【技术实现步骤摘要】
一种半导体零件清洗装置
本专利技术涉及清洗装置,具体的说是一种半导体零件清洗装置。
技术介绍
半导体零部件经常需要清洗,结构多种多样,由于半导体价格昂贵,其清洗的费用也非常高,由于半导体的有圆形的部件,体积大,一般的清洗工具很难清洗干净,并且在清洗的过程容易出现交叉污染,费时费力,并且容易损坏,大大增加了成本,满足不了现有清洗的要求。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是,针对以上现有技术的缺点,提出一种半导体零件清洗装置,不仅结构简单,成本低,安全可靠,使用寿命长,功能多,体积小,清洗效率高,损坏率大大降低。为了解决上述技术问题,本专利技术的技术方案是通过以下方式实现的:一种半导体零件清洗装置,包括水平设置的清洗池,在清洗池上端设有清洗装置,清洗装置包括设置在清洗池上端的支撑架,沿支撑架宽度方向并排设有多个支撑座,沿支撑座长度方向并排设有滑轨、橡胶板,滑轨上设有多个滑座,在滑座一侧均设有圆弧状的半导体放置架,在半导体放置架内部设有多个从动滚轮,其中位于半导体放置架最低端处设有过孔和部分穿过过孔与橡胶板配合的主动轮,半导体放置架远离滑轨的一端设有拨杆;在支撑座 ...
【技术保护点】
一种半导体零件清洗装置,包括水平设置的清洗池(1),其特征在于:在所述清洗池(1)上端设有清洗装置,所述清洗装置包括设置在清洗池(1)上端的支撑架(2),沿所述支撑架(2)宽度方向并排设有多个支撑座(3),沿所述支撑座(3)长度方向并排设有滑轨(4)、橡胶板(9),所述滑轨(4)上设有多个滑座(5),在所述滑座(5)一侧均设有圆弧状的半导体放置架(6),在所述半导体放置架(6)内部设有多个从动滚轮(7),其中位于半导体放置架(6)最低端处设有过孔(8)和部分穿过过孔(8)与橡胶板(9)配合的主动轮(10),所述半导体放置架(6)远离滑轨(4)的一端设有拨杆(11);在所述支 ...
【技术特征摘要】
1.一种半导体零件清洗装置,包括水平设置的清洗池(1),其特征在于:在所述清洗池(1)上端设有清洗装置,所述清洗装置包括设置在清洗池(1)上端的支撑架(2),沿所述支撑架(2)宽度方向并排设有多个支撑座(3),沿所述支撑座(3)长度方向并排设有滑轨(4)、橡胶板(9),所述滑轨(4)上设有多个滑座(5),在所述滑座(5)一侧均设有圆弧状的半导体放置架(6),在所述半导体放置架(6)内部设有多个从动滚轮(7),其中位于半导体放置架(6)最低端处设有过孔(8)和部分穿过过孔(8)与橡胶板(9)配合的主动轮(10),所述半导体放置架(6)远离滑轨(4)的一端设有拨杆(11);在所述支撑座(3)下方设有传送带...
【专利技术属性】
技术研发人员:张跃宏,
申请(专利权)人:镇江佳鑫精工设备有限公司,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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