The present invention relates to the field of semiconductor manufacturing equipment, a cooling member and vacuum coating apparatus is disclosed, including a cooling plate and a rotating mechanism, wherein the cooling plate comprises a plurality of cooling, the cooling section is communicated with the cooling fluid in the pipeline, the rotating mechanism includes a drive member and a rotating shaft, one end of the driving piece and the the shaft is connected, the other end of the rotating shaft and the connecting cooling. A rotating mechanism driving cooling plate in a rotating cooling, cooling condition, substrate cooling chamber and a parallel, increasing the cooling area, improve the cooling efficiency; non cooling condition, the driving part drives the rotating cooling, the substrate and the cooling chamber vertically, reducing cooling area, improve the heating efficiency, fast switch the process temperature, reduce production time and improve the equipment capacity, saving energy consumption.
【技术实现步骤摘要】
一种冷却构件及真空镀膜设备
本专利技术涉及半导体生产设备领域,特别是涉及一种冷却构件及真空镀膜设备。
技术介绍
在薄膜太阳能电池组件中,薄膜层起到光电转换的作用,其性能在很大程度上决定了电池片的光电转换效率,即电池片的关键性能参数。薄膜层一般采用MOCVD(MetalOrganicChemicalVaporDeposition,金属有机化学气相沉积)的加工方式进行材料生长,而MOCVD生产设备非常昂贵,在整条薄膜太阳能电池片生产线中,MOCVD设备成本占据非常高的比例,其产能的提高能够极大的降低电池片的制造成本。MOCVD的机理是一种热化学反应,在较高的温度下(一般在几百到1000摄氏度之间),真空腔室中通入特定的工艺气体以及金属有机物源,进行化学反应,在基片上生长出特定材料的薄膜层。一个连续工艺过程(一般持续几分钟到几十分钟之间)往往分为几个阶段,在不同的阶段,工艺温度和工艺气体会有变化,工艺气体种类切换和流量控制,当前已经有很多成熟的零部件以及控制方法可用,但工艺温度的快速切换将影响电池片膜层生长工艺的总时间,影响到设备产能。MOCVD工艺腔室在真空条件下工作 ...
【技术保护点】
一种冷却构件,其特征在于,包括冷却板和旋转机构,所述冷却板包括若干根冷却条,所述冷却条与冷却液管路连通,所述旋转机构包括驱动件和转轴,所述驱动件与所述转轴的一端连接,所述转轴的另一端与所述冷却条连接。
【技术特征摘要】
1.一种冷却构件,其特征在于,包括冷却板和旋转机构,所述冷却板包括若干根冷却条,所述冷却条与冷却液管路连通,所述旋转机构包括驱动件和转轴,所述驱动件与所述转轴的一端连接,所述转轴的另一端与所述冷却条连接。2.如权利要求1所述的冷却构件,其特征在于,所述冷却板还包括框架,所述冷却条设于所述框架内,所述框架上设有用以所述转轴穿过的穿孔。3.如权利要求1所述的冷却构件,其特征在于,所述冷却条设有与所述转轴适配的贯穿孔,所述冷却条与所述转轴同步转动。4.如权利要求1所述的冷却构件,其特征在于,所述驱动件为电机或气缸。5.如权利要求2所述的冷却构件,其特征在于,所述框架与所述转轴的材质均为不锈钢材质。6.一种真空镀膜设备,其特征在于,包括...
【专利技术属性】
技术研发人员:管长乐,
申请(专利权)人:北京创昱科技有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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