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本发明公开了一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池，在清洗池上端设有清洗装置，清洗装置包括设置在清洗池上端的支撑架，沿支撑架宽度方向并排设有多个支撑座，沿支撑座长度方向并排设有滑轨、橡胶板，滑轨上设有多个滑座，在滑座一侧均设有圆弧状的...
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