一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法；该偏光片包括从上到下依次贴合的离型膜、第一内保护膜、PVA膜、第二内保护膜、第一外保护膜；制备该偏光片包括以下步骤：PVA膜通过PVA胶水与第一内保护膜、第二内保护膜进行贴合；再将第二内保护膜与第一外保护膜贴合；最后将离型膜与第一内保护膜通过压敏胶贴合；第一内保护膜选择透湿性低、光学透过率佳的光学膜材，同时又兼具IPS补偿功能，从而实现高耐久性减薄的目的。

High durability thin IPS polarizer and preparation method thereof

The invention relates to a high durability of thin IPS polarizer and a preparation method thereof; the polarizer comprises from top to bottom. From the film, the first protective film, PVA film, second in the first protective film, protective film; preparation of the polarizer comprises the following steps: PVA film by PVA the first internal glue and protective film, protective film second are attached; then in second with the first protective film protective film laminating; finally release film and protective film first through adhesive bonding; the first protective film, optical low permeability selection through the optical membrane. At the same time, both IPS the compensation function, so as to achieve the purpose of high durability thinning.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法。
技术介绍
近年来，随着智能手机、平板电脑等移动产品的普及，人们对移动显示产品的轻薄化、高性能等产生强烈需求。偏光片作为液晶显示屏的起偏和检偏原件，是液晶显示屏设备不可或缺的关键原材料之一。最新高端IPS偏光片具有全视角、无按压残影等优点，广泛应用于手机、平板电脑等移动显示设备的主流显示屏。目前市场上针对减薄IPS偏光片的主要做法是减薄PVA膜、TAC膜等膜材的厚度。但此种做法对工艺的控制要求比较严格，同时也易产生其他的缺陷，比如TAC膜减薄在皂化处理过程易断膜或折皱，同时也容易出现偏光片的翘曲和窝边问题，PVA膜减薄会在PVA膜拉伸过程中出现影响表观的缺陷。IPS显示虽然其本身就是补偿视角的设计，但在高端产品应用之中仍需使用相位差接近零的材料来进行视角的修正，现有补偿膜的材质包括TAC、PC、COP、PET、PMMA等，除了TAC外其他材料经过皂化或电晕处理后仍无法实现与PVA膜有效贴合，只能先用TAC膜与PVA膜贴合后，在TAC膜的外侧通过压敏胶再与补偿膜进行贴合，在一定程度上增加了产品的厚度。另外，选择TAC材质的补偿膜，虽然能解决贴合问题，但因其透湿性高，产品的耐久性无法达到高耐久的要求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法。本专利技术提供的技术方案为：一种高耐久性薄型化IPS偏光片，包括上到下依次贴合的离型膜、第一内保护膜、PVA膜、第二内保护膜、第一外保护膜。所述第一内保护膜为低透湿性、高光学透过率的光学膜材，如PC、COP、PET、PMMA，优选PC膜。所述第一内保护膜具有IPS补偿功能。本专利技术的另一目的是提供一种高耐久性薄型化IPS偏光片的制备方法，其是这样实现的：一种高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，该方法包括以下步骤：步骤A.对第一内保护膜进行亲水处理，所述亲水处理主要系在所述第一内保护膜上涂布亲水涂层，烘干；步骤B.将PVA膜与第二内保护膜、经步骤A处理的第一内保护膜的涂层侧通过PVA胶水粘合，得原光片；步骤C.将构成所述原光片的第二内保护膜与第一外保护膜贴合，得偏光片半成品；步骤D.将构成所述偏光片半成品的第一内保护膜与离型膜通过压敏胶贴合，得高耐久性薄型化IPS偏光片。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A中所述亲水涂层的制备方法包括以下步骤：步骤A1.用水稀释亲水涂层本体，得亲水涂层母液；步骤A2.向所述亲水涂层母液中加入助剂，得亲水涂层溶液。步骤A3.对所述亲水涂层溶液进行充分搅拌后过滤。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数5-10%的硅烷偶联剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数5-10%的固化剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2%的消泡剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2%的破泡剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2%的流平剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.4-0.6%的润湿剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.8%-1.2%的增稠剂。本专利技术的进一步技术方案是：步骤A2中的助剂包括占亲水涂层溶液质量分数0.1%的托泡剂。本专利技术的进一步技术方案是：所述亲水涂层本体为水性聚氨酯。它是一种高分子材料。亲水涂层母液是指将聚氨基甲酸酯溶解在水中得到的液体，它是以水代替有机溶剂作为分散介质的新型聚氨酯体系，也称水分散聚氨酯、水系聚氨酯或水基聚氨酯。使用时将聚氨基甲酸酯溶解在水中，充分搅拌混合均匀，得到亲水涂层母液，在这里也就是聚氨酯溶液。本专利技术的进一步技术方案是：所述步骤A中对所述第一内保护膜进行亲水处理前，对所述第一内保护膜膜进行表面电晕或涂抹表面处理剂，可以使所述第一内保护膜和亲水涂层的结合更好。本专利技术的有益效果是：在现有成熟的PVA胶水技术前提下，通过将低透湿性膜材进行亲水涂层处理，实现了与PVA膜的直接有效贴合，从而实现了高耐久性薄型化IPS偏光片。此方法优势主要有2点：1、减少一层膜材，起到了薄型化的作用，同时减少了一道生产工序，节约了时间、人工等生产成本；2、PC膜的透水性远小于TAC膜，因而在高温高湿环境下对PVA膜保护更好，更能防止PVA膜中碘的挥发，所以耐久性更佳。具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术提供的高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法做进一步说明。以下具体实施例是本高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法专利技术的一种实现方式。实施例1第一步，配制亲水涂层溶液。用水稀释聚氨基甲酸酯，得亲水涂层母液；向亲水涂层母液中加入助剂，得亲水涂层溶液。所述助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.1%的流平剂、0.4%的润湿剂、0.8%的增稠剂。由于亲水涂层溶液中的气泡会造成偏光片上涂层的点缺陷，这种点缺陷甚至是肉眼可见的。所以分别加入占所述亲水涂层溶液质量分数为0.1%的消泡剂、托泡剂和破泡剂。为了增加所述亲水涂层溶液的附着力，再添加占所述亲水涂层溶液质量分数5%的硅烷偶联剂和5%的固化剂。添加完所有的助剂后，充分搅拌，然后将亲水涂层溶液用1微米的过滤芯过滤。第二步，对PC膜进行电晕处理，电晕处理后5小时内对PC膜进行亲水涂层涂布。涂布采取微凹的方式，涂布完后，烘干收卷待用。涂层厚度控制在4-7微米。第三步，经过处理后的卷状PC膜以45°的角度裁切成一张张平行四边形，切割边做好标记，再用透明胶带将一张张平行四边形的PC膜的非切割边连接起来并收卷，形成连续的卷状PC膜，新PC膜和之前的PC膜角度相差45度。第四步，将PVA膜、第二内保护膜和经亲水涂层处理和裁切连接后PC膜三者通过PVA胶水粘合，从而制得原光片，原光片烘干条件为70℃，3分钟，第二内保护膜为TAC膜。第五步，将原光片第二内保护膜外侧和第一外保护膜直接贴合,制得偏光片半成品，第一外保护膜为PET防静电膜。第六步，将第五步制得的偏光片半成品第一内保护膜侧通过压敏胶与剥离膜相粘合就得到高耐久性薄型化IPS偏光片。第七步，将制得的高耐久性薄型化IPS偏光片放置在25℃环境下，熟化4-5天。实施例2第一步，配制亲水涂层溶液。步骤同实施例1，但加入的助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.2%的流平剂、0.6%的润湿剂、1%的增稠剂、0.2%的消泡剂、0.2%的破泡剂、10%的固化剂。不添加任何的托泡剂与硅烷偶联剂。添加完所有的助剂后，充分搅拌，然后将亲水涂层溶液采用2-3层的棉类或滤纸过滤。第二步，对PC膜表面涂布表面处理剂，表面处理剂选择免电晕表面处理剂或PET膜附促剂。涂布处理剂后，在其上层再进行涂布亲水涂层溶液。选用刮涂的方式，干胶厚度控制在10-12微米。第三步，同实施例1的第三步。第四步，同实施例1的第四步，但PVA胶水烘干温度为90℃，2分钟。第五步，同实施例1的第五步。第六步，同实施例1的第六步。第七步，同实施例1的第七步。但熟化温度为50℃，熟化时间为1天。实施例3第一步，配制亲水涂层溶液。步骤同实施例1，但加入的助本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高耐久性薄型化IPS偏光片，其特征在于：包括上到下依次贴合的离型膜、第一内保护膜、PVA膜、第二内保护膜、第一外保护膜。

