The oscillating structures, systems and manufacturing methods of piezoelectric actuation are disclosed. The oscillatory structure (30) includes a first torsion elastic element (56) and second (58), torsional elastic element of the first torsional elastic element and the second torsion elastic element is restricted to the support body (40) corresponding to the fixed portion and defines the axis of rotation (O); mobile element (55, 57, 60), the mobile element is provided on the first and second torsional elastic elements (56, 58) are connected to the first and second elastic components, due to torsion of the first and second deformable element, the element can move around the rotating axis of rotation (O); and a first control region (66). The first control region is coupled to the mobile element (55, 57, 60) and hold the first piezoelectric actuator (70), the first piezoelectric actuator is configured to cause the first control region in use (66) the local deformation, the local deformation of the first and second generation Two torsion of the torsional elastic element (56, 58).
【技术实现步骤摘要】
利用压电致动的振荡结构、系统以及制造方法
本专利技术涉及一种利用压电致动的振荡结构,涉及一种包括该振荡结构的系统,并且涉及一种用于制造该振荡结构的方法。
技术介绍
微机械反射镜结构(或反射器)已知的至少部分地由半导体材料制成并且采用MEMS(微机电系统)技术获得。MEMS反射器被设计为用于采用周期性或准周期性的方式接收光束并改变其传播方向。出于此目的,MEMS反射器包括由反射镜形成的移动元件,这些移动元件在空间中的位置通过适当的振荡控制信号进行电气控制。更详细地,在包括对应的反射镜的通用MEMS反射器中,控制反射镜的位置对于使得能够扫描具有光束的空间的部分尤其重要,该光束被照射在反射镜上。具体地,在谐振MEMS反射器的情况下,其中,在使用中,使该反射镜以基本上周期性的方式围绕静止位置进行振荡,控制反射镜的位置是决定性的,振荡周期尽可能的接近反射镜的谐振频率,以便在每次振荡期间使由反射镜覆盖的角距离最大化,并且因此使经扫描的空间的部分的范围最大化。例如,专利申请US2011/0109951描述了一种用于控制谐振式MEMS反射器的反射镜的位置的电路,该反射镜被设置成用于在静电式致动器的作用下相对于旋转轴翻转。具体地,根据专利申请US2011/0109951所述的MEMS反射器包括:由半导体材料制成的固定的支撑体以及通过扭转弹簧被限制到固定的支撑体的反射镜。静电式致动器通常需要高于150V的高操作电压或者在100mA的区域中的电流,由此限制最终设备的能量效率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种减少能量消耗同时优化机电效率的振荡结构。根据本公开,还提供了一种包 ...
【技术保护点】
一种利用压电致动的振荡结构(30),所述振荡结构包括:‑第一扭转弹性元件(56)和第二扭转弹性元件(58),所述第一扭转弹性元件和第二扭转弹性元件被限制到固定的支撑体(40)的对应部分并且限定旋转轴(O);‑移动元件(55,57,60),所述移动元件被安排在所述第一与第二扭转弹性元件(56,58)之间并连接到所述第一和第二扭转弹性元件,由于所述第一和第二可变形元件的扭转,所述移动元件可围绕所述旋转轴(O)旋转;以及‑第一控制区域(66),所述第一控制区域耦合到所述移动元件(55,57,60)并且容纳第一压电致动器(70),所述第一压电致动器被配置成用于在使用中引起所述第一控制区域(66)的局部变形,所述局部变形生成所述第一和第二扭转弹性元件(56,58)的扭转。
【技术特征摘要】
2016.07.28 IT 1020160000796041.一种利用压电致动的振荡结构(30),所述振荡结构包括:-第一扭转弹性元件(56)和第二扭转弹性元件(58),所述第一扭转弹性元件和第二扭转弹性元件被限制到固定的支撑体(40)的对应部分并且限定旋转轴(O);-移动元件(55,57,60),所述移动元件被安排在所述第一与第二扭转弹性元件(56,58)之间并连接到所述第一和第二扭转弹性元件,由于所述第一和第二可变形元件的扭转,所述移动元件可围绕所述旋转轴(O)旋转;以及-第一控制区域(66),所述第一控制区域耦合到所述移动元件(55,57,60)并且容纳第一压电致动器(70),所述第一压电致动器被配置成用于在使用中引起所述第一控制区域(66)的局部变形,所述局部变形生成所述第一和第二扭转弹性元件(56,58)的扭转。2.根据权利要求1所述的振荡结构,其中,所述移动元件(55,57,60)包括:中心体(60)、在所述中心体(60)与所述第一扭转弹性元件(56)之间的第一连接区域(55)、以及在所述中心体(60)与所述第二扭转弹性元件(58)之间的第二连接区域(57),所述第一控制区域(66)相对于所述第一和第二连接区域(55,57)被固定并且通过第一沟槽(61)与所述中心体(60)分开。3.根据权利要求2所述的振荡结构,其中,所述第一和第二连接区域(55,57)中的每一个都具有比所述第一和第二扭转弹性元件(56,58)中的每一个的扭转刚性常数高的扭转刚性常数。4.根据权利要求3所述的振荡结构,其中,所述第一和第二连接区域(55,57)中的每一个的所述扭转刚性常数比所述第一和第二扭转弹性元件(56,58)中的每一个的所述扭转刚性常数大至少一个数量级。5.根据以上权利要求中任一项所述的振荡结构,进一步包括第二控制区域(68),所述第二控制区域耦合到所述移动元件(55,57,60)并且容纳第二压电致动器(72),所述第二压电致动器被配置成用于在使用中引起所述第二控制区域(68)的局部变形,所述局部变形生成所述第一和第二扭转弹性元件(56,58)的扭转,所述扭转与由所述第一压电致动器(70)在使用中生成的所述扭转相反。6.根据权利要求2和5所述的振荡结构,其中,所述第二控制区域(66)相对于所述第一和第二连接区域(55,57)被固定并且通过第二沟槽(62)与所述中心体(60)分开。7.根据权利要求2-4和6中任一项所述的振荡结构,其中,所述中心体(60)容纳反射镜(65),所述振荡结构形成微反射镜。8.根据权利要求1和5所述的振荡结构,其中,所述第一和第二控制区域(66,68)与所述移动元件(55,57,60)共面。9.根据权利要求1和5所述的振荡结构,其中,所述第一和第二控制区域(66,68)在与所述移动元件(55,57,60)所在的平面平行的、位于低于所述移动元件所在的所述平面的高度上的平面中延伸。10.根据权利要求1和5所述的振荡结构,其中,所述第一和第二控制区域(66,68)在与所述移动元件(55,57,60)所在的平面平行的、位于大于所述移动元件所在的所述平面的高度上的平面中延伸。11.根据以上权利要求中任一项所述的振荡结构,进一步包括电子电路,所述电子电路操作性地耦合到所述第一压电致动器(70),并且被配置成用于将所述第一压电致动器(70)偏置为驱动电压从而生成并维持所述移动元件(55,57,60)的振荡。12.一种投射MEMS系统,包括:根据权利要求1-11中任一项所述的振荡结构(30);反射元件(65),所述反射元件被限制到所述移动元件(60),并且被设计成用于反射光束;光源(22,26),所述光源可以被操作用于生成在所述反射元件(65)上的入射光束;以及图像生成模块(3...
【专利技术属性】
技术研发人员:R·卡尔米纳蒂,M·默利,S·康蒂,
申请(专利权)人:意法半导体股份有限公司,
类型:发明
国别省市:意大利,IT
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