双面抛光机驱动结构制造技术

一种双面抛光机驱动结构，包括底座、上抛光盘、下抛光盘、第一驱动机构以及能容置待加工工件的工件盘，所述第一驱动机构设置于底座上，所述工件盘位于所述上抛光盘和下抛光盘之间，所述工件盘能在第一驱动机构的作用下来回运动；所述工件盘上还设置有第二驱动机构和转动件，所述第二驱动机构驱动转动件带动工件转动，在加工过程中，工件不仅能够自身旋转，还能在第一驱动机构带动工件盘的作用下实现直线运动，进而完成工件自转和直线运动的结合，能够更加全面、精细的对待加工工件进行抛光。

Double side polishing machine driving structure

A driving structure of a double sided polishing machine, which comprises a base, an upper polishing disk, the polishing pad, a first driving mechanism and the holding plate workpiece of workpiece, the first driving mechanism is arranged on the base plate between the workpiece positioned on the upper polishing disk and polishing, the workpiece in the first disc the driving mechanism and down movement; the workpiece tray is also provided with a second drive mechanism and a rotary member, the second rotating driving mechanism drives the workpiece rotate in the machining process, the workpiece can not only its rotation, but also to achieve linear motion in the first disc drive mechanism drives the workpiece under the action of combination and the workpiece rotation and linear motion, can be more comprehensive, meticulous treatment of workpiece polishing.

