清洗箱及清洗箱内壁的清洗方法技术
Cleaning method of the inner wall of the cleaning box and the cleaning box
The invention relates to the technical field of semiconductor manufacturing, in particular to a cleaning method for the inner wall of a cleaning box and a cleaning box. The cleaning box comprises a box body, the inner wall of the box body is provided with a fluid passage, cleaning liquid to the outflow of the fluid channel, the inner surface is coated on the inner wall; the inner wall of the box also includes an interlayer, wherein the interlayer is provided with at least one ultrasonic transducer, for launch ultrasonic wave; the ultrasonic effect on the cleaning liquid to achieve the cleaning of the wall. The invention realizes automatic cleaning of the inner wall of the cleaning box, prevents crystallization from being generated in the inner wall of the cleaning box, saves human resources, and improves the cleaning efficiency of the cleaning box.
【技术实现步骤摘要】
清洗箱及清洗箱内壁的清洗方法
本专利技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种清洗箱及清洗箱内壁的清洗方法。
技术介绍
随着集成电路制造技术的飞速发展，集成电路的特征尺寸不断减小，在一片半导体晶圆上，半导体器件的数量不断增加。为了满足半导体器件数量增多的要求，在一片半导体晶圆上往往包括多层结构的半导体器件，而相邻层的半导体器件通过金属互连结构实现电连接，从而在特定面积的晶圆上增加半导体器件数量，提高半导体器件的集成度。然而，随着集成电路的结构越来越复杂，为了确保集成电路的性能，对晶圆的要求也越来越高。由于晶圆表面存在的污染物会对晶圆的性能产生严重的影响，因此，在半导体制造工艺中，需要进行多次晶圆清洁步骤。一般来说，在对晶圆进行清洁时，会将晶圆置于清洗箱中，将清洁液(例如水或化学清洁剂)喷洒在晶圆表面后，采用清洁刷对晶圆表面进行刷洗。附图1是现有技术中清洗箱中的清洁刷对晶圆进行清洁时的结构示意图。具体来说，如图1所示，待清洗的晶圆11垂直放入清洗箱的箱体内部，由两个圆形滚轮和一个带沟槽的从动轮支撑所述晶圆11并带动晶圆转动。位于晶圆相对两侧的喷雾杆12喷洒清洗液到所述...
【技术保护点】
一种清洗箱，包括箱体，其特征在于，所述箱体的内壁设置有一流体通道，清洗液能够经所述流体通道流出，以覆盖于所述内壁的内表面；所述箱体的内壁还包括一夹层，所述夹层内设置有至少一超声波换能器，用于发射超声波；所述超声波作用于所述清洗液以实现对所述内壁的清洗。
【技术特征摘要】
1.一种清洗箱，包括箱体，其特征在于，所述箱体的内壁设置有一流体通道，清洗液能够经所述流体通道流出，以覆盖于所述内壁的内表面；所述箱体的内壁还包括一夹层，所述夹层内设置有至少一超声波换能器，用于发射超声波；所述超声波作用于所述清洗液以实现对所述内壁的清洗。2.根据权利要求1所述的清洗箱，其特征在于，至少一所述超声波换能器包括多个超声波换能器，多个所述超声波换能器关于所述箱体的轴向对称分布。3.根据权利要求1所述的清洗箱，其特征在于，所述流体通道设置于所述内壁的顶部。4.根据权利要求1所述的清洗箱，其特征在于，所述流体通道呈管状，且环绕所述内壁设置。5.根据权利要求1所述的清洗箱，其特征在于，所述清洗液为水。6.一种清洗箱内壁的清洗方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一清洗...
【专利技术属性】
技术研发人员：王海宽，林宗贤，吴龙江，郭松辉，吕新强，
申请(专利权)人：德淮半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32
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