【技术特征摘要】
1.一种高耐久性薄型化IPS偏光片，其特征在于：包括上到下依次贴合的离型膜、第一内保护膜、PVA膜、第二内保护膜、第一外保护膜。2.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片，其特征在于：所述第一内保护膜为PC、COP、PET、PMMA膜中的一种。3.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片，其特征在于：所述第一内保护膜具有IPS补偿功能。4.一种高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：步骤A.对第一内保护膜进行亲水处理，所述亲水处理主要系在所述第一内保护膜上涂布亲水涂层，烘干；步骤B.将PVA膜与第二内保护膜、经步骤A处理的第一内保护膜的涂层侧通过PVA胶水粘合，得原光片；步骤C.将构成所述原光片的第二内保护膜与第一外保护膜贴合，得偏光片半成品；步骤D.将构成所述偏光片半成品的第一内保护膜与离型膜通过压敏胶贴合，得高耐久性薄型化IPS偏光片。5.根据权利要求4所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A中所述亲水涂层的制备方法包括以下步骤：步骤A1.用水稀释亲水涂层本体，得亲水涂层母液；步骤A2.向所述亲水涂层母液中加入助剂，得亲水涂层溶液；步骤A3.对所述亲水涂层溶液进行充分搅拌后过滤。6.根据权利要求5所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A2中的助剂包括占所述亲水涂层溶液...

【专利技术属性】
技术研发人员：姜富方，钱琨，陈敏，罗子安，
申请(专利权)人：深圳市盛波光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44