光学用双面粘合带制造技术

本发明专利技术涉及光学用双面粘合带。本发明专利技术提供一种适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性的光学用双面粘合带。本发明专利技术的粘合带(X)具有包含作为透明基材的基材(10)、粘合剂层(11)和粘合剂层(12)的层叠结构。基材(10)为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材、且位于粘合剂层(11、12)之间并具有75μm以上的厚度。粘合带(X)的基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下，且粘合带(X)的基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。

Double adhesive tape for optical use

The invention relates to a double-sided adhesive tape for optical use. The present invention provides an optical double-sided adhesive tape suitable for achieving good hand tearing and high reprocessing while having a polyester base material. The adhesive tape (X) of the present invention has a laminated structure containing a substrate (10), an adhesive layer (11) and an adhesive layer (12), which is a transparent substrate. A substrate (10) is a single axis stretching polyester base material in the width direction of the base material, and is located between the adhesive layer (11, 12) and has a thickness above 75 mu m. The width of the base band of the adhesive tape (X) is less than 0.5N below the El gate, and the 0.5N tear strength of the base material in the direction of the adhesive tape (X) is more than 1N.

【技术实现步骤摘要】
光学用双面粘合带
本专利技术涉及具有透光性的光学用途的双面粘合带。
技术介绍
在平板显示器的
中，在显示装置的制造中利用光学用双面粘合带。具体而言，液晶显示器等显示装置或触控面板等输入装置具有包含各种基板或膜体的层叠结构部，为了将在该层叠结构内相邻的规定的部件间接合、或者为了填充相邻的部件间的间隙，有时使用透明的双面粘合带。这样的光学用双面粘合带例如记载于下述专利文献1～3中。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-78431号公报专利文献2：日本特开2015-200698号公报专利文献3：日本特开2016-26321号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题作为上述光学用双面粘合带的基材而言，有时采用聚酯类基材，因为其耐热性、透明性、尺寸稳定性等各种特性优异。对于作为用于光学用双面粘合带等的光学用途的聚酯类基材的例如PET膜而言，已知多数情况下在制造工艺中通过T型模头法将原料树脂材料挤出成形为膜状、然后经过包含沿该膜的流动方向或长度方向(MD)的拉伸和沿宽度方向(TD)的拉伸的双轴拉伸处理。另外，对于光学用双面粘合带而言，从作业效率等观点考虑，有时要求良好的手撕性。本专利技术基于如上所述的情况而想出，其目的在于提供一种适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性(リワーク性)的光学用双面粘合带。用于解决问题的手段根据本专利技术提供的光学用双面粘合带具有包含第一粘合剂层、第二粘合剂层和该第一粘合剂层与第二粘合剂层之间的透明基材的层叠结构。透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度。聚酯类基材是指在构成材料中以最大重量比例含有聚酯类树脂的膜或片材等基材。基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材是指在聚酯类基材的制造工艺中在原料树脂材料的挤出成形后经过例如沿与膜状的挤出成形体的流动方向或长度方向(MD)正交的宽度方向(TD)的单轴拉伸处理的聚酯类基材。第一粘合剂层和/或第二粘合剂层例如含有选自由丙烯酸类粘合剂、聚氨酯类粘合剂、聚硅氧烷类粘合剂和橡胶类粘合剂构成的组中的至少一种。在本光学用双面粘合带中，基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下，且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。具有以上构成的本光学用双面粘合带可以采用带有用于覆盖并保护各粘合剂层的粘合面的剥离衬垫的片状的形态，也可以采用以本光学用双面粘合带与剥离衬垫交替配置的形式带有剥离衬垫而卷绕成卷筒状的形态。如上所述，本光学用双面粘合带所具有的透明基材为聚酯类基材。这样的构成适合于在双面粘合带基材以及本光学用双面粘合带中享有耐热性、透明性、尺寸稳定性等聚酯类基材容易表现出的各种特性。另外，如上所述，本光学用双面粘合带所具有的透明基材是厚度为75μm以上的宽度方向单轴拉伸聚酯类基材。双面粘合带的埃尔门多夫撕裂强度等撕裂强度强烈地受控于基材的机械特性，这样的构成适合于在本光学用双面粘合带中实现基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上的上述构成。