、半硬状态(Y↓[2])、3/4硬状态(Y↓[1])的韧铜材料。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有色金属材料及加工
,主要提出。
技术介绍
随着电子化、自动化、信息化及网络化发展,有色金属材料在电子行业的应用越来越普遍,同时对电子材料的性能要求也比较高,特别是对电子材料的导电率提出更高的要求硬状态超过98%IACS、软状态达100%IACS以上。因此,涉及真空和非真空用电子元器件用金属材料,通常采用无氧铜材料,无氧铜必须用高纯阴极铜作原料生产,其主要生产工艺粗铜、杂铜、残级→熔解→氧化→还原→铸铜阳极板→电解→高纯阴极铜板→剪切→烘干→熔炼→静止脱氧→铸造等,其中,熔炼、静止脱氧、铸造必需采取覆盖、气体保护、密封等工艺在完全密闭的隔绝空气状态下生产。无氧铜材料广泛用于有高韧性、高导电率要求的真空和非真空用电子元器件,但其成本较高、工艺繁多,且生产中无氧铜的成分控制较为严格,最少要达到30PPm以下,甚至5PPm以下,同时后续变形加工中的旧料逐月累计,消化受到限制,造成物流不畅,资金大量积压,或者降级作为原料使用,增加了成本。另外,铜合金其导电率铰低,满足不了电子行业对材料高导电率的要求,仅有银铜和高铜合金的导电率较高,但它们同样存在生产成本高和生产工艺比本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子韧铜,本专利技术特征是:其成分为:按重量比,Cu≥99.90%、O:50~600PPm,余量P≤0.003%、Fe≤0.005%及不可避免的杂质。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:钟卫佳牛立业黄亚飞余学涛郭淑梅黄自欣程万林黄春梅游金阁朱景明王庆彦
申请(专利权)人:中铝洛阳铜业有限公司
类型:发明
国别省市:41[中国|河南]

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