显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质制造方法及图纸

技术编号:17710199 阅读:16 留言:0更新日期:2018-04-14 21:39
本发明专利技术提供了一种显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质。所述检测方法包括:聚焦步骤:调整相机的镜头使得所述相机的镜头相对于显示面板处于聚焦状态;第一图像拍摄步骤:拍摄显示面板中显示预设灰阶时的图像画面,以得到第一图像;子像素级Mura判断步骤:根据所述第一图像判断所述显示面板是否出现子像素级Mura,其中,所述子像素级Mura指显示面板的一个或者多个子像素形成的Mura。本发明专利技术方法、检测装置及计算机可读存储介质可以检测子像素级Mura,为Mura补偿提供准确数据。

【技术实现步骤摘要】
显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质
本专利技术涉及显示面板的检测方法,具体涉及一种显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质。
技术介绍
Mura是指显示器亮度不均匀,造成各种痕迹的现象。Mura缺陷来源比较多,从显示面板制程工艺的各个环节均会产生,主要包括以下几种:在喷涂过程中,膜厚不均匀的滤光片会导致光经过后颜色不均;薄膜晶体管(TFT)由于其多层结构,在每层结构的相对位置也会很容易因错位而产生Mura;液晶材料分布不均匀性以及高度差异也可造成Mura现象;偏光片来料不良会导致偏贴,形成Mura;背光源发光不均匀或排列设计不合理时,也会形成各种Mura;此外,生产过程中异物、粉尘的进入,都会造成Mura缺陷。在平板显示技术中,有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)显示器具有轻薄、主动发光、响应速度快、可视角大、色域宽、亮度高和功耗低等众多优点,逐渐成为继液晶显示器后的第三代显示技术。与液晶显示器一样,OLED显示器也存在块状大Mura。另外,由于OLED显示器的每一个子像素均单独发光,不同像素之间的亮度差异也会严重影响良率。因而,除了对块状的大Mura进行检测外,也需要对子像素级的细小Mura进行精确检测检测。
技术实现思路
基于现有光学检测方法的不足,本专利技术提供一种显示面板Mura的检测方法,在镜头聚焦的情况下获取显示面板影像数据,来准确检测子像素级小Mura,具体技术方案如下:一种显示面板Mura的检测方法,所述检测方法包括:聚焦步骤:调整相机的镜头使得所述相机的镜头相对于显示面板处于聚焦状态;第一图像拍摄步骤:拍摄显示面板中显示预设灰阶时的图像画面,以得到第一图像;子像素级Mura判断步骤:根据所述第一图像判断所述显示面板是否出现子像素级Mura,其中,所述子像素级Mura指显示面板的一个或者多个子像素形成的Mura。优选的,所述聚焦步骤包括:调整相机的镜头的焦距,并每隔预设时间拍摄显示面板显示预设灰阶时的画面,以得到多个第一子图像;判断第n个第一子图像的清晰度是否大于或等于所述第(n-1)个第一子图像的清晰度,且是否大于或等于所述第(n+1)个第一子图像的清晰度;当所述第n个第一子图像的清晰度大于或等于所述第(n-1)个第一子图像的清晰度,且大于或等于所述第(n+1)个第一子图像的清晰度时,判断所述相机的镜头拍摄所述第n个第一子图像时的状态为聚焦状态,将所述相机的镜头调整到拍摄所述第n个第一子图像时的状态以使得所述相机的镜头处于聚焦状态,其中,n大于等于2。优选的,所述子像素级Mura判断步骤的判断方式包括:将所述第一图像进行数据化,以得到第一原始脉冲信号;根据第一图像得到第一位移图像,并根据所述第一位移图像得到第一脉冲信号;根据第一图像得到第二位移图像,并根据所述第二位移图像得到第二脉冲信号,且所述第二位移图像与所述第一位移图像存在重叠区域;根据所述第一原始脉冲信号、所述第一脉冲信号及所述第二脉冲信号确定所述子像素级Mura。优选的,所述检测方法还包括:当根据所述第一图像判断出所述显示面板出现子像素级Mura时,提供第一补偿数据,并将所述第一补偿数据提供给显示面板,以消除所述子像素级Mura。优选的,所述检测方法还包括:失焦步骤:调整相机的镜头使得所述相机的镜头相对于显示面板处于失焦状态;第二图像拍摄步骤:拍摄显示面板中显示预设灰阶时的图像画面,以得到第二图像;像素级Mura判断步骤:根据所述第二图像判断所述显示面板是否出现像素级Mura,其中,所述像素级Mura指显示面板的一个或者多像素形成的Mura。优选的,所述失焦步骤是指调整相机镜头直到摩尔纹消失时的状态,具体方法为:调整相机的镜头的焦距,并每隔预设时间拍摄显示面板显示预设灰阶时的画面,以得到多个第二子图像;当所述第n个第二子图像中的摩尔纹消失时,判断所述相机的镜头拍摄所述第n个第二子图像时的状态为失焦状态,将所述相机的镜头调整到拍摄所述第n个第二子图像时的状态以使得所述相机的镜头处于失焦状态,其中,n大于等于2。优选的,所述检测方法还包括:当根据所述第二图像判断出所述显示面板出现像素级Mura时,提供第二补偿数据,并将所述第二补偿数据提供给显示面板,以消除所述像素级Mura。本专利技术还提供一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储了用于显示面板Mura的检测的程序,其中,所述程序被执行的时候执行如上面所述的检测方法。本专利技术还提供一种Mura检测装置,包括存储器及处理器,所述存储器存储了用于显示面板Mura的检测的程序,所述处理器从所述存储器里读取所述程序,以执行上面所述的检测方法。本专利技术的有益效果:通过相机在聚焦状态可以检测子像素级Mura,在失焦状态下检测像素级Mura,为显示面板的Mura补偿提供准确的数据。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术显示面板Mura检测方法所包括的流程图。图2为本专利技术显示面板Mura检测方法中的聚焦步骤所包括的流程图。图3为本专利技术显示面板Mura检测方法中的检测的子像素级Mura示意图。图4为本专利技术显示面板Mura检测方法中的子像素级Mura判断步骤所包括的流程图。图5为本专利技术显示面板Mura检测方法中的判断子像素级Mura的示意图。图6为本专利技术显示面板Mura检测方法中的失焦步骤所包括的流程图。图7为本专利技术显示面板Mura检测方法中的检测的像素级Mura示意图。图8为本专利技术实施例提供的Mura检测装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术的说明书和权利要求书及所述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别不同对象,而不是用于描述特定顺序。此外,术语“包括”和“具有”以及它们任何变形,意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元,而是可选地还包括没有列出的步骤或单元,或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本专利技术的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。基于现有光学检测方法的不足,本专利技术提供一种显示面板Mura的检测方法,在镜头聚焦的情况下获取显示面板影像数据,来准确检测子像素级小Mura。具体实施例如下:参阅图1,本实施例提供一种显示面板Mura的检测方法,所述检测方法包括但不仅限于包括步骤S100、S本文档来自技高网...
显示面板Mura的检测方法、检测装置及计算机可读存储介质

