一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩技术

本发明专利技术提供一种光罩，设置于一面板上方；面板上设有平坦层，且平坦层上有多个沟槽，平坦层上方涂抹有一层TITO；光罩设有全透光区、半透光区和不透光区；全透光区分别设置于面板显示区外围所对应沟槽的正上方；半透光区分别设置于面板显示区所对应沟槽的正上方；不透光区分别设置于面板所对应除沟槽之外的每一个地方的正上方。全透光区导引具有预设光强的光线曝光并去除干净显示区外围每一沟槽内的TITO；半透光区虽减弱该预设光强光线的强度，但也曝光并去除干净显示区上每一沟槽内的TITO；而不透光区阻挡该预设光强的光线避免曝光TITO。实施本发明专利技术，能够改善在面板外围区有TITO残留的现象，从而提高抗静电等信赖性。

A method for improving the TITO residue on the periphery of the panel and the mask

The invention provides a photomask, arranged on a top panel; a flat layer panel, and a plurality of grooves on the flat layer, a layer of TITO coated flat layer mask; a full transparent area, semi translucent and opaque areas; transparent region are respectively arranged on the display panel above the peripheral zone the corresponding grooves; semi permeable region are respectively arranged on the display panel above the area corresponding to the trench; not transparent area are respectively arranged in the corresponding panel except outside the groove of each place is at the top of. The transparent area with preset light exposure intensity guide and remove clean display area periphery of each groove TITO; semi transparent area is the default intensity weaken the intensity of the light, but also the exposure and removal of the display area of each groove TITO; without blocking the photic zone preset light intensities to avoid exposure TITO. The implementation of the invention can improve the phenomenon of TITO residue in the periphery of the panel so as to improve the reliability of antistatic and so on.

【技术实现步骤摘要】
一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩
本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种改善面板外围顶部铟锡氧化物（TITO，TopIndiumTinOxide）残留的方法及光罩。
技术介绍
如图1和图2所示，在使用低温多晶硅（LTPS，LowTemperaturePoly-silicon）元件制作面板过程中，光罩1/设置于面板2/的上方，该光罩1/在与面板2/的显示区A/及其外围B/都需相应被蚀刻的区域设计成全透光区11/，而不需被蚀刻的区域保留为不透光区13/，然而由于面板2/显示区外围B/需要被曝光的面积较大，使得面板的显示区A/及其外围B/因图形密度不同而存在曝光程度不一致的现象，因此造成面板显示区外围B/所对应平坦层21/沟槽L/内有部分光阻残留，从而在TITO湿蚀刻时不能蚀刻干净光阻下面的膜层，使得TITO22/残留在外围基板上，缩短了切割线到面板周边环绕防静电线路M/的距离，降低了抗静电力。
技术实现思路
本专利技术实施例所要解决的技术问题在于，提供一种改善面板外围TITO残留的方法及光罩，能够改善在面板外围区有TITO残留的现象，从而提高抗静电等信赖性。为了解决上述技术问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光罩，其设置于一面板（2）上方；其中，所述面板（2）上设有平坦层（21），且所述平坦层（21）上蚀刻有多个开口向上的沟槽（L），并在所述平坦层（21）上方涂抹有一层顶部铟锡氧化物（22）；其特征在于，所述光罩上设有全透光区（11）、半透光区（12）和不透光区（13）；其中，所述全透光区（11）分别设置于所述面板（2）显示区外围（B）所对应平坦层（21）上每一个沟槽（L）的正上方；所述半透光区（12）分别设置于所述面板（2）显示区（A）所对应平坦层（21）上每一个沟槽（L）的正上方；所述不透光区（13）分别设置于所述面板（2）显示区（A）及显示区外围（B）所对应平坦层（21）上除所述多个沟槽...

【技术特征摘要】
1.一种光罩，其设置于一面板（2）上方；其中，所述面板（2）上设有平坦层（21），且所述平坦层（21）上蚀刻有多个开口向上的沟槽（L），并在所述平坦层（21）上方涂抹有一层顶部铟锡氧化物（22）；其特征在于，所述光罩上设有全透光区（11）、半透光区（12）和不透光区（13）；其中，所述全透光区（11）分别设置于所述面板（2）显示区外围（B）所对应平坦层（21）上每一个沟槽（L）的正上方；所述半透光区（12）分别设置于所述面板（2）显示区（A）所对应平坦层（21）上每一个沟槽（L）的正上方；所述不透光区（13）分别设置于所述面板（2）显示区（A）及显示区外围（B）所对应平坦层（21）上除所述多个沟槽（L）之外的每一个地方的正上方；其中，所述全透光区（11）直接导引具有预设光强的光线曝光并去除干净所述面板（2）显示区外围（B）所对应平坦层（21）上每一沟槽（L）内的顶部铟锡氧化物；所述半透光区（12）减弱所述具有预设光强的光线的强度至一定程度后曝光并去除干净所述面板（2）显示区（A）所对应平坦层（21）上每一沟槽（L）内的顶部铟锡氧化物；所述不透光区（13）阻挡所述具有预设光强的光线避免曝光所述面板（2）显示区（A）及显示区外围（B）所对应平坦层（21）上除所述多个沟槽（L）之外的每一个地方的顶部铟锡氧化物（22）。2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述平坦层（21）的每一沟槽（L）的外部轮廊线均呈倒梯形状或倒三角形状，且所述平坦层（21）的每一沟槽（L）顶部的开口直径均大于其底部开口直径。3.如权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述全透光区（11）的长度均与位于所述显示区外围（B）内其对应沟槽（L）朝向所述光罩方向一端的开口直径相等。4.如权利要求3所述的光罩，其特征在于，所述半透光区（12）的长度均与位于所述显示区（A）内其对应沟槽（L）朝向所述光罩方向一端的开口直径相等。5.如权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾霜华，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42