一种磁路材料外观检测的光学装置制造方法及图纸

技术编号:17811138 阅读:70 留言:0更新日期:2018-04-28 04:36
本发明专利技术公开了一种磁路材料外观检测的光学装置,包括与相机相连的图像处理器,所述相机的镜头前设置有光学成像机构,所述光学成像机构包括放置在待测物体外围的反光镜、用于给所述反光镜提供光源的背光板、用于将所述反光镜的反射光折射至所述相机镜头的分光镜,所述分光镜发出的光束与相机的光轴平行的同轴光线;所述分光镜与所述反光镜之间还设置有改变光线折射率的回字元件。通过反光镜、分光镜的使用,使得一个相机能够对待测物体的五个部分同时进行拍摄,并通过回字元件让“回”字形最内侧“口”和外围“口”的补集区域的折射率不同,通过折射率之间的差异来计算景深差距,解决待测物体景深不一致问题。

【技术实现步骤摘要】
一种磁路材料外观检测的光学装置
本专利技术涉及检测设备领域,尤其涉及一种磁路材料外观检测的光学装置。
技术介绍
现有技术中针对磁路材料(待测物体)进行检测,需要在磁路与磁路材料外围架设5个相机对磁路材料的5个面分别进行拍摄,并将拍摄后的图片通过IO传输到图像处理器进行相应处理。上述处理过程中无法很好的解决待测物体景深不一致问题,同时多个相机也增加成本。
技术实现思路
为克服上述缺点,本专利技术的目的在于提供一个相机拍摄待测物体5个面的光学检测装置,通过折射率之间的差异来确认景深差距。为了达到以上目的,本专利技术采用的技术方案是:一种光学检测装置,包括与相机相连的图像处理器,所述相机的镜头前设置有光学成像机构,所述光学成像机构包括放置在待测物体外围的反光镜、用于给所述反光镜提供光源的背光板、用于将所述反光镜的反射光折射至所述相机镜头的分光镜,所述分光镜发出的光束与相机的光轴平行的同轴光线;所述分光镜与所述反光镜之间还设置有改变光线折射率的回字元件。本专利技术通过反光镜、分光镜的使用,使得一个相机能够对待测物体的五个部分同时进行拍摄,并通过回字元件让“回”字形最内侧“口”和外围“口”的补集区本文档来自技高网...
一种磁路材料外观检测的光学装置

【技术保护点】
一种磁路材料外观检测的光学装置,包括与相机(3)相连的图像处理器,所述相机(3)的镜头前设置有光学成像机构,所述光学成像机构包括放置在待测物体(6)外围的反光镜(4)、用于给所述反光镜(4)提供光源的背光板(1)、用于将所述反光镜(4)的反射光折射至所述相机(3)镜头的分光镜(2),所述分光镜(2)发出的光束与相机(3)的光轴平行的同轴光线;其特征在于:所述分光镜(2)与所述反光镜(4)之间还设置有改变光线折射率的回字元件(5)。

【技术特征摘要】
1.一种磁路材料外观检测的光学装置,包括与相机(3)相连的图像处理器,所述相机(3)的镜头前设置有光学成像机构,所述光学成像机构包括放置在待测物体(6)外围的反光镜(4)、用于给所述反光镜(4)提供光源的背光板(1)、用于将所述反光镜(4)的反射光折射至所述相机(3)镜头的分光镜(2),所述分光镜(2)发出的光束与相机(3)的光轴平行的同轴光线;其特征在于:所述分光镜(2)与所述反光镜(4)之间还设置有改变光线折射率的回字元件(5)。2.根据权利要求1所述的光学装置,其特征在于:所述回字元件(5)包括无色透明玻璃材质制成的透镜本体(51),所述透镜本体(51)内设置有居中开孔(56)、右侧分镜(52)、上侧分镜(53)、下侧分镜(54)、左侧分镜(55),所述右侧分镜(52)设置在所述居中开孔(56)的右侧,所述上侧分镜(53)设置在所述居中开孔(56)的上侧,所述下侧分镜(54)设置在所述居中开孔(56)的下侧,所述左侧分镜(55)设置在所述居中...

【专利技术属性】
技术研发人员:张振蔡园园
申请(专利权)人:科为升视觉技术苏州有限公司
类型:发明
国别省市:江苏,32

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