【技术保护点】
一种显示面板Mura的检测方法,其特征在于,所述检测方法包括:聚焦步骤:调整相机的镜头使得所述相机的镜头相对于显示面板处于聚焦状态;第一图像拍摄步骤:拍摄显示面板中显示预设灰阶时的图像画面,以得到第一图像;子像素级Mura判断步骤:根据所述第一图像判断所述显示面板是否出现子像素级Mura,其中,所述子像素级Mura指显示面板的一个或者多个子像素形成的Mura。

【技术特征摘要】
1.一种显示面板Mura的检测方法,其特征在于,所述检测方法包括:聚焦步骤:调整相机的镜头使得所述相机的镜头相对于显示面板处于聚焦状态;第一图像拍摄步骤:拍摄显示面板中显示预设灰阶时的图像画面,以得到第一图像;子像素级Mura判断步骤:根据所述第一图像判断所述显示面板是否出现子像素级Mura,其中,所述子像素级Mura指显示面板的一个或者多个子像素形成的Mura。2.根据权利要求1所述的检测方法,其特征在于,所述聚焦步骤包括:调整相机的镜头的焦距,并每隔预设时间拍摄显示面板显示预设灰阶时的画面,以得到多个第一子图像;判断第n个第一子图像的清晰度是否大于或等于所述第(n-1)个第一子图像的清晰度,且是否大于或等于所述第(n+1)个第一子图像的清晰度;当所述第n个第一子图像的清晰度大于或等于所述第(n-1)个第一子图像的清晰度,且大于或等于所述第(n+1)个第一子图像的清晰度时,判断所述相机的镜头拍摄所述第n个第一子图像时的状态为聚焦状态,将所述相机的镜头调整到拍摄所述第n个第一子图像时的状态以使得所述相机的镜头处于聚焦状态,其中,n大于等于2。3.根据权利要求1所述的检测方法,其特征在于,所述子像素级Mura判断步骤的判断方式包括:将所述第一图像进行数据化,以得到第一原始脉冲信号;根据第一图像得到第一位移图像,并根据所述第一位移图像得到第一脉冲信号;根据第一图像得到第二位移图像,并根据所述第二位移图像得到第二脉冲信号,且所述第二位移图像与所述第一位移图像存在重叠区域;根据所述第一原始脉冲信号、所述第一脉冲信号及所述第二脉冲信号确定所述子像素级Mura。4.根据权利要求1所述的检测方法,其特征在于,所述检测方法还包括:当根据所述第一图像判断出所述显...

【专利技术属性】
技术研发人员:田念
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:湖北,42

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