用于制造偏光膜的方法和系统技术方案

一种用于制造偏光膜的系统，包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包含一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过该处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。以控制槽液中碘离子含量。

【技术实现步骤摘要】
用于制造偏光膜的方法和系统
本专利技术是关于制造方法和系统。本专利技术特别是关于用于制造偏光膜的方法和系统。
技术介绍
偏光板为一种广泛应用于液晶显示器的光学组件。随着液晶显示器的发展，对于液晶显示器连带着其中的组件的质量要求越来越高。偏光板通常是藉由在偏光膜上贴合保护膜而形成。其中，偏光膜可借由使可挠性的偏光膜前驱物通过多个处理设备而得。处理设备例如是处理槽，其中的槽液条件会对偏光膜的质量产生影响，因此，须以适当的方式将槽液的变化控制在一定范围内。举例来说，一般会针对需要的处理槽投入各种平衡用的药剂，并且定时更换槽液。现有的技术主要使用投入剂来控制槽液，然而会造成投入剂成本及更换槽液之人力及成本问题，尽管可使用投入剂并配合槽液更换来控制槽液的变化，但仍希望可以减少投入剂的使用以免其在过量的情况下也可能对槽液产生影响，另外也希望延长更换槽液的时间以减少人力消耗和降低成本增加。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提出一种用于制造偏光膜的方法和系统，以减少现有技术相关投入剂的使用、和/或延长槽液更换的时间。根据一些实施方案，本专利技术提供一种用于制造偏光膜的系统。该系统包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包含一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过该处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。根据一些实施方案，本专利技术提供一种用于制造偏光膜的系统。该系统包括多个处理设备。处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备包括一处理槽。该系统更包括一外部桶槽，与处理槽连通。外部桶槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得槽液所处的照光环境在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。根据一些实施方案，本专利技术提供一种用于制造偏光膜的方法。该方法包括使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜。该些处理设备包括一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子。该方法更包括控制该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或使槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。为了对本专利技术的上述及其他方面有更佳的了解，下文特举实施例方案和实施例，并配合所附图式详细说明如下：附图说明图1为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的一部分的示意图。图2为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的一部分的示意图。图3为一用于实施例和比较例的实验配置的示意图。图4为另一用于实施例和比较例的实验配置的示意图。其中，附图标记：10：偏光膜前驱物10’：偏光膜21：膨润槽22：染色槽23：交联槽24：补色槽25：洗净槽26：干燥炉30：处理空间31：辊32：光源33：气氛控制设备34：气体通入口35：气体排出口40：外部桶槽43：气氛控制设备44：气体通入口45：气体排出口132：光源141：容器142：样品232：光源233：塞子234：管子235：管子241：容器242：样品d1：距离d2：距离d3：距离P1：控制气压P2：环境气压V1：第一体积V2：第二体积具体实施方式以下将配合所附图式对于根据实施方案的系统和方法进行详细说明，以提供对于根据实施方案的系统和方法更进清楚的理解。可以明白的是，所附图式与其相关的说明只是作为列举解释用途，并非用于限制本专利技术。此外可以预期的是，一实施方案或实施例中的组件、条件和特征，能够被有利地纳入于另一实施方案或实施例中，然而并未对此作进一步的列举。根据实施方案的一种用于制造偏光膜的系统，包括多个处理设备。该些处理设备用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜。该些处理设备中包含至少一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有的某些离子在槽液中易发生自发性氧化还原反应，而产生会对所形成的偏光膜的质量造成负面影响的产物。举例来说，某些处理槽中的碘离子(I-)，例如交联槽和/或补色槽中的碘离子，即会自发性地氧化成碘分子(I2)，其会对于制造出来的偏光膜的质量造成负面影响，例如是对偏光膜的光学性质造成影响。根据实施方案，这样的至少一处理槽的槽液位于一照光环境和一气氛环境的至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。举例来说，这样的环境控制甚至可以只在例如停止系统(比如为了维护或更换槽液)时停止。在一些实施方案中，除了必须对处理槽进行监控或人工处理等需要光源的情况下，该处理槽可不被光照射，处于黑暗中。在一些实施方案中，照光环境系在波长550nm～780nm的光之中。在一些实施方案中，非氧化性气氛为氮气气氛和/或惰性气体气氛。根据一些实施方案，非氧化气氛通入处理槽的通气量可为5L/min～100L/min，较佳地为5L/min～10L/min。气氛环境的一控制气压可大于系统在该处理槽以外的部份的一环境气压。举例来说，该控制气压和该环境气压的压差可为1Pa(帕)～30Pa。在一些实施方案中，处理槽中的气氛环境具有一第一体积，处理槽中的槽液具有一第二体积，第一体积除以第二体积的比例可介于0.01和0.5之间，较佳地介于0.01和0.05之间。在一些实施方案中，可在该处理槽中配合使用一还原剂。还原剂可为重量百分比为10％的水溶液。还原剂通入槽液的流量可为0.1L/min～1L/min。与其对应，根据实施方案的一种用于制造偏光膜的方法，包括使一偏光膜前驱物通过多个处理设备，以形成一偏光膜。该些处理设备中包含至少一处理槽，处理槽中具有一槽液，该槽液中含有前述自发性反应的离子，例如碘离子。根据实施方案，该方法更包括控制该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得偏光膜前驱物在通过处理槽时，槽液所处的照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或使槽液所处的气氛环境为非氧化性气氛。举例来说，这样的环境控制甚至可以只在例如停止系统(比如为了维护或更换槽液)时停止。在一些实施方案中，除了必须对该处理槽进行监控或人工处理等需要光源的情况下，可尽可能地减少该处理槽被光照射的时间，甚至令其在使用时处于黑暗中。在一些实施方案中，在偏光膜前驱物通过该处理槽时，使该槽液接受波长为550nm～780nm的光照射。在一些实施方案中，在偏光膜前驱物通过该处理槽时，使槽液处于氮气气氛和/或惰性气体气氛下。可使非氧化性气氛的一控制气压大于系统在该处理槽以外的部份的一环境气压。举例来说，该控制气压和该环境气压的压差可为1Pa～30Pa。在一些实施方案中，可定时监控该处理槽的槽液中的碘离子含量，在碘离子含量等于大于0.5mM时，将一还原剂投入槽液中或更换槽液。请参照图1，其为根据实施方案的一用于制造偏光膜的系统的示意图。除了前述提及的染色槽和交联槽外，图1还示出其他用于制造偏光膜的处理设备。具体来说，在图1中，系统的处理设备被绘示成包括一膨润槽21、一染色槽22、一交联槽23、一补色槽24、一洗净槽25、以及本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜；其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的该照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或该槽液所处的该气氛环境为非氧化性气氛。