除此以外，如上所述，本光学用双面粘合带的基材宽度方向的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下，且基材长度方向的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。这样的构成适合于在本光学用双面粘合带中实现沿埃尔门多夫撕裂强度相对有意地低至0.5N以下的基材宽度方向的良好的手撕性。与此同时，埃尔门多夫撕裂强度在基材长度方向上为基材宽度方向的2倍以上的1N以上的构成适合于在本光学用双面粘合带中提高沿基材宽度方向的撕裂的指向性。因此，该构成适合于在本光学用双面粘合带处于贴合于被粘物的状态的情况下使剥离力作用于该粘合带的基材长度方向从而使该粘合带不开裂地从被粘物适当地剥离。具体而言，适合于在将本光学用双面粘合带与被粘物贴合后先剥离然后再次贴合的作业(再加工作业)时使剥离力作用于该膜的基材长度方向从而使该粘合带不开裂地从被粘物适当地剥离。不仅在基材宽度方向而且在基材长度方向也容易被撕裂的光学用双面粘合带在再加工作业中的剥离时倾向于容易开裂而难以从被粘物适当地剥离。产生了开裂的光学用双面粘合带不能用于再次贴合中。与此相对，本光学用双面粘合带具有与适合于实现沿基材宽度方向的良好的手撕性的基材宽度方向埃尔门多夫撕裂强度相比足够大的基材长度方向埃尔门多夫撕裂强度，因此适合于在再加工作业时不开裂地从被粘物适当地剥离。如上所述，本光学用双面粘合带适合于在具有聚酯类基材的同时一并实现良好的手撕性和高再加工性。优选第一粘合剂层的厚度为5μm以上、且第二粘合剂层的厚度为5μm以上。这样的构成在实现光学用双面粘合带对被粘物的充分的粘合力方面是适合的。优选本光学用双面粘合带的厚度方向的雾度为3％以下。这样的构成对于要求透明性的光学用粘合带是适合的。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的光学用双面粘合带的局部剖视图。附图标记X粘合带(光学用双面粘合带)10基材11粘合剂层(第一粘合剂层)12粘合剂层(第二粘合剂层)具体实施方式图1是作为本专利技术的一个实施方式的光学用双面粘合带的粘合带X的局部剖视图。粘合带X具有包含作为透明基材的基材10、作为第一粘合剂层的粘合剂层11和作为第二粘合剂层的粘合剂层12的层叠结构。粘合带X能够用在例如平板显示器等显示装置的制造中。液晶显示器等显示装置或触控面板等输入装置具有包含各种基板或膜体的层叠结构部，为了将在该层叠结构内相邻的规定的部件间接合或者为了填充相邻的部件间的间隙，能够利用粘合带X。粘合带X所具有的基材10是在粘合带X中位于粘合剂层11、12间并作为支撑体起作用的部位，是具有透光性的基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材。聚酯类基材是指在构成材料中以最大重量比例含有聚酯类树脂的膜或片材等基材。作为这样的基材10的构成材料而言，可以列举例如：聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸1,4-环己烷二甲醇酯。基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材是指在聚酯类基材的制造工艺中在原料树脂材料的挤出成形后经过例如沿与膜状的挤出成形体的流动方向或长度方向(MD)正交的宽度方向(TD)的单轴拉伸处理的聚酯类基材。作为这样的宽度方向单轴拉伸聚酯类基材的基材10的宽度方向的拉伸倍率优选为2.5倍以上、更优选为3倍以上。另外，该拉伸倍率优选为6倍以下、更优选为5.5倍以下。基材10的厚度为75μm以上、优选为80μm以上。另外，基材10的厚度优选为150μm以下、更优选为125μm以下。基材10的面内相位差优选为1500nm以上、更优选为3000nm以上、更优选为6000nm以上。在本实施方式中，基材10的面内相位差是指与在23℃下使波长590nm的光透射基材10时的双折射有关的、在与基材10的主面平行的面内正交的两个光学主轴(慢轴和快轴)中在慢轴方向振动的偏振光成分(异常光线)与在快轴方向振动的偏振光成分(正常光线)之间产生的相位差。将异常光线的折射率(相对较大)设为nx、将正常光线的折射率(相对较小)设为ny、将基材10的厚度设为d(nm)的情况下，该面内相位差为以(nx-ny)×d表示的值。基材10中的粘合剂层11侧的表面和12侧的表面分别可以实施用于提高与粘合剂层的粘附性的表面处理。作为这样的表面处理，可以列举：电晕处理或等离子体本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学用双面粘合带，其中，所述光学用双面粘合带具有包含第一粘合剂层、第二粘合剂层、和该第一粘合剂层与第二粘合剂层之间的透明基材的层叠结构，所述透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度，并且所述光学用双面粘合带在基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下且在基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。

【技术特征摘要】
2016.07.05 JP 2016-1330981.一种光学用双面粘合带，其中，所述光学用双面粘合带具有包含第一粘合剂层、第二粘合剂层、和该第一粘合剂层与第二粘合剂层之间的透明基材的层叠结构，所述透明基材为基材宽度方向单轴拉伸聚酯类基材且具有75μm以上的厚度，并且所述光学用双面粘合带在基材宽度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为0.5N以下且在基材长度方向上的埃尔门多夫撕裂强度为1N以上。2.如权利要求1所述的光学用双面粘合带，其中，所述透明基材的厚度为150μm以下。3.如权利要求1所述的光学用双面粘合带，其中，所述透明基材的宽度方向的拉伸倍率为2.5～6...

【专利技术属性】
技术研发人员：三井数马，野中崇弘，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP