蒸镀用UV前处理设备制造技术

本发明专利技术提供一种蒸镀用UV前处理设备，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口；UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层；有益效果为：本发明专利技术提供的蒸镀用UV前处理设备，通过在蒸镀用UV前处理设备的腔室内壁设置吸光层，以吸收部分UV光，避免UV光通过腔室内壁反射到TFT阵列基板的TFT器件上，使得TFT器件免受UV光照射，保证TFT器件的电性不被影响。

UV pretreatment equipment for evaporation plating

The invention provides a plating processing equipment, with UV comprises a shell, wherein the inside of the casing with the curing chamber; one end of the shell is provided with a feed inlet, the housing relative to the other end is provided with a discharge port; the UV light source is arranged in the curing chamber internal; the curing chamber the inner wall is provided with a light absorbing layer; the beneficial effect of plating processing equipment with UV before the invention provides a steam chamber through the wall plating processing equipment with UV before steam setting of the light absorbing layer, to absorb UV light, avoid TFT device chamber wall is reflected to the TFT array substrate UV luminous flux on the TFT device from UV light irradiation, ensure electrical TFT devices are not affected.

【技术实现步骤摘要】
蒸镀用UV前处理设备
本专利技术涉及显示面板制造领域，尤其涉及一种蒸镀用UV前处理设备。
技术介绍
在显示面板制备工艺中，存在对TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)阵列基板的透明金属部分进行UV(紫外光)处理的工序，然而，TFT对UV处理较为敏感，即使TFT阵列基板中存在遮光层，经过UV处理后的基板电性依然会发生较大变化,但UV处理是蒸镀段不可缺少的前处理工艺。综上所述，现有技术对TFT阵列基板进行UV处理时，会对TFT阵列基板的TFT器件造成电性影响，进而导致TFT阵列基板的品质降低，影响显示面板的显示效果。
技术实现思路
本专利技术提供一种蒸镀用UV前处理设备，能够吸收部分区域的UV光，进而避免UV光照射到TFT阵列基板的TFT器件，以解决UV光对TFT阵列基板的TFT器件造成电性影响的技术问题。为解决上述问题，本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种蒸镀用UV前处理设备，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口；UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层。根据本专利技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口；UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层。

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，包括：壳体，所述壳体内部具有固化腔室；所述壳体的一端设置有进料口，所述壳体的相对另一端设置有出料口；UV光源，设置于所述固化腔室内部；其中，所述固化腔室内壁设置有吸光层。2.根据权利要求1所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述UV光源设置于所述固化腔室的顶面，所述吸光层设置于所述固化腔室的底面及四周。3.根据权利要求2所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述固化腔室内设置有基台，所述基台设置于所述固化腔室的底面，所述基台上承载有待UV处理的TFT阵列基板。4.根据权利要求3所述的蒸镀用UV前处理设备，其特征在于，所述TFT阵列基板包括：玻璃基板；遮光层图案，形成于所述玻璃基板表面；缓冲层，制备于所述玻璃基板表面，且覆盖所述遮光层图案；TFT器件，设置于所述缓冲层表面，且与所述遮光层图案相对应；间绝缘层，制备于所述缓冲层表面，且覆盖所述TFT器件；钝化层，制备于所述间绝缘层表面；平坦化层，制备于所述钝化层表面；阳极金属图案，制备于所述平坦化层表面；其中，所述TFT阵列基板设置有阳极金属图案的一侧靠近所述UV光源。5...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘兆松，徐源竣，任章淳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44