一种静态卤制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种静态卤制装置，主要包括容器、缓冲层、循环泵，所述容器位于缓冲层上方，所述容器两侧设有溢流槽，且溢流槽连通缓冲层，溢流槽上设有过滤网，过滤网呈倾斜设置。容器中设有料槽，缓冲层底部设有加热装置，缓冲层具有出液口通过管道、循环泵连接容器，且管道与容器连接处设有阀门。料槽位于容器中央，且料槽设有若干通孔，容器上设有若干支架，循环泵与阀门联动，且均由时间继电器控制启闭。本实用新型专利技术利用上层卤制，下层加热卤水并反馈至上层进行静态卤制，可保证食材进行清卤水卤制，减少人工操作工序，提高效率，降低成本。

A static halogen system

The utility model provides a static halogen system, which mainly comprises a container, a buffer layer and a circulating pump. The container is located above the buffer layer, a overflow slot is provided on both sides of the container, and the overflow slot is connected to the buffer layer. The overflow tank is provided with a filter net and the filter net is tilted. A tank is provided in the container. A heating device is set at the bottom of the buffer layer. The buffer layer has a liquid outlet through a pipe and a circulating pump to connect the container, and a valve is provided at the junction of the pipe and the container. The trough is located in the center of the container, and there are a number of through holes. There are several supports on the container. The circulation pump is linked with the valve, and all of them are controlled by the time relay. The utility model uses the upper halogen system to heat the brine in the lower layer and feed back to the upper layer to carry out static halogen system, which can guarantee the cooking of the material for halogen-free halogen, reduce the manual operation process, improve the efficiency and reduce the cost.

【技术实现步骤摘要】
一种静态卤制装置
本技术涉及卤制用食品加工设备，特指一种静态卤制装置。
技术介绍
目前，现有的卤制机大多是将食材与香料辅料一同放入容器中，通过蒸煮进行卤制，其过程较为简单，卤制过程中由于卤水高温滚热，食材在容器中翻滚，容易导致食材破损，影响外观，且高温卤制很难控制火候，操作人员需要时刻盯着食材，定时捞起查看卤制状态，工作量大，耗时长，效率低。
技术实现思路
本技术的目的在于针对已有的技术现状，提供一种静态卤制装置，以使通过静态的高温卤水进行卤制，加热源不与食材直接接触，可更好控制卤水温度，减少人工操作工序，提高效率。为达到上述目的，本技术采用如下技术方案：本技术为一种静态卤制装置，主要包括容器、缓冲层、循环泵，所述容器位于缓冲层上方，所述容器两侧设有溢流槽，且溢流槽连通缓冲层，溢流槽上设有过滤网，容器中设有料槽，缓冲层底部设有加热装置，缓冲层具有出液口通过管道、循环泵连接容器，且管道与容器连接处设有阀门。上述方案中，料槽位于容器中央，且料槽设有若干通孔。进一步的，容器上设有若干支架。优选的，过滤网呈倾斜设置。进一步的，循环泵与阀门联动，且均由时间继电器控制启闭。进一步的，加热装置为电加热器或燃气炉。本技术的有益效果为：本技术利用上层容器卤制，下层加热卤水并反馈至上层进行静态卤制的方式，保证容器中的卤水温度均匀，可避免食材翻滚，减少香料辅料溢散使卤水浑浊，实现食材进的清卤水卤制，减少人工操作工序，提高效率，降低成本。附图说明附图1为本技术的结构示意图。具体实施方式为了使审查委员能对本技术之目的、特征及功能有更进一步了解，兹举较佳实施例并配合图式详细说明如下：请参阅图1所示，系为本技术之较佳实施例的结构示意图，本技术为一种静态卤制装置，主要包括容器1、缓冲层2、循环泵3，所述容器1位于缓冲层2上方，所述容器1两侧设有溢流槽11，且溢流槽11连通缓冲层2，溢流槽11上设有过滤网4，容器中1设有料槽5，缓冲层2底部设有加热装置6，加热装置6为电加热器或燃气炉。缓冲层2具有出液口通过管道21、循环泵3连接容器1，且管道21与容器1连接处设有阀门8，循环泵3与阀门8联动，且均由时间继电器控制启闭，以控制容器1中液位高度。卤制过程中，循环泵3将缓冲层2的高温卤水抽取至容器1中，使容器1中的卤水不断上升，对食材进行加热卤制的同时，上升的卤水至溢流槽11处溢流进入缓冲层2，重新在缓冲层2中加热，再通过循环泵3抽取反馈至容器1中，如此循环。料槽5位于容器1中央，且料槽5设有若干通孔51，香料等辅料放置于料槽5中，即可为卤水增加风味，又可避免卤水浑浊。同时，过滤网4呈倾斜设置，可有效阻挡卤制过程中食材产生的碎屑，避免碎屑进入缓冲层2中，影响循环泵3的工作。容器1上设有若干支架7，可将待卤制的食材通过挂钩吊挂于支架7上，方便捞取。当然，以上图示仅为本技术较佳实施方式，并非以此限定本技术的使用范围，故，凡是在本技术原理上做等效改变均应包含在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静态卤制装置，主要包括容器（1）、缓冲层（2）、循环泵（3），所述容器（1）位于缓冲层（2）上方，其特征在于：所述容器（1）两侧设有溢流槽（11），且溢流槽（11）连通缓冲层（2），溢流槽（11）上设有过滤网（4），容器中（1）设有料槽（5），缓冲层（2）底部设有加热装置（6），缓冲层（2）具有出液口通过管道（21）、循环泵（3）连接容器（1），且管道（21）与容器（1）连接处设有阀门（8）。

【技术特征摘要】
1.一种静态卤制装置，主要包括容器（1）、缓冲层（2）、循环泵（3），所述容器（1）位于缓冲层（2）上方，其特征在于：所述容器（1）两侧设有溢流槽（11），且溢流槽（11）连通缓冲层（2），溢流槽（11）上设有过滤网（4），容器中（1）设有料槽（5），缓冲层（2）底部设有加热装置（6），缓冲层（2）具有出液口通过管道（21）、循环泵（3）连接容器（1），且管道（21）与容器（1）连接处设有阀门（8）。2.根据权利要求1所述的一种静态卤制装置，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：林舜韬，
申请(专利权)人：广东无尽食品有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44