一种新型水洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及硅片清洗领域，公开了一种新型水洗装置。所述水洗装置包括水洗槽和提拉组件；所述提拉组件包括花篮固定板、升降杆和用于控制升降杆上升和下降的线性模组；所述升降杆包括X轴方向的第一支杆和Y轴方向的第二支杆，所述第二支杆一端与所述线性模组连接另一端与所述第一支杆垂直连接，所述第第一支杆用于安装所述花篮固定板，所述花篮固定板放置在所述水洗槽内。本实用新型专利技术解决了产品清洗时上下清洗不均匀的问题，使清洗更加完全、彻底，提高了产品的成品率，实现了较好的清洗效果，该装置结构简单，操作方便，便于维护，能够实现模块化生产，降低了制作成本。

A new type of water washing device

The utility model relates to the field of silicon wafer cleaning, and a new type of water washing device is disclosed. The washing device comprises a washing tank and the pulling component; the pull basket assembly includes a fixed plate, a lifting rod and a lifting rod module is used to control the linear rise and fall; the lifting rod comprises a X axis and Y axis direction of the first supporting rod second supporting rod, the supporting rod and the end of second linear module and the other end is connected with the first supporting rod is vertically connected, wherein the first support rod for mounting the basket fixed plate, the fixed plate basket is placed in the water tank. On the uneven cleaning problem is solved by the utility model products when cleaning, cleaning more completely and thoroughly, improve the rate of finished products, to achieve better cleaning effect, the device has the advantages of simple structure, convenient operation, convenient maintenance, can realize the modular production, reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种新型水洗装置
本技术涉及硅片清洗领域，公开了一种新型水洗装置。
技术介绍
近年来，太阳能产业不断发展，使光伏发电的应用日益普及并迅猛发展，逐渐成为电力供应的重要来源。太阳能电池根据所用材料的不同分为硅太阳能电池、多元化合物薄膜太阳能电池、聚合物多层修饰电极型太阳能电池、纳米晶太阳能电池、有机太阳能电池，其中硅太阳能电池是目前发展最成熟的，在应用中居主导地位。太阳能硅片在经过切片、倒角、研磨、抛光等加工过程中，表面会受到不同程度的污染，比如颗粒、金属及有机物。颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。金属污染包括重金属金、铜、铁、铬等，它们在硅片上主要以共价键、范德华引力和电子转移等三种形式存在，这种污染会破坏极薄的氧化层的完整性，增加漏电流密度，结果导致形成微结构缺陷或雾状缺陷。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。如果没有处理好这些污染的话，器件性能会受到很大程度的影响。因此，硅片在进行扩散工序前需要清洗，消除各类污染物，硅片清洗的洁净程度直接影响着太阳能电池的成品率、性能和可靠性。现在人们已研制出了很多种可用于硅片清洗的工艺方法和技术，常见的有：化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。这些方法和技术广泛应用于硅片加工和器件制造中的硅片清洗。现有的硅片清洗装置在清洗过程中不能上下均匀清洗硅片，导致硅片表面有大量的药液残留，清洗效果不佳，而且清洗装置结构复杂，难以实现标准化生产，不易维护。鉴于上述现有技术的缺陷，需要提供一种能够均匀清洗硅片，且结构简单，维护方便，并能进行模块化生产的清新装置。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有技术中硅片清洗不均匀，清洗装置结构复杂，维护困难，难以实现模块化生产的问题。为解决上述技术问题，本技术公开了一种新型清洗装置。所述水洗装置包括水洗槽和提拉组件；所述提拉组件包括花篮固定板、升降杆和用于控制升降杆上升和下降的线性模组；所述升降杆包括X轴方向的第一支杆和Y轴方向的第二支杆，所述第二支杆一端与所述线性模组连接另一端与所述第一支杆垂直连接，所述第第一支杆用于安装所述花篮固定板，所述花篮固定板放置在所述水洗槽内。进一步的，所述水洗槽包括用于注水的进水口和用于排水的出水口，所述进水口设置在所述水洗槽的一块侧板上，且靠近侧板上部，所述出水口设置在所述水洗槽的底部，并伸出所述水洗槽。进一步的，所述水洗槽还包括用于加热水温的加热器、用于控制水洗槽内水位的液位计和用于监测水洗槽内水温的温度传感器。优选的，所述液位计为一个或多个，所述多个液位计用于实现水洗槽内水的多液位控制。优选的，所述加热器至少为一个。具体的，所述升降杆为两根，通过连接板与所述线性模组连接。具体的，所述升降杆对称设置在所述线性模组的两侧。进一步的，所述花篮固定板为两块，分别设置在所述升降杆的第一支杆的两端。优选的，所述花篮固定板至少一块板与所述升降杆的第一支杆可拆卸连接。采用上述技术方案，本技术所述的新型清洗装置具有如下有益效果：1)本技术所述的水洗装置包括水洗槽和提拉组件两部分，将硅片放置在提拉组件上，实现清洗装置静、硅片动的结合，区别于传统清洗装置的硅片静的清洗方式，能够均匀清洗硅片；2)本技术中，所述提拉组件上的花篮固定板，至少有一块板是可拆卸的固定在所述提拉组件上的升降杆上的，花篮固定板可以根据放置硅片的装置的尺寸拆卸后再固定，实现不同情况下的硅片的清洗；3)本技术可以实现清洗装置的模块化生产，即水洗槽和提拉组件相互独立，并最终相互配合完成清洗工作，简化了装置的结构，降低了生产成本。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术所述的水洗槽的正视图；图2是本技术所述的水洗槽的侧视图；图3是本技术所述的水洗槽的后视图；图4是本技术所述的水洗槽的俯视图；图5是本技术所述的水洗槽的立体图；图6是本技术所述的提拉组件的正视图；图7是本技术所述的提拉组件的侧视图；图8是本技术所述的提拉组件的立体图；图9是本技术所述的水洗装置的正视图；图10是本技术所述的水洗装置的侧视图。图中，1-水洗槽，110-进水口，120-出水口，130-加热器，140-液位计，150-温度传感器，2-提拉组件，210-线性模组，220-升降杆，2210-第二支杆，2220-第一支杆，230-花篮固定板，3-连接板。具体实施方式为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本技术保护的范围。此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本技术至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“一端”、“另一端”、“底”、等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。本技术涉及硅片清洗领域，公开了一种新型水洗装置。具体实施例：实施例1：参阅图1至图10所示，所述水洗装置包括水洗槽1和慢提拉组件2；所述慢提拉组件2包括花篮固定板230、升降杆220和用于控制升降杆220上升和下降的线性模组210；所述升降杆220包括X轴方向的第一支杆2220和Y轴方向的第二支杆2210，所述第二支杆2210一端与所述线性模组210连接另一端与所述第一支杆2220垂直连接，所述第第一支杆2220用于安装所述花篮固定板230，所述花篮固定板230放置在所述水洗槽1内。参阅图1-图5所示，所述水洗槽1包括用于注水的进水口110和用于排水的出水口120，所述进水口110设置在所述水洗槽1的一块侧板上，且靠近侧板上部。所述水洗槽1上还设置有进水孔，所述进水口110与所述进水孔相通，注水过程中，待注入的水先流过进水口110后经过进水孔，流经进水孔将外部的水注入到水洗槽1内。所述出水口设置在所述水洗槽1的底部，并伸出所述水洗槽1，用于将清洗硅片过后的废水排出洗水槽1，便于再次注入清水，对硅片进行清洗。进一步的，所述水洗槽1还包括用于加热水温的加热器130、用于控制水洗槽1内水位的液位计140和用于监测水洗槽1内水温的温度传感器150。所述加热器130的个数为一个，用于加热洗水槽1中的温度，当洗水槽1中的温度达到所需的温度后，由温度传感器150检测水温，并传输信号，加热器130暂停工作。所述液位计140用于监测注入水洗槽1中的水的液位，所述液位计140为一个，当注入水洗槽1内水达到所需的液位时，外部的水暂停注入。参阅图6至图8所示，所述慢本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型水洗装置，其特征在于：所述水洗装置包括水洗槽(1)和提拉组件(2)；所述提拉组件(2)包括花篮固定板(230)、升降杆(220)和用于控制升降杆(220)上升和下降的线性模组(210)；所述升降杆(220)包括X轴方向的第一支杆(2220)和Y轴方向的第二支杆(2210)，所述第二支杆(2210)一端与所述线性模组(210)连接另一端与所述第一支杆(2220)垂直连接，所述第一支杆(2220)用于安装所述花篮固定板(230)，所述花篮固定板(230)放置在所述水洗槽(1)内。

【技术特征摘要】
1.一种新型水洗装置，其特征在于：所述水洗装置包括水洗槽(1)和提拉组件(2)；所述提拉组件(2)包括花篮固定板(230)、升降杆(220)和用于控制升降杆(220)上升和下降的线性模组(210)；所述升降杆(220)包括X轴方向的第一支杆(2220)和Y轴方向的第二支杆(2210)，所述第二支杆(2210)一端与所述线性模组(210)连接另一端与所述第一支杆(2220)垂直连接，所述第一支杆(2220)用于安装所述花篮固定板(230)，所述花篮固定板(230)放置在所述水洗槽(1)内。2.根据权利要求1所述的水洗装置，其特征在于：所述水洗槽(1)包括用于注水的进水口(110)和用于排水的出水口(120)，所述进水口(110)设置在所述水洗槽(1)的一块侧板上，且靠近侧板上部，所述出水口(120)设置在所述水洗槽(1)的底部，并伸出所述水洗槽(1)。3.根据权利要求1或2所述的水洗装置，其特征在于：所述水洗槽(1)还...

【专利技术属性】
技术研发人员：张淋，韩方亚，田晓东，
申请(专利权)人：苏州宝馨科技实业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32