包含刻划装置的刻划设备和刻划玻璃带的方法制造方法及图纸

一种包含刻划装置的刻划设备。所述刻划装置包括：支承元件，安装其用于相对于基底进行转动和轴向移动；刻划元件，其与支承元件的转轴相距某一偏移距离而安装；和限制装置，其限制支承元件的转动。在另一个实例中，刻划设备的刻划装置包括相对于流体轴承安装的支承元件。在另一个实例中，公开了使用所述刻划设备刻划玻璃带的方法。

An engraved device containing a scratching device and a method of drawing a glass belt

An engraved device that contains a marking device. The scoring device comprises a supporting element, which is installed for rotation and axial movement with respect to the substrate, and the carving element is installed with an offset distance from the rotating shaft of the supporting element, and the limiting device limits the rotation of the supporting element. In another example, the engraving device of the depiction device includes a supporting element installed with respect to the fluid bearing. In another example, a method of using the depiction device to engrave a glass band is disclosed.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包含刻划装置的刻划设备和刻划玻璃带的方法本申请依据35U.S.C.§119要求于2015年8月28日提交的系列号为62/211046的美国临时申请的优先权权益，本文以该申请的内容为基础并将其通过引用全文纳入本文。
本公开一般地涉及刻划设备和刻划方法，更具体地，涉及包含刻划装置的刻划设备和刻划玻璃带的方法。
技术介绍
从玻璃带中分离玻璃片是已知的。已知的分离技术可包括在玻璃带中形成刻划线以促进玻璃片沿着刻划线从玻璃带中分离。
技术实现思路
下文给出了本公开的简化归纳，以便提供对具体实施方式所描述的一些示例性方面的基本理解。根据第一个方面，刻划设备包括刻划装置，所述刻划装置包括相对于基底安装的支承元件，其中，所述支承元件可相对于基底围绕支承元件的转轴旋转。支承元件还可以相对于基底沿着支承元件的转轴的轴向进行移动。刻划装置还包括刻划元件，所述刻划元件与支承元件的转轴相距某一偏移距离而结合到支承元件的外端。刻划装置还包括限制装置，所述限制装置限制支承元件围绕支承元件的转轴的转动。如在本文中所使用的，术语结合在第一物体结合到第二物体的上下文中可意为直接结合(例如第一物体直接安装到或连接到第二物体)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种包含刻划装置的刻划设备，其包括：结合到基底的支承元件，所述支承元件可围绕转轴旋转并且可沿着支承元件的转轴所限定的轴向移动；刻划元件，其与支承元件的转轴相距一偏移距离而结合到支承元件的外端；和限制装置，其限制支承元件围绕支承元件的转轴转动。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.28 US 62/211,0461.一种包含刻划装置的刻划设备，其包括：结合到基底的支承元件，所述支承元件可围绕转轴旋转并且可沿着支承元件的转轴所限定的轴向移动；刻划元件，其与支承元件的转轴相距一偏移距离而结合到支承元件的外端；和限制装置，其限制支承元件围绕支承元件的转轴转动。2.如权利要求1所述的刻划设备，其中，限制装置包括突出物，所述突出物从支承元件和基底中的一者中延伸出来，所述突出物位于由支承元件和基底中的另一者所限定的细长开口中。3.如权利要求2所述的刻划设备，其中，细长开口沿着由细长开口限定的行进路径轴向变细，以使得对支承元件围绕支承元件的转轴转动的限制根据细长开口中的突出物的位置而沿着行进路径变化。4.如权利要求2所述的刻划设备，其中，支承元件可位于完全延伸的轴向位置中，以使得限制装置对支承元件提供围绕转轴转动的第一限制，并且支承元件还可位于至少部分缩回的轴向位置中，其中，限制装置对支承元件提供围绕转轴转动的第二限制，所述转动的第二限制大于转动的第一限制。5.如权利要求1所述的刻划设备，其中，基底包括流体轴承，构造所述流体轴承以利用流体垫支承所述支承元件。6.如权利要求5所述的刻划设备，其中，刻划装置还包括摩擦元件，所述摩擦元件偏向支承元件和基底中的一者，摩擦元件对支承元件的转动提供预定的阻力。7.如权利要求1所述的刻划设备，还包括支承装置，构造所述支承装置以在刻划元件刻划玻璃带的第一主表面时支承玻璃带的第二主表面。8.如权利要求7所述的刻划设备，其中，支承装置包括支承辊，构造所述支承辊以在刻划元件刻划玻璃带的第一主表面时接合玻璃带的第二主表面。9.一种使用如权利要求1所述的刻划装置刻划玻璃带的方法，所述方法包括：将刻划元件降落在玻璃带的第一主表面上；通过相对于玻璃带横移刻划元件而利用刻划元件产生刻划线；和在支承元件的转轴的轴向上，将支承元件相对于基底从完全延伸的轴向位置移动到至少部分缩回的轴向位置，其中，在支承元件位于所述至少部分缩回的轴向位置的同时，刻划元件产生具有裂口深度的刻划线的一部分。10.如权利要求9所述的方法，还包括在刻划装置沿着刻划线的部分以裂口深度刻划的同时，使用基本恒定的力将刻划元件压向玻璃带。11.如权利要求9所述的方法，还包括将支承元件的转动限制在在完全延伸的轴向位置中围绕转轴转动的第一限制。12.如权利要求11所述的方法，还包括将支承元件的转动限制在在所述至少部分缩回的轴向位置中围绕转轴转动的第二限制，所述转动的第二限制大于转动的第一限制。13.如权利要求9所述的方法，还包括用流体垫支承所述支承元件，所述流体垫有助于支承元件围绕支承元件的转轴转动，并且还有助于支承元件沿着支承元件的转轴的轴向进行轴向移动。14.如权利要求13所述的方法，还包括对支承元件的转动施加预定的阻力。15.如权利要求9所述的方法，还包括：将支承元件降落在玻璃带的第二主表面上；和使支承元件与刻划元件一起横移，同时利用刻划元件产生刻划线。16.一种包含刻划装置的刻划设备，其包括：支承元件，其安装于具有流体轴承的基底，所述支承元件可围绕支承元件的转轴旋转；和刻划元件，其与支承元件的转轴相距一偏移距离而安装于支承元件的外端。17.如权利要求16所述的刻划设备，其中，支承元件可沿着支承元件的转轴的轴向移动。18.如权利要求16所述的刻划设备，还包括限制装置，所述限制装置限制支承元件围绕支承元件的转轴转动。19.如权利要求18所述的刻划设备，还包括摩擦元件，所述摩擦元件偏向支承元件和基底中的一者，摩擦元件对支承元件的转动提供预定的...

【专利技术属性】
技术研发人员：N·D·卡瓦拉奥三世，ZS·常，K·M·希尔，Y·K·卡洛士，G·D·特雷切勒，
申请(专利权)人：康宁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国,US