磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法技术

包含碱土金属成分作为玻璃组分的磁盘用玻璃基板的端面是镜面，在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率在40％以上。

Manufacturing methods for glass substrates used for disks, disks, glass substrates and glass substrates for disks

Alkaline earth metal containing component as the composition of glass disk with end glass substrate is the mirror on the surface of the surface after 2.5 m etching of the end surface to measure the roughness obtained when the roughness of the cross-sectional area of the load curve, the roughness of the cross-sectional area of the load rate is 50% when the rough the percentage of above 40%.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法
本专利技术涉及磁盘用玻璃基板、磁盘以及作为磁盘用玻璃基板的坯板的玻璃基板中间体。
技术介绍
如今，在个人计算机、笔记本型个人计算机或者DVD(DigitalVersatileDisc：数字通用光盘)记录装置等中内置有硬盘装置以进行数据记录。特别在笔记本型个人计算机等以便携性为前提的设备中所用的硬盘装置中，使用在非磁性体的磁盘用基板上设置有磁性膜(以下，也称作磁性层)的磁盘。作为磁盘用基板，例如使用玻璃基板。作为磁盘，出于记录密度的高密度化和存储容量的大容量化的要求，开发出了DFH(DynamicFlyingHeight：动态飞行高度)型的磁头(以下，也称作DFH磁头)，在该DFH磁头中，仅使记录再现元件(记录元件和再现元件中的至少一方)向介质表面侧突出，由此磁盘表面与记录再现元件之间的距离(以下，称作悬浮距离)比以往相比变短，例如悬浮距离为5nm左右。在这样的DFH磁头中，由于上述悬浮距离短，因此必须避免微小粒子等附着于磁盘的主表面上。为了抑制该微小粒子的附着，期望不仅在玻璃基板的主表面上还在端面上也高精度地进行研磨，不形成微小的凹坑等缺陷。一般而言，玻璃基板的端面包括玻璃基板的侧壁面、以及设置于该侧壁面与主表面之间的倒角面。在该玻璃基板中，已知有在倒角面不具有凹陷的凹坑缺陷的玻璃基板(专利文献1)。该玻璃基板是通过在用固定有金刚石磨粒的磨具进行了倒角加工以后使用研磨刷进行端面研磨而获得的玻璃基板、且是在对玻璃基板的倒角面的表面进行5μm蚀刻以后观察到的直径或者长径为10μm以上的凹坑缺陷为5个/mm2以下的玻璃基板。现有技术文件专利文献专利文献1：日本特开2012-142084号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在上述DFH磁头中，设置有用于对记录再现元件施加热而通过热膨胀来控制上述悬浮距离的加热器，但是，最近，为了进一步减小上述悬浮距离，作为用于高精度地进行上述悬浮距离的控制的功能元件，将HDI(HeadDiskInterface：头盘界面)传感器搭载于DFH磁头。在该DFH磁头中，根据来自HDI传感器的信号，控制记录元件和再现元件中的至少一方的记录再现元件的突出量。利用搭载有该HDI传感器的DFH磁头，首次实现了即使在将记录再现元件与磁盘之间的距离极力减小为1nm以下的情况下也能够进行长期且稳定的记录再现。使用由这样的DFH磁头和上述的不具有凹坑缺陷的玻璃基板制作而成的磁盘，在设DFH磁头的记录再现元件的悬浮距离为1nm、5nm和10nm的悬浮条件下进行长期介质耐久性测试时，在悬浮距离为1nm的悬浮条件下，确认到再现信号的SN比降低的现象。在现有的悬浮距离为5nm和10nm的悬浮条件下，未看到上述SN比的降低。因此，认为在设悬浮距离为1nm以下的悬浮条件下，由于到目前为止无需考虑的现象而使得再现信号的SN比降低。因此，本专利技术提供一种即使在悬浮距离比以往小的记录再现元件的悬浮条件下，磁盘的记录再现也不会产生障碍的磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法。用于解决问题的手段本专利技术的一个方式是一种磁盘用玻璃基板，该磁盘用玻璃基板包含碱土金属成分作为玻璃组分。该磁盘用玻璃基板包含碱土金属成分作为玻璃组分，其中，所述玻璃基板的端面是镜面，所述端面具有如下的面：在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，该面中粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率为40％以上。优选的是，所述粗糙度百分率为50％以上。优选的是，所述粗糙度百分率为60％以下。优选的是，所述镜面的算术平均表面粗糙度为0.015μm以下。优选的是，构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃的玻璃化温度为700℃以上。优选的是，所述玻璃基板的所述端面具有侧壁面、以及所述玻璃基板的主表面与所述侧壁面之间的倒角面，所述侧壁面是所述粗糙度百分率为40％以上的面。优选的是，构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃是无碱玻璃。优选的是，所述玻璃基板是与具有DFH(DiskFlyingHeight：动态飞行高度)功能的磁头一起搭载于硬盘驱动器的磁盘用玻璃基板。优选的是，所述玻璃基板是用于能量辅助磁记录方式用的磁盘的玻璃基板。此外，本专利技术的另一方式是一种磁盘，该磁盘在所述磁盘用玻璃基板的表面至少具有磁性膜。此外，本专利技术的再一方式是作为磁盘用玻璃基板的坯板的玻璃基板中间体，该玻璃基板中间体包含碱土金属成分作为玻璃组分。在该玻璃基板中间体中，所述玻璃基板中间体的端面是镜面，所述端面具有如下的面：在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，该面中粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率为40％以上。优选的是，所述粗糙度百分率为50％以上。优选的是，所述粗糙度百分率为60％以下。优选的是，构成所述玻璃基板中间体的玻璃是无碱玻璃。并且，本专利技术的再又一方式是一种进行玻璃基板的端面研磨处理的磁盘用玻璃基板的制造方法。在该制造方法中的所述端面研磨处理中，以使得在对所述玻璃基板的端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率为40％以上的方式，进行所述端面的研磨。本专利技术的再又一方式也是进行玻璃基板的端面研磨处理的磁盘用玻璃基板的制造方法。在该情况下，其特征在于，在所述玻璃基板中间体的主表面上至少进行研磨处理。专利技术效果根据上述磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法，能够抑制玻璃基板的端面上的腐蚀的产生。其结果，即使在记录再现元件的悬浮距离比以往小的悬浮条件下，磁盘的记录再现也不会产生障碍，能够抑制再现信号的SN比的降低。附图说明图1是示出本实施方式的磁盘用玻璃基板的外观形状的图。图2是本实施方式的磁盘用玻璃基板的端面的放大剖视图。图3是说明玻璃基板的粗糙度截面积的负荷率曲线的图。图4是说明粗糙度截面积(截面长度)的负荷率的图。图5的(a)～(d)是示出各种一维的表面形状的波形和这时获得的粗糙度截面长度的负荷率曲线的图。图6是说明求出本实施方式的玻璃基板的侧壁面与倒角面之间的连接部分的截面形状的曲率半径的方法的图。图7是说明对本实施方式的玻璃基板的端面进行的磨削的一例的图。图8是说明本实施方式中的端面研磨处理的一例的图。图9是说明本实施方式中的端面研磨处理的一例的图。图10是说明本实施方式中的端面研磨处理的一例的图。图11是说明本实施方式中的端面研磨处理的一例的图。具体实施方式以下，对本专利技术的磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法详细地进行说明。本申请专利技术人在调查研究了在设磁头的记录再现元件的悬浮距离为1nm以下的悬浮条件下再现信号的SN比降低的玻璃基板时，发现了在端面形成有由于以往如果将玻璃基板的端面研磨成镜面状则不会产生的腐蚀(玻璃成分的熔析)而引起的物质。认为引起该腐蚀的物质是在主表面上移动并且附着于记录再现元件的物质。即，认为玻璃基板的端面即使被镜面精加工，端面的表面也会由于磁盘制作时的成膜处理时的热冲击等而受到损伤，使得通过形状加工或端面研磨而形成的潜在裂纹增大而本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板，其包含碱土金属成分作为玻璃组分，其特征在于，所述玻璃基板的端面是镜面，所述端面具有如下的面：在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，该面中粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率为40％以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.30 JP 2015-1951281.一种磁盘用玻璃基板，其包含碱土金属成分作为玻璃组分，其特征在于，所述玻璃基板的端面是镜面，所述端面具有如下的面：在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中，该面中粗糙度截面积的负荷率为50％时的粗糙度百分率为40％以上。2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板，其中，所述粗糙度百分率为50％以上。3.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板，其中，所述粗糙度百分率为60％以下。4.根据权利要求1～3中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板，其中，所述镜面的算术平均表面粗糙度为0.015μm以下。5.根据权利要求1～4中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板，其中，构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃的玻璃化温度为700℃以上。6.根据权利要求1～5中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板，其中，构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃为无碱玻璃。7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板，其中，所述玻璃基板是与具有DFH功能即动态飞行高度功能的磁头...

【专利技术属性】
技术研发人员：东修平，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP