玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法技术

本发明专利技术提供一种在以氧化铈作为研磨磨粒对玻璃基板的表面进行研磨的研磨处理中能够提高研磨速度的玻璃基板的研磨方法。本发明专利技术的玻璃基板的研磨方法是向玻璃基板的研磨面上供给含有氧化铈作为研磨磨粒的研磨液而对玻璃基板的表面进行研磨处理的方法。其中，作为上述研磨液，使用含有上述氧化铈作为研磨磨粒，还含有无机还原剂，并且为碱性的研磨液。

Grinding method of glass substrate, grinding liquid, manufacturing method of glass substrate, manufacturing method of glass substrate for disk, and manufacturing method of disk

The invention provides a polishing method for improving the grinding speed of the glass substrate in the lapping process of the cerium oxide as the abrasive particle to the surface of the glass substrate. The grinding method of the glass substrate of the invention is to provide a polishing method for grinding the surface of the glass substrate with cerium oxide as abrasive liquid for grinding abrasive grains on the surface of the glass substrate. Among them, as the above grinding liquid, the above mentioned cerium oxide is used as the abrasive grain, and the inorganic reductant is also contained, and the alkaline lapping liquid is used.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法
本专利技术涉及适合制造搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的磁盘的玻璃基板的研磨方法、研磨液、玻璃基板的制造方法、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法。
技术介绍
磁盘是搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的信息记录介质之一。磁盘通过在基板上形成磁性层等薄膜而构成，作为该基板，过去一直使用铝合金基板或玻璃基板。最近，对应于高记录密度化的要求，与铝合金基板相比，可使磁头与磁盘之间的间隔更窄的玻璃基板所占的比例逐渐升高。另外，为了能够使磁头的悬浮高度尽量下降，对磁盘用基板的表面高精度地进行研磨，从而实现了高记录密度化。近年来，对HDD的进一步大记录容量化的要求日益提高，为了实现该要求，磁盘用基板也需要进一步的高品质化，要求基板表面更平滑且更洁净。如上所述，为了高记录密度化所需的低飞行高度(悬浮量)化，磁盘表面的高平滑性必不可少。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求高平滑性的基板表面，因此需要高精度地对玻璃基板表面进行研磨。作为现有的方法，关于研磨，例如在专利文献1中公开了一种专利技术，在利用含有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种玻璃基板的研磨方法，其利用含有氧化铈作为研磨磨粒的研磨液对玻璃基板的表面进行研磨处理，其特征在于，所述研磨液含有无机还原剂，并且为碱性。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.05.20 JP 2015-1027861.一种玻璃基板的研磨方法，其利用含有氧化铈作为研磨磨粒的研磨液对玻璃基板的表面进行研磨处理，其特征在于，所述研磨液含有无机还原剂，并且为碱性。2.如权利要求1所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述无机还原剂为选自与碱金属或碱土金属的硫代硫酸盐、次膦酸盐、连二亚硫酸盐、或亚硫酸盐中的至少一种。3.如权利要求1或2所述的玻璃基板的研磨方法，其特征在于，所述研磨液的pH在8～12的范围内。4.如权利要求1～3中任一项所述的玻...

【专利技术属性】
技术研发人员：中川裕树，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP