吸波贴片及其制造方法技术

本发明专利技术提出了一种吸波贴片及其制造方法，该吸波贴片的制造方法包括：将N个吸波层依次叠置，获得叠层结构，其中，N≥2；对叠层结构进行进行一段硫化处理；对一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理，以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面，形成吸波贴片。本发明专利技术通过采用二段硫化的成型方式，形成非平行的曲面界面，该曲面界面有利于增加入射电磁波在界面透射与散射的次数以及加强产生波叠加的干涉效果，从而增大吸波贴片的有效吸波频宽，同时，经硫化完全的多层结构吸波贴片界面结合力好，不会发生脱层现象。

【技术实现步骤摘要】
吸波贴片及其制造方法
本专利技术涉及超材料领域，具体来说，涉及一种吸波贴片及其制造方法。
技术介绍
随着电子行业的发展，越来越多的电子电器产品走进了人们的生活，而这些产品带来的电磁辐射对环境的影响也日益增加。电子产品释放的电磁波，会给周围的其它电子设备带来电磁干扰，使其工作异常；同时也会对人体健康造成危害。因此，研发能够削弱电磁辐射的吸波材料，已经成为材料科学关注的热门课题。吸波材料是指能够有效吸收入射电磁波并使其衰减的一类材料，它通过不同的损耗机制将入射电磁波转化成热能或者其它能量形式以达到吸波的目的。吸波材料中，贴片型吸波材料厚度薄，使用方便，对于降低电磁辐射、防止电磁干扰有很好的效果，比较适合应用在电子产品中。目前，吸波贴片包括单层吸波贴片和多层结构的吸波贴片，其中，单层吸波贴片存在着吸波频带窄的问题，无法达到宽频的吸收效果，而多层结构的吸波贴片的制造方法采用的是将不同的吸波层采用热轧粘合或粘结剂层间黏合的方式，从而构建多层结构的吸波贴片，但是该多层结构的吸波材料的表面与层间界面平行，从而导致入射电磁波与界面的夹角不会发生变化，电磁波层间干涉效果较弱，且长时间使用易发生脱层现象本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种吸波贴片的制造方法，其特征在于，包括：将N个吸波层依次叠置，获得叠层结构，其中，N≥2；对所述叠层结构进行进行一段硫化处理；对所述一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理，以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面，形成所述吸波贴片。

【技术特征摘要】
1.一种吸波贴片的制造方法，其特征在于，包括：将N个吸波层依次叠置，获得叠层结构，其中，N≥2；对所述叠层结构进行进行一段硫化处理；对所述一段硫化处理后的叠层结构进行二段硫化处理，以使任意两个吸波层的相邻界面变为曲形界面，形成所述吸波贴片。2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述吸波贴片的外表面与所述相邻界面为非平行界面。3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，进一步包括：所述一段硫化温度为80℃～140℃，所述一段硫化时间为10min～20min，硫化压强为0.5MPa～5MPa。4.根据权利要求3所述的制造方法，其特征在于，所述一段硫化时间为30min。5.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：深圳光启尖端技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：广东,44