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磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法技术

技术编号:17102704 阅读:38 留言:0更新日期:2018-01-21 12:45
包含碱土金属成分作为玻璃组分的磁盘用玻璃基板的端面是镜面,在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中,粗糙度截面积的负荷率为50%时的粗糙度百分率在40%以上。

Manufacturing methods for glass substrates used for disks, disks, glass substrates and glass substrates for disks

Alkaline earth metal containing component as the composition of glass disk with end glass substrate is the mirror on the surface of the surface after 2.5 m etching of the end surface to measure the roughness obtained when the roughness of the cross-sectional area of the load curve, the roughness of the cross-sectional area of the load rate is 50% when the rough the percentage of above 40%.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法
本专利技术涉及磁盘用玻璃基板、磁盘以及作为磁盘用玻璃基板的坯板的玻璃基板中间体。
技术介绍
如今,在个人计算机、笔记本型个人计算机或者DVD(DigitalVersatileDisc:数字通用光盘)记录装置等中内置有硬盘装置以进行数据记录。特别在笔记本型个人计算机等以便携性为前提的设备中所用的硬盘装置中,使用在非磁性体的磁盘用基板上设置有磁性膜(以下,也称作磁性层)的磁盘。作为磁盘用基板,例如使用玻璃基板。作为磁盘,出于记录密度的高密度化和存储容量的大容量化的要求,开发出了DFH(DynamicFlyingHeight:动态飞行高度)型的磁头(以下,也称作DFH磁头),在该DFH磁头中,仅使记录再现元件(记录元件和再现元件中的至少一方)向介质表面侧突出,由此磁盘表面与记录再现元件之间的距离(以下,称作悬浮距离)比以往相比变短,例如悬浮距离为5nm左右。在这样的DFH磁头中,由于上述悬浮距离短,因此必须避免微小粒子等附着于磁盘的主表面上。为了抑制该微小粒子的附着,期望不仅在玻璃基板的主表面上还在端面上也高精度地进行研磨,不本文档来自技高网...
磁盘用玻璃基板、磁盘、玻璃基板中间体和磁盘用玻璃基板的制造方法

【技术保护点】
一种磁盘用玻璃基板,其包含碱土金属成分作为玻璃组分,其特征在于,所述玻璃基板的端面是镜面,所述端面具有如下的面:在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中,该面中粗糙度截面积的负荷率为50%时的粗糙度百分率为40%以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.30 JP 2015-1951281.一种磁盘用玻璃基板,其包含碱土金属成分作为玻璃组分,其特征在于,所述玻璃基板的端面是镜面,所述端面具有如下的面:在测量了对所述端面进行2.5μm蚀刻以后的所述端面的表面粗糙度时获得的粗糙度截面积的负荷率曲线中,该面中粗糙度截面积的负荷率为50%时的粗糙度百分率为40%以上。2.根据权利要求1所述的磁盘用玻璃基板,其中,所述粗糙度百分率为50%以上。3.根据权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板,其中,所述粗糙度百分率为60%以下。4.根据权利要求1~3中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板,其中,所述镜面的算术平均表面粗糙度为0.015μm以下。5.根据权利要求1~4中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板,其中,构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃的玻璃化温度为700℃以上。6.根据权利要求1~5中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板,其中,构成所述磁盘用玻璃基板的玻璃为无碱玻璃。7.根据权利要求1~6中的任意一项所述的磁盘用玻璃基板,其中,所述玻璃基板是与具有DFH功能即动态飞行高度功能的磁头...

【专利技术属性】
技术研发人员:东修平
申请(专利权)人:HOYA株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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