一种器件膜层处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种器件膜层处理装置，该器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括：至少一个调温板，用于加热或冷却，调温板上设有至少一个真空吸附孔；至少一个承载机构，设置于调温板上，与真空吸附孔同侧，同一调温板上的一个或多个承载机构用以承载基板，基板表面形成有湿膜或膜层；至少一个驱动机构，用于驱动承载机构相对于调温板移动，以调整基板与调温板间的距离，多个腔室中至少包括一个真空腔室。对器件膜层或湿膜进行干燥或冷却时，将基板置于承载机构上，可以通过驱动机构驱动承载机构相对于调温板移动，来实现调整基板与调温板之间的距离，使得基板上的膜层进行渐进式干燥或冷却处理，使膜层厚度更加均匀，提高产品品质。

A device membrane processing device

The utility model discloses a device film processing device, the device of film processing device comprises a plurality of chambers, each chamber includes at least one temperature regulating plate for heating or cooling, temperature regulating plate is provided with at least one vacuum absorption holes; at least one bearing mechanism is arranged on the adjusting plate, and vacuum the adsorption holes of the same side, one or more of the same temperature bearing mechanism for bearing plate on the substrate, a wet film or a film formed on the surface of the substrate; at least one driving mechanism for driving the bearing mechanism relative to the regulating plate to move, to adjust the temperature adjusting plate substrate and the distance between the plurality of chambers including at least a vacuum chamber. The device layer or wet film drying or cooling, the substrate is placed on the bearing mechanism, through the drive mechanism to drive the bearing mechanism relative to the regulating plate to move, to achieve the adjustment between the substrate and the temperature in the distance, made the film on a substrate for gradual drying or cooling treatment, the thickness of the film is more uniform and improved products quality.

【技术实现步骤摘要】
一种器件膜层处理装置
本技术属于光电器件加工
，具体涉及一种器件膜层处理装置。
技术介绍
随着科技的发展，在各制造领域中，现代化的工艺和设备正逐渐取代手工和人力操作，这样提高了产能、产品良率，但同时设置空间、设备和材料的投入成本受到了影响，近些年，对工艺和设备的改进一直是热门的研究课题。在照明、显示或太阳能电池等领域，通常采用湿法成膜来制作的器件中的膜层，一般在设置湿膜之后，要对湿膜进行干燥、加热、冷却等处理，现有的湿膜处理设备通常功能单一，无法满足复杂的加工需要，并且制备后的膜层均匀性较差。现有技术中一般通过将两个功能设备进行整合，如将真空干燥和加热整合在一个装置中，来缩短两个工艺之间的处理时间，但仍无法有效解决膜层均匀性问题，并且上述装置每次只能处理一批湿膜，生产效率和利用率较低。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提供了一种器件膜层处理装置，对膜层或形成膜层前的湿膜进行渐进的干燥或冷却处理，并且使得膜层具有较好的均匀性。本技术的技术方案为：一种器件膜层处理装置，所述器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括：至少一个调温板，用于加热或冷却，所述调温板上设有至少一个真空吸附孔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种器件膜层处理装置，其特征在于，所述器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括：至少一个调温板(1)，用于加热或冷却，所述调温板(1)上设有至少一个真空吸附孔(11)；至少一个承载机构(2)，设置于调温板(1)上，与所述真空吸附孔(11)同侧，同一调温板(1)上的一个或多个承载机构(2)用以承载基板(3)，其中，所述基板(3)表面形成有湿膜或膜层；至少一个驱动机构，用于驱动一个或多个承载机构(2)相对于调温板(1)移动，以调整基板(3)与调温板(1)间的距离，其中，所述多个腔室中至少包括一个真空腔室。

【技术特征摘要】
1.一种器件膜层处理装置，其特征在于，所述器件膜层处理装置包括多个腔室，各腔室内部包括：至少一个调温板(1)，用于加热或冷却，所述调温板(1)上设有至少一个真空吸附孔(11)；至少一个承载机构(2)，设置于调温板(1)上，与所述真空吸附孔(11)同侧，同一调温板(1)上的一个或多个承载机构(2)用以承载基板(3)，其中，所述基板(3)表面形成有湿膜或膜层；至少一个驱动机构，用于驱动一个或多个承载机构(2)相对于调温板(1)移动，以调整基板(3)与调温板(1)间的距离，其中，所述多个腔室中至少包括一个真空腔室。2.如权利要求1所述的器件膜层处理装置，其特征在于，所述调温板(1)上开设有至少一个通孔(12)，所述承载机构(2)包括至少一个穿设于通孔(12)内的支撑件(21)，所述驱动机构设置于一个或多个通孔(12)底部，且与一个或多个承载机构(2)连接，用于驱动支撑件(21)穿入通孔(12)内或探出通孔(12)。3.如权利要求2所述的器件膜层处理装置，其特征在于，各所述支撑件(21)为等长且相互平行的支撑柱；所述驱动机构包括：驱动板(5)，与多个支撑柱的一端连接，用于控制多个支撑柱同步穿入通孔(12)或探出通孔(12)；驱动杆(6)，与驱动板(5)连接，用于控制驱动板(5)相对于调温板(1)运动。4.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：彭军军，
申请(专利权)人：纳晶科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33