【技术实现步骤摘要】
双面抛光机驱动结构
本专利技术涉及研磨抛光
，尤其涉及一种双面抛光机。
技术介绍
光学仪器的高速发展对光学元件提出了更高的要求，其中大口径光学元件加工要求具有很高的表面形状精度，还需要通过制造缺陷的消除大幅度改善表面微观质量，从而获得超光滑光学表面，传统的双面抛光机驱动结构一般采用电机带动，通过中心轮和外齿圈带动行星齿轮传动系统实现工件盘被动旋转，中心轮和外齿圈的速比决定工件的旋转速度，能调整的范围较窄，无法加工高精度的光学元件，所以难以满足现代科技对光学元件的高精度要求。专利号为CN201610227367.6(公开公告号为CN106312778A)的中国专利技术专利就提出了《一种大口径光学元件双面抛光机》，其采用既能摆动又能自转的上抛光盘结构，使上抛光盘同时对工件进行摆动抛光和环形抛光，提高了抛光效率，并且使抛光轨迹更加均匀，解决了面形易发生踏边、翘角的问题，该抛光机虽然在一定程度上提高了加工的精度，但其抛光的程度仍然不够全面、精细，仍然无法满足行业需求。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是针对上述的技术现状而提供一种能使待加工工件同时进行自转和直线运动的双面抛光机驱动结构。本专利技术解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种双面抛光机驱动结构，包括底座、上抛光盘、下抛光盘、第一驱动机构以及能容置待加工工件的工件盘，所述第一驱动机构设置于底座上，所述工件盘位于所述上抛光盘和下抛光盘之间，所述工件盘能在第一驱动机构的作用下来回运动；所述工件盘上还设置有第二驱动机构和转动件，所述的转动件上设有工件的设置区域，所述第二驱动机构驱动转动件带动工件转动。为实现待加工工件的直线运动，优选地，所述第一驱动机构包括第一电机和传动件，所述第一电机通过所述传动件连接所述工件盘并驱动工件盘平移。具体地，所述传动件为丝杠，所述丝杠一端通过丝杠螺母连接所述工件盘，所述丝杠另一端通过联轴器与第一电机输出轴相连接。为配合容置有待加工工件的工件盘位移，优选地，所述底座上还设置有滑轨，前述工件盘底部设置有对应所述滑轨的滑块，所述工件盘在第一电机的驱动下带动滑块在所述滑轨内滑动。为实现待加工工件的自转，优选地，所述转动件设置于所述工件盘一侧，所述第二驱动机构包括传动齿轮和第二电机，所述转动件通过传动齿轮连接所述第二电机。优选地，所述工件盘上开设有容置待加工工件的通孔，该通孔即为工件的设置区域。为便于调控直线运动的距离，优选地，所述底座上还设置有光栅尺，所述光栅尺端部设置有光栅读数头。优选地，所述上抛光盘通过升降装置(未标出)能在工件盘上方上下运动，这样，不仅便于取放待加工工件，还可以调整不同高度的工件其加工空间的间距，该升降装置为常规技术，在这里不做详尽描述。与现有技术相比，本专利技术的优点在于：本装置中工件盘位于所述上抛光盘和下抛光盘之间，工件盘载有待加工工件，在加工过程中，转动件带动工件旋转，第一驱动机构带动工件盘整体直线运动，进而完成工件自转和直线运动的结合，能够更加全面、精细的对待加工工件进行抛光。附图说明图1为本专利技术实施例中省略上抛光盘后的俯视图；图2为本专利技术实施例中第一驱动机构和工件盘工作示意图；图3为图2沿A—A方向的剖面图；图4为本专利技术实施例中工件盘结构示意图。具体实施方式以下结合附图实施例对本专利技术作进一步详细描述。如图1至4所示，在本实施例中的双面抛光机驱动结构包括底座1、上抛光盘2、下抛光盘3、第一驱动机构4以及能容置待加工工件的工件盘5，上抛光盘2通过升降装置能在工件盘5上方上下运动，第一驱动机构4设置于底座1上，工件盘5位于上抛光盘2和下抛光盘3之间，工件盘5能在第一驱动机构4的作用下来回运动；工件盘5上还设置有第二驱动机构53和转动件51，第二驱动机构53驱动转动件51带动工件转动，工件盘5上开设有容置待加工工件的通孔52，具体地，通孔52设置于转动件51上，底座1上还设置有光栅尺，光栅尺8上设置有光栅读数头81。第一驱动机构4包括第一电机41和传动件42，第一电机41通过传动件42连接工件盘5并驱动工件盘5平移，传动件42为丝杠，丝杠一端通过连接板421工件盘5，丝杠另一端通过丝杠螺母422以及联轴器423与第一电机41输出轴相连接。底座1上还设置有滑轨6，前述工件盘5底部设置有对应滑轨6的滑块7，工件盘5在第一电机41的驱动下带动滑块7在滑轨6内滑动。转动件51设置于工件盘5一侧，第二驱动机构53包括传动齿轮531和第二电机532，转动件51通过传动齿轮531连接第二电机532。工作时，待加工工件放入通孔54中，下抛光盘3旋转，第二电机532启动，带动传动齿轮531转动，与之啮合的转动件51也开始转动，待加工工件随着转动件51的转动一起转动，此时上抛光盘2开始转动，上抛光盘2通过升降装置下降至相应位置，使上、下抛光盘同时双面抛光工件；随后第一电机41其启动，通过丝杠螺母422以及联轴器423带动丝杠42直线运动，在丝杠42的带动下，工件盘5以及容置于其内的待加工工件一起沿下抛光盘3的直径方向做平移运动，对于工件来说，自身转动的同时，还在做直线运动，这些运动共同完成待加工工件的双面高精度抛光。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面抛光机驱动结构，包括底座(1)、上抛光盘(2)、下抛光盘(3)、第一驱动机构(4)以及能容置待加工工件的工件盘(5)，所述第一驱动机构(4)设置于底座(1)上，所述工件盘(5)位于所述上抛光盘(2)和下抛光盘(3)之间，其特征在于：所述工件盘(5)能在第一驱动机构(4)的作用下来回运动；所述工件盘(5)上还设置有第二驱动机构(53)和转动件(51)，所述的转动件上设有工件的设置区域，所述第二驱动机构(53)驱动转动件(51)带动工件转动。

【技术特征摘要】
1.一种双面抛光机驱动结构，包括底座(1)、上抛光盘(2)、下抛光盘(3)、第一驱动机构(4)以及能容置待加工工件的工件盘(5)，所述第一驱动机构(4)设置于底座(1)上，所述工件盘(5)位于所述上抛光盘(2)和下抛光盘(3)之间，其特征在于：所述工件盘(5)能在第一驱动机构(4)的作用下来回运动；所述工件盘(5)上还设置有第二驱动机构(53)和转动件(51)，所述的转动件上设有工件的设置区域，所述第二驱动机构(53)驱动转动件(51)带动工件转动。2.根据权利要求1所述的双面抛光机驱动结构，其特征在于：所述第一驱动机构(4)包括第一电机(41)和传动件(42)，所述第一电机(41)通过所述传动件(42)连接所述工件盘(5)并驱动工件盘(5)平移。3.根据权利要求2所述的双面抛光机驱动结构，其特征在于：所述传动件(42)为丝杠，所述丝杠一端通过连接板(421)所述工件盘(5)，所述丝杠另一端通过丝杠螺母(422)以及联轴器(423)与第一电机(41)输出...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂凤明，王大森，张广平，裴宁，李晓静，
申请(专利权)人：中国兵器科学研究院宁波分院，
类型：发明
国别省市：浙江,33