【技术特征摘要】
2017.08.16 TW 1061278201.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜；其中，该些处理设备包含一处理槽，该处理槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得该偏光膜前驱物在通过该处理槽时，该槽液所处的该照光环境系在波长不小于等于430nm的光之中，且/或该槽液所处的该气氛环境为非氧化性气氛。2.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：多个处理设备，用于对一偏光膜前驱物进行处理，以形成一偏光膜，该些处理设备包括一处理槽；以及一外部桶槽，与该处理槽连通，该外部桶槽中具有一槽液，该槽液中含有碘离子，该槽液位于一照光环境和一气氛环境至少一者中，使得该槽液所处的该照光环境在波长不小于等于430nm的光之中，且/或该槽液所处的该气氛环境为非氧化性气氛。3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，该照光环境系在波长550nm～780nm的光之中。4.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，该非氧化性气氛为氮气气氛和/或惰性气体气氛，且/或该非氧化气氛的通气量为5L/min～100L/min。5.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，该气氛环境的一控制气压大于一环境气压。6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，该控制气压和该环境气压的压差为1Pa～30Pa。7.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，包括一或更多个光源，该光源发出波长为550nm～780nm的光以制造该照光环境，且/或该光源的照度为150～1000流明，且/或该一或更多个光源的数量为20～60个，且/或该光源距离该槽液的垂直高度为2～10米。8.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，该气氛环境具有一第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐维廷，郭建生，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71