【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种光学膜缺陷检测系统及应用其的光学膜缺陷检测方法。
技术介绍
1、偏光板生产过程中，当检测出瑕疵时，会利用墨水在偏光板的缺陷或瑕疵位置上进行标记，以便于后续裁切人员及检品人员分辨瑕疵位置，以做适当处理。因此检验正确率的提升亦可以改善产品生产效率。
技术实现思路
1、因此，本专利技术提出一种光学膜缺陷检测系统及应用其的光学膜缺陷检测方法，可改善前述习知问题。
2、本专利技术一实施例提出一种光学膜缺陷检测系统。光学膜缺陷检测系统包括一影像分析模块、一尺寸计算模块、一膜厚量测模块及一控制模块。影像分析模块用于撷取一光学膜的一光学膜影像。尺寸计算模块用于分析光学膜影像，以取得一待检缺陷的一待检缺陷尺寸。膜厚量测模块用于量测光学膜中对应待检缺陷的一待检缺陷位置的一待检缺陷光学膜厚度。控制模块用于依据待检缺陷尺寸及待检缺陷光学膜厚度，判断待检缺陷为一真缺陷或一假缺陷。
3、本专利技术另一实施例提出一种光学膜缺陷检测方法。光学膜缺陷检测方法包括以下步骤：撷取一光学膜的一光学膜影像；分析光学膜影像，以取得一待检缺陷的一待检缺陷尺寸；量测光学膜中对应待检缺陷的一待检缺陷位置的一待检缺陷光学膜厚度；以及，依据待检缺陷尺寸及待检缺陷光学膜厚度，判断待检缺陷为一真缺陷或一假缺陷。
【技术保护点】
1.一种光学膜缺陷检测系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该待检缺陷尺寸包括内径、外径、边长、周长、面积和/或体积。
3.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
4.如权利要求3所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
5.如权利要求4所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制器模块用于：
6.如权利要求5所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
7.如权利要求6所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制器模块用于：
8.如权利要求7中所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该第一膜厚范围小于210μm，和/或该第二膜厚范围介于210μm至230μm，和/或该第三膜厚范围大于230μm，和/或该第一尺寸范围介于33μm至66μm，和/或该第二尺寸范围介于66μm至99μm，和/或该第三尺寸范围大于99μm。
9.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，还包括：
<...【技术特征摘要】
1.一种光学膜缺陷检测系统，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该待检缺陷尺寸包括内径、外径、边长、周长、面积和/或体积。
3.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
4.如权利要求3所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
5.如权利要求4所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制器模块用于：
6.如权利要求5所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还用于：
7.如权利要求6所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制器模块用于：
8.如权利要求7中所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该第一膜厚范围小于210μm，和/或该第二膜厚范围介于210μm至230μm，和/或该第三膜厚范围大于230μm，和/或该第一尺寸范围介于33μm至66μm，和/或该第二尺寸范围介于66μm至99μm，和/或该第三尺寸范围大于99μm。
9.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，还包括：
10.如权利要求1所述的光学膜缺陷检测系统，其特征在于，该控制模块还...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴精文，林宽宏，陈重宇，
申请(专利权)人：住华科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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