The invention discloses a TSV test circuit and a testing method based on the switched capacitor, which relates to the semiconductor field. The equivalent resistance of TSV unit test circuit comprises a plurality of equivalent resistance module based on each module corresponds to a equivalent resistance measured through silicon vias, test ports and the corresponding equivalent resistance module to be tested through silicon vias test is connected with the charging end charging port equivalent resistor module all connected together in order to form the equivalent resistance unit; charging power output end of the public test unit and the equivalent resistance unit is connected with the public test unit according to the first control signal third control input of the third control signal and the first control input, second control state of charge and discharge control signal to be measured through silicon vias and two control the input to test through output test output test results through silicon vias.
【技术实现步骤摘要】
基于开关电容的TSV测试电路及测试方法
本专利技术属于半导体领域,尤其涉及一种基于开关电容的TSV(Through-SiliconVia,穿透硅通孔)测试电路及测试方法。
技术介绍
随着半导体行业的发展,摩尔定律受到越来越多的挑战,互连线延迟已经远远超过门电路延迟而导致了一系列时序、功耗、耦合和串扰问题。面对集成电路在发展与创新上的需求,基于TSV的三维集成电路(Three-dimensionalintegratedcircuit,3DIC)通过TSV结构将多层硅片进行垂直互连,有效地克服二维集成电路的缺点,以更小的体积容纳更为丰富的功能,成为下一代集成电路的发展趋势。在三维集成电路技术中,TSV作为多层芯片间的垂直互连对整个芯片的信号完整性有着重要的影响。由于TSV在三维非存储逻辑集成中的工艺尚未完全成熟,TSV形成或晶片绑定过程中产生的缺陷直接导致三维集成芯片的良品率较低。根据相关报道,晶片绑定前TSV的失效率为0.005%到5%;晶片垂直绑定中,由于减薄、氧化等工艺过程,TSV的成品率进一步降低,这些因素严重影响三维集成电路芯片的良品率,阻碍三维集成电路市场化。因此,如何保证待绑定芯片中TSV的有效性和可靠性是实现三维集成电路大规模应用必须解决的问题之一。而该问题最直接的解决方法就是在三维集成电路绑定前对TSV进行有效的测试。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决三维集成电路绑定前对TSV进行有效的测试的问题,现提供一种在三维集成电路绑定前对TSV进行有效的测试的基于开关电容的TSV测试电路及测试方法。一种基于开关电容的TSV测试电路,包括:等效电阻 ...
【技术保护点】
一种基于开关电容的TSV测试电路,其特征在于,包括:等效电阻单元,包括复数个等效电阻模块(2),每个所述等效电阻模块(2)对应一待测穿透硅通孔,所述等效电阻模块(2)包括第一控制输入端、第二控制输入端、测试端口、充电端口和接地端,所述测试端口与对应的所述待测穿透硅通孔的测试端连接,所有的所述等效电阻模块(2)的充电端口共同连接以形成所述等效电阻单元的充电端;公共测试单元(1),包括第三控制输入端、测试输出端、时钟端口、供电端和电量输出端,所述电量输出端与所述等效电阻单元的充电端连接,所述公共测试单元(1)用以根据所述第三控制输入端的第三控制信号、所述第一控制输入端的第一控制信号,及所述第二控制输入端的第二控制信号控制所述待测穿透硅通孔的充放电状态,以进行测试,通过所述测试输出端输出所述待测穿透硅通孔的测试结果。
【技术特征摘要】
1.一种基于开关电容的TSV测试电路,其特征在于,包括:等效电阻单元,包括复数个等效电阻模块(2),每个所述等效电阻模块(2)对应一待测穿透硅通孔,所述等效电阻模块(2)包括第一控制输入端、第二控制输入端、测试端口、充电端口和接地端,所述测试端口与对应的所述待测穿透硅通孔的测试端连接,所有的所述等效电阻模块(2)的充电端口共同连接以形成所述等效电阻单元的充电端;公共测试单元(1),包括第三控制输入端、测试输出端、时钟端口、供电端和电量输出端,所述电量输出端与所述等效电阻单元的充电端连接,所述公共测试单元(1)用以根据所述第三控制输入端的第三控制信号、所述第一控制输入端的第一控制信号,及所述第二控制输入端的第二控制信号控制所述待测穿透硅通孔的充放电状态,以进行测试,通过所述测试输出端输出所述待测穿透硅通孔的测试结果。2.根据权利要求1所述的基于开关电容的TSV测试电路,其特征在于,所述等效电阻模块(2)包括:第一传输门开关,串联于所述充电端口与所述待测穿透硅通孔的测试端之间,所述第一控制输入端形成于所述的第一传输门开关的控制端;第二传输门开关,串联于所述待测穿透硅通孔的测试端与所述接地端之间,所述第二控制输入端形成于所述的第二传输门开关的控制端;所述待测穿透硅通孔的测试端连接于所述第一传输门开关和第二传输门开关之间。3.根据权利要求1所述的基于开关电容的TSV测试电路,其特征在于,所述公共测试单元(1)包括:三输入与门(12),包括第一输入端、第二输入端、第三输入端和输出端,所述三输入与门(12)的输出端形成所述测试输出端,所述第一输入端形成所述时钟端口;第三传输门开关(TG0),所述第三传输门开关(TG0)的一端形成所述供电端;标准电容,所述标准电容的一端接地,所述标准电容的另一端连接所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:俞洋,方旭,彭喜元,徐康康,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:黑龙江,23
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