光学用双面粘合带制造技术

技术编号:17132551 阅读:39 留言:0更新日期:2018-01-27 08:59
本发明专利技术涉及光学用双面粘合带。本发明专利技术提供一种适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性的光学用双面粘合带。本发明专利技术的粘合带(X)具有包含作为透明基材的基材(10)、粘合剂层(11)和粘合剂层(12)的层叠结构。基材(10)为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材、且位于粘合剂层(11、12)之间并具有75μm以上的厚度。粘合带(X)的基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下,且粘合带(X)的基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。

Double adhesive tape for optical use

The invention relates to a double-sided adhesive tape for optical use. The present invention provides an optical double-sided adhesive tape suitable for achieving good hand tearing and high reprocessing while having a polyester base material. The adhesive tape (X) of the present invention has a laminated structure containing a substrate (10), an adhesive layer (11) and an adhesive layer (12), which is a transparent substrate. A substrate (10) is a single axis stretching polyester base material in the width direction of the base material, and is located between the adhesive layer (11, 12) and has a thickness above 75 mu m. The width of the base band of the adhesive tape (X) is less than 0.5N below the El gate, and the 0.5N tear strength of the base material in the direction of the adhesive tape (X) is more than 1N.

【技术实现步骤摘要】
光学用双面粘合带
本专利技术涉及具有透光性的光学用途的双面粘合带。
技术介绍
在平板显示器的
中,在显示装置的制造中利用光学用双面粘合带。具体而言,液晶显示器等显示装置或触控面板等输入装置具有包含各种基板或膜体的层叠结构部,为了将在该层叠结构内相邻的规定的部件间接合、或者为了填充相邻的部件间的间隙,有时使用透明的双面粘合带。这样的光学用双面粘合带例如记载于下述专利文献1~3中。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-78431号公报专利文献2:日本特开2015-200698号公报专利文献3:日本特开2016-26321号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题作为上述光学用双面粘合带的基材而言,有时采用聚酯类基材,因为其耐热性、透明性、尺寸稳定性等各种特性优异。对于作为用于光学用双面粘合带等的光学用途的聚酯类基材的例如PET膜而言,已知多数情况下在制造工艺中通过T型模头法将原料树脂材料挤出成形为膜状、然后经过包含沿该膜的流动方向或长度方向(MD)的拉伸和沿宽度方向(TD)的拉伸的双轴拉伸处理。另外,对于光学用双面粘合带而言,从作业效率等观点考虑,有时要求良好的手撕性。本本文档来自技高网...
光学用双面粘合带

【技术保护点】
一种光学用双面粘合带,其中,所述光学用双面粘合带具有包含第一粘合剂层、第二粘合剂层、和该第一粘合剂层与第二粘合剂层之间的透明基材的层叠结构,所述透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度,并且所述光学用双面粘合带在基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下且在基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。

【技术特征摘要】
2016.07.05 JP 2016-1330981.一种光学用双面粘合带,其中,所述光学用双面粘合带具有包含第一粘合剂层、第二粘合剂层、和该第一粘合剂层与第二粘合剂层之间的透明基材的层叠结构,所述透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度,并且所述光学用双面粘合带在基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下且在基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。2.如权利要求1所述的光学用双面粘合带,其中,所述透明基材的厚度为150μm以下。3.如权利要求1所述的光学用双面粘合带,其中,所述透明基材的宽度方向的拉伸倍率为2.5~6...

【专利技术属性】
技术研发人员:三井数马野中崇弘
申请(专利权)人:日东电工株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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