用于涂布制品的方法技术

一种向制品的表面提供抗菌涂层的方法，所述方法包括如下步骤：将抗菌前体层施加到待施加抗菌涂层的制品的表面，其中所述抗菌前体层是待形成涂层的前体；和将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向制品的表面。在中性氢分子撞击制品表面处或表面上的分子后，抗菌前体层的键选择性断裂，并且其中选择性断裂的键与其自身或与所述表面处的其他化学基团或其组合交联，从而在制品的表面上形成抗菌涂层。

Method for coating products

A method for providing antimicrobial coating products of the surface, the method comprises the following steps: the surface of the antibacterial precursor layer is applied to the product to be applied antimicrobial coating, wherein the precursor antibacterial layer is to be formed before coating and surface; neutral molecular hydrogen flux toward products from neutral molecular hydrogen flux the emission source. In the neutral hydrogen molecules at the surface or the impact of products on the surface of the molecule, antibacterial bond selective cleavage precursor layer, and the selectivity of the broken bond with itself or with the surface of the other chemical groups or the combination of crosslinking, antibacterial coating layer formed on the surface of wip.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于涂布制品的方法
本专利技术涉及一种用于将涂层施加到制品的方法和由此获得的涂布制品。更特别地，本专利技术提供一种用于将涂层施加到制品的方法，如功能性涂层。
技术介绍
在涂布需要将涂层施加到表面的构件或制品中，本领域的技术包括使用离子加速等的放电和加速相关技术。例如，在本领域中，通常由金属基、硅基和镍磷(Ni-P)基材料形成的机械表构件或微型零件可能需要涂布。由于高精度和衬底材料特征，在金属零件上进行的常规机械加工和电镀通常不能满足制造期间对于高精度和不导电类微型零件的关键要求。这些微型零件可以通过微机电系统(MEMS)技术(诸如深度反应离子蚀刻(DRIE)和紫外线光刻(光刻))以及电铸成形(Galvanoformung)、模铸(Abformung)(UV-LIGA)制造。由于这些技术的生产能力和表面精饰要求的限制，诸如溅射、电子束等的方法可以用于微型零件沉积。在本领域中，将基于溅射的沉积技术用于MEMS制造。其可以通过调节功率、DC/RF转换、持续时间和压力来控制，例如对于膜厚度、宽度和均匀性控制。对于常规溅射型沉积，其通常在高真空值下进行，并且在施加溅射和引入真空室等之前，借助于诸如压力式固定装置的机构将待涂布的样品或制品固定到固持器件。在这些本领域的方法中，存在如下缺陷，包括在溅射沉积方法期间压力固定装置可覆盖的样品或制品上存在一些未涂布的盲区，并且这可能导致溅射源背面的涂层表面不均匀。此外，任何膜或涂层可能通过接触膜与压制性固定装置之间的硬接触而相对容易地被刮掉。对于构件、样品和制品，包括硅基构件、样品和制品，使用现有技术的沉积方法来精确控制厚度(包括在纳米级)可能会遇到困难，因为在一些应用中，可能要求微型零件的所有表面用薄膜同时沉积。在其它应用中，需要将非常薄的涂层施加到制品，诸如由金属或金属合金形成的制品，由此这些涂层必须能经受至少标称量的摩擦冲击，而所述制品不会磨损或耗损。同样，在本领域已知的这些方法中，提供的可能是美观的或功能性的和厚度均匀的这些涂层通常会被耗损、剥离或具有不均匀的厚度。本专利技术的目的本专利技术的一个目的在于提供一种涂布制品的方法，其克服了或至少部分改善了与现有技术有关的至少一些缺陷。
技术实现思路
在第一方面中，本专利技术提供向制品的表面提供抗菌涂层的方法，所述方法包括如下步骤：(i)将抗菌前体层施加到待施加抗菌涂层的制品的表面，其中所述抗菌前体层是待形成涂层的前体；和(ii)将来自中性分子氢通量(hydrogenflux)发射源的中性分子氢通量引向制品的表面；其中在中性氢分子撞击制品表面处或表面上的分子后，抗菌前体层的键选择性断裂，并且其中选择性断裂的键与其自身或与所述表面处的其他化学基团(chemicalmoieties)交联，从而在制品的表面上形成抗菌涂层。在本专利技术的一个实施方式中，选择性断裂的键是C-H键和Si-H键中的任一者或者是C-H键与Si-H键的组合。所述方法还可以包括在施加前将至少第一层前体施加到制品的表面的步骤，其中在将抗菌层前体施加到制品之前将所述第一层前体施加到制品的表面，并且安置在制品的表面与抗菌层前体之间。将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向制品的表面后，所述第一层前体的材料的键选择性地断裂并且与制品表面处的其它化学基团交联。将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向制品的表面后，抗菌前体层的断裂的键与所述第一层交联。所述第一层前体在制品表面上形成分子单层或分子级厚度的层。所述第一层前体可以形成光学透明层。在一个实施方式中，所述第一层前体由11-巯基十一烷酸形成。在另一个实施方式中，通过如下步骤将所述第一层前体施加到制品的表面：在溶液中提供11-巯基十一烷酸的第一层前体溶液，由此将制品浸泡在11-巯基十一烷酸溶液中预定量的时间并移出，其中干燥后在制品上形成所述第一层前体，并且优选所述第一层前体溶液是50Mm11-巯基十一烷酸的乙醇溶液。在另一个实施方式中，所述抗菌前体层由包含抗菌化合物的抗菌前体溶液提供，并且所述抗菌化合物可以是壳聚糖。所述抗菌前体溶液可以是包含壳聚糖、聚合物、酸和表面活性剂的溶液。优选地，所述抗菌前体溶液由壳聚糖、聚季铵盐-6、乙酸和吐温20(Tween20)在去离子水中形成，并且更优选地，所述抗菌前体溶液由约1:1比率的壳聚糖和聚季铵盐-6，乙酸和约0.005重量％吐温20在去离子水中形成。所施加的抗菌涂层优选是分子单层或分子级厚度的层，并且所述抗菌涂层优选是光学透明的。在本专利技术的实施方式中，所述制品的表面可以由金属或金属合金形成；由包含选自如下组的成分的贵金属形成，所述组含有金、金基合金、银、铂等；由聚合材料形成；或由硅或硅基材料形成。所述制品可以是珠宝、钟表构件、医疗装置、医疗仪器、植入物、卫生仪器、容器、器皿、包装材料等的物品。在第二方面中，本专利技术提供一种施加有抗菌涂层的制品，其中所述抗菌涂层是根据第一方面的方法施加至制品的。在第三方面中，本专利技术提供一种在制品的表面上提供涂层的方法，所述方法包括如下步骤：(i)将第一层前体施加到制品的表面；(ii)在所述第一层前体上将外层前体施加到制品；和(iii)将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向制品的表面；其中在中性氢分子撞击制品表面处或表面上的分子后，所述第一前体层的键选择性断裂，并且其中选择性断裂的键至少与所述表面处的其他化学基团交联，从而在制品的表面上形成第一层；并且其中在中性氢分子撞击制品表面处或表面上的分子后，外层前体层的键选择性断裂，并且其中选择性断裂的键至少与所述第一层的其他化学基团交联，从而在制品上形成涂层。在一个实施方式中，选择性断裂的键是C-H键和Si-H键中的任一者或者是C-H键与Si-H键的组合。在另一个实施方式中，所述外层前体包含抗菌化合物，使得涂层是抗菌涂层。在另一个实施方式中，所述外层前体包含防湿化合物，使得涂层是防湿涂层。所述第一层优选是分子单层或分子级厚度的层，使得在交联后，所述第一层是光学透明的。优选地，所述涂层是分子单层或分子级厚度的层，使得在交联后，涂层是光学透明的。在第四方面中，本专利技术提供一种施加有涂层的制品，其中所述涂层是根据第三方面的方法施加至制品的。附图说明现在参考附图描述本专利技术的实例，其中：图1显示根据本专利技术的用于将涂层施加到制品的系统的一个实施方式的示意图；图2显示根据ASTME2149标准在接种细菌后一小时对具有施加到金表面的抗菌涂层的制品进行抗菌评价的结果；图3显示图2的结果的概述；图4显示根据国际标准ISO22196在接种细菌后24小时对具有施加到金表面的抗菌涂层的制品进行抗菌评价的结果；图5显示图4的结果的概述；图6显示珠宝毒性结果，根据ASTMF2923-14-儿童珠宝的特定衬底材料中的总镉含量；以及根据ASTMF2923-14-儿童珠宝的油漆和表面涂层中的可溶性重金属；图7显示珠宝毒性结果，根据ASTMF2923-14-儿童珠宝中的总铅含量；以及根据ASTMF2923-14-镍释放；图8显示珠宝毒性结果，根据ASTMF2000-14-成人珠宝中的总铅含量；以及根据ASTMF2999-14-成人珠宝中特定衬底材料的总镉含量；并且图9显示珠宝毒性结果，根据ASTMF2999-14-成人珠宝的油漆和表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种向制品的表面提供抗菌涂层的方法，所述方法包括如下步骤：(i)将抗菌前体层施加到待施加抗菌涂层的制品的表面上，其中所述抗菌前体层是待形成涂层的前体；和(ii)将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向所述制品的所述表面；其中在中性氢分子撞击制品的所述表面处或所述表面上的分子后，所述抗菌前体层的键选择性断裂，并且其中所述选择性断裂的键与其自身或与所述表面处的其他化学基团或其组合交联，从而在所述制品的所述表面上形成抗菌涂层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.06.17 HK 15105780.61.一种向制品的表面提供抗菌涂层的方法，所述方法包括如下步骤：(i)将抗菌前体层施加到待施加抗菌涂层的制品的表面上，其中所述抗菌前体层是待形成涂层的前体；和(ii)将来自中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向所述制品的所述表面；其中在中性氢分子撞击制品的所述表面处或所述表面上的分子后，所述抗菌前体层的键选择性断裂，并且其中所述选择性断裂的键与其自身或与所述表面处的其他化学基团或其组合交联，从而在所述制品的所述表面上形成抗菌涂层。2.根据权利要求2所述的方法，其中所述选择性断裂的键是C-H键和Si-H键中的任一者或者是C-H键与Si-H键的组合。3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述方法还包括在施加前将至少第一层前体施加到所述制品的所述表面的步骤，其中在将所述抗菌层前体施加到所述制品之前将所述第一层前体施加到所述制品的所述表面，并且安置在所述制品的所述表面与所述抗菌层前体之间。4.根据权利要求3所述的方法，其中将来自所述中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向所述制品的所述表面后，所述第一层前体的材料的键选择性地断裂并且与所述制品的所述表面处的其它化学基团交联。5.根据权利要求3或权利要求4所述的方法，其中将来自所述中性分子氢通量发射源的中性分子氢通量引向所述制品的所述表面后，所述抗菌前体层的断裂的键与所述第一层交联。6.根据权利要求3至5中任一项所述的方法，其中所述第一层前体在所述制品的所述表面上形成单层。7.根据权利要求3至6中任一项所述的方法，其中所述第一层前体形成光学透明层。8.根据权利要求3至7中任一项所述的方法，其中所述第一层前体由11-巯基十一烷酸形成。9.根据权利要求3至8中任一项所述的方法，其中通过如下步骤将所述第一层前体施加到所述制品的表面：在溶液中提供11-巯基十一烷酸的第一层前体溶液，由此将所述制品浸泡在所述11-巯基十一烷酸溶液中预定量的时间并移出，其中干燥后在所述制品上形成所述第一层前体。10.根据权利要求8或权利要求9所述的方法，其中所述第一层前体溶液是50Mm11-巯基十一烷酸的乙醇溶液。11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述抗菌前体层通过包含抗菌化合物的抗菌前体溶液提供。12.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述抗菌化合物是壳聚糖。13.根据权利要求11或权利要求12所述的方法，其中所述抗菌前体溶液是包含壳聚糖、聚合物、酸和表面活性剂的溶液。14.根据权利要求11至13中任一项所述的方法，其中所述抗菌前体溶液由壳聚糖、聚季铵盐-6、乙酸和吐温20在去离子水中形成。15.根据权利要求11至14中任一项所述的方法，其中所述抗菌前体溶液由约1...

【专利技术属性】
技术研发人员：王英男，缪卓南，江争，刘焕明，郝少康，黄家伟，
申请(专利权)人：动力专家有限公司，
类型：发明
国别省市：中国